触摸面板和触摸面板的制造方法_2

文档序号:9308531阅读:来源:国知局
电层布图时图案间的残渣。
【附图说明】
[0040]图1是表示带有实施方式的触摸面板的显示装置的构成的截面图。
[0041]图2是实施方式的触摸面板的透明导电层的图案。
[0042]图3是实施方式的触摸面板的透明导电层的图案。
[0043]图4是表示实施方式的触摸面板的构成的截面图。
[0044]图5是表不实施方式的触摸面板的构成的截面图。
[0045]图6是表示实施方式的触摸面板的构成的截面图。
[0046]图7是表示实施方式的触摸面板的构成的截面图。
[0047]图8是表示实施方式的触摸面板的制造过程的示意图。
[0048]图9是表示实施方式的触摸面板的制造过程的示意图。
[0049]图10是表示实施方式的触摸面板的制造过程的示意图。
[0050]图11是表示实施方式的触摸面板的制造过程的示意图。
[0051]图12是表示实施方式的触摸面板的制造过程的示意图。
[0052]图13是表示实施方式的触摸面板的构成的截面图。
[0053]图14是表示实施方式的触摸面板的构成的截面图。
【具体实施方式】
[0054]以下,对本发明的实施方式进行详细说明。
[0055]图1是表示带有触摸面板的显示装置的构成的截面图。图1所示的显示装置具备:IXD显示面板30、构成于IXD显示面板30的观察侧(前表面侧)上的触摸面板10、介由粘接剂层50层叠于触摸面板10的观察侧的面(前表面)上的前面板层40、及介于LCD显示面板30和触摸面板10之间的屏蔽层20。屏蔽层20可如图1所不地与触摸面板10分开,也可介由粘结剂等粘贴于触摸面板10上。另外,屏蔽层20也可包含在触摸面板10中。
[0056]图2是从一侧观察图1所示的触摸面板10的放大图。
[0057]本实施方式中,触摸面板10是利用在塑料膜(透明基材)的单面或两面上层叠有透明导电层13(导电层)的面板来制作的。塑料膜只要是在成膜工序和后续工序中具有充分的强度、表面平滑则无特别限定,可使用例如聚对苯二甲酸乙二酯膜、聚对苯二甲酸丁二酯膜、聚萘二甲酸乙二酯膜、聚碳酸酯膜、聚醚砜膜、聚砜膜、聚丙烯酸酯膜、聚酰亚胺膜等。这些基材中还可含有抗氧化剂、防静电剂、防紫外线剂、增塑剂、润滑剂、易粘接剂等添加剂,为了使密合性变得良好,也可实施电晕处理、低温等离子体处理。
[0058]另外,虽未图示出,但也可在塑料膜上设置UV树脂层。UV树脂层用于塑料膜的耐擦伤性或光学调整等。UV树脂层的材质只要具有透明性及适当的硬度和强度则无特别限定。优选选择折射率与塑料膜同等或近似的材质。另外,作为树脂层,不仅可使用UV固化树脂,还可使用热固化树脂等。
[0059]另外,虽未图示出,但也可在塑料膜上设置光学功能层。光学功能层通过利用透明导电材料的材质来调整折射率等,由此谋求b *或透射率提高。
[0060]作为光学功能层中使用的无机化合物,可列举出氧化物、硫化物、氟化物、氮化物等。具体而言,可使用氧化镁、二氧化娃、氟化镁、氟化铝、氧化钛、氧化错、硫化锌、氧化钽、氧化锌、氧化铟、氧化铌、氧化钽等。对于这些无机化合物,因折射率根据其材料和膜厚而不同,所以通过将与目的相符的材料以特定的膜厚形成,能调整光学特性。光学功能层并不限于I层,也可为多层,也可无光学功能层。
[0061]作为透明导电层13的材料(透明导电材料),可根据所需的薄膜电阻值或光学特性而选择氧化铟、氧化锌、氧化锡中的任一种、或它们的混合氧化物、进一步添加了其他添加剂的物质、碳纳米管或银纳米线等纳米系材料等,并无特别限制。
[0062]作为将透明导电层13层叠于塑料膜的方法,可使用旋涂法、辊涂法、棒涂法、浸涂法、凹版涂布法、帘式涂布法、模涂法、喷涂法、刮刀涂布法、捏和机涂布法等涂布法、丝网印刷法、喷雾印刷法、喷墨印刷法、凸版印刷法、凹版印刷法、平版印刷法等印刷法涂布等、或者溅射法等利用真空成膜的方法等,可根据使用的透明导电材料区分使用。
[0063]IXD显示面板30可采用如下的极为常用的IXD显示面板:其是通过配置有用于驱动液晶的开关元件且设有电极层的基板(阵列基板)与形成有相向的电极层的滤色器基板夹持液晶层而配置的结构,在阵列基板与滤色器基板上分别安装有偏振片。另外,LCD显示面板30的驱动方式并无特别限制,可使用IPS方式、TN方式、VA方式等的LCD显示器。
[0064]触摸面板10中,在一个面上形成有例如布图为菱形状的透明导电层13a,在另一面上形成有同样布图为菱形状的透明导电层13b,一个面上的透明导电层13a与另一面上的透明导电层13b是以彼此的菱形部分不重叠的方式配置。图3中示出表示该配置状态的触摸面板的放大图。透明导电层13的布图(形成菱形状图案的布图)中,进行例如抗蚀剂涂布、曝光、刻蚀、抗蚀剂剥离等工序,形成导电性图案部和非导电性图案部。作为布图方法,可使用光刻法、丝网印刷、采用激光的布图等任意方法。另外,抗蚀剂也可使用并非感光性而是通过干燥而发生固化的抗蚀剂。这时,将曝光工序替换为干燥工序。
[0065]图4表示本实施方式的触摸面板10的构成图。图4中,在透明基材11上层叠有用于从透明导电层13获取信号的配线12,在其上层叠有透明导电层13(导电层),在透明导电层13上层叠有保护层14。作为配线12的层叠方法,可使用丝网印刷、凹版胶印印刷或是采用光刻法的布图等。当想要减小配线12的膜厚等时,优选使用凹版胶印印刷。在层叠配线12之后,进行透明导电层13的层叠和透明导电层13的布图。布图方法只要为上文所述的方法则可为任一方法,使用者能选出最合适的方法,光刻法在图案的微细化方面来说尤其优选使用。这样,最先印刷配线12,在其上层叠透明导电层13,由此不会发生现有的方法即在透明电极的布图之后实施配线时所能想到的、因基材收缩等引起的透明电极的图案与配线的未对准。另外,通过在透明导电层13上层叠保护层14,可保护透明导电层13。保护层14例如是在透明导电层13的布图后形成。另外,根据保护层14与透明导电层13的材料的组合,有时也可以在透明导电层13上层叠有保护层14的状态下对透明导电层13进行刻蚀,而无论导电层13和保护层14为哪种材料,都能通过在对透明导电层13进行布图后层叠保护层14而使得能在短时间内进行刻蚀、或不会产生刻蚀残渣。
[0066]具体而言,保护层14优选以可期待三维交联的3官能以上的丙烯酸酯为主成分的单体或交联性低聚物那样的光固化性树脂。
[0067]作为3官能以上的丙烯酸酯单体,优选三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、异氰脲酸EO改性三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、二(三羟甲基丙烷)四丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯等。尤其优选为异氰脲酸EO改性三丙烯酸酯和聚酯丙烯酸酯。它们可单独使用,也可将两种以上并用。另外,还可以在除了这些3官能以上的丙烯酸酯之夕卜、并用环氧丙烯酸酯、氨基甲酸酯丙烯酸酯、多醇丙烯酸酯等所谓的丙烯酸系树脂。
[0068]作为交联性低聚物,优选聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯、聚氨酯(甲基)丙烯酸酯、环氧(甲基)丙烯酸酯、有机硅(甲基)丙烯酸酯等丙烯酸低聚物。具体而言有聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、双酚A型环氧丙烯酸酯、聚氨酯的二丙烯酸酯、甲酚酚醛清漆型环氧(甲基)丙烯酸酯等。
[0069]保护层14也可含有光聚合引发剂等添加剂。当添加光聚合引发剂时,作为自由基产生型光聚合引发剂,有苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻异丙基醚、苄基甲基缩酮等苯偶姻及其烷基醚类,苯乙酮、2,2- 二甲氧基-2-苯基苯乙酮、1-羟基环己基苯基酮等苯乙酮类,甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-戊基蒽醌等蒽醌类,噻吨酮、2,4- 二乙基噻吨酮、2,4-二异丙基噻吨酮等噻吨酮类,苯乙酮二甲基缩酮、苄基二甲基缩酮等缩酮类,二苯甲酮、4,4-双甲基氨基二苯甲酮等二苯甲酮类及偶氮化合物等。这些物质可单独使用或作为2种以上的混合物进行使用,进而还可以与三乙醇胺、甲基二乙醇胺等叔胺、2-二甲基氨基乙基苯甲酸、4-二甲基氨基苯甲酸乙酯等苯甲酸衍生物等光引发助剂等组合使用。
[0070]上述光聚合引发剂的添加量相对于主成分的树脂为0.1重量%以上且10重量%以下,优选为0.5重量%以上且5重量%以下。若低于下限值,则固化膜层的固化不充分,从而不优选。另外,当超过上限值时,由于会发生硬涂层的黄变或耐候性降低,因此不优选。用于使光固化型树脂固化的光是紫外线、电子束或γ射线等,为电子束或γ射线时,并非必须含有光聚合引发
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