水，通过水的动力可以开启循环泵3 ;接着是控制模块控制配液模块根据待清洗设备内物料的相关参数来配制清洗液，即由CIP液供给管道8流向待清洗设备，对其进行PW冲洗；其次是控制模块控制清洗模块利用配液模块配制的清洗液对待清洗设备进行再次冲洗，即配制CIP清洗液，根据被清洗设备及系统内的物料特性设定参数，开启循环泵3，由清洗罐2、酸罐13、碱罐14、换热器10、工业蒸汽管道9、清洗管路7、循环回路12组成一个循环管路，依据设定的参数进行CIP液配制；再次，由CIP液供给管道8流向待清洗设备及系统，对其进行冲洗；最后控制模块控制测量模块实时测量待清洗设备内清洗液的相关参数，接着控制模块控制判断模块根据测量模块测量的相关参数判断是否已将待清洗设备清洗干净，当判断设备判定待清洗设备已被清洗干净时，再对待清洗设备进行润洗。示例的，可以假设当电导率仪测量到待清洗设备内的电导率小于1 μ S (微西门子)/cm(厘米)时，判定待清洗设备已经清洗干净，也就是达到了预设的干净标准。然后，WFI由WFI管道4向清洗罐2注水，由CIP液供给管道18流向待清洗设备，对其进行润洗；最后，控制模块控制清扫模块吹扫排放清洗设备中残留的液体，即压缩空气由压缩空气管道18进入润洗罐5、清洗罐2、换热器10、清洗管路7进行吹扫排放。支架23为支撑模块。
[0034]需要说明的是，在清洗的过程中，测量模块中的温度传感器、流量计、pH计及电导率仪一直在不断地对应测量待清洗设备中清洗液的温度、流量、酸碱度及电导率。当测量模块测量到待清洗设备内的酸碱度不满足清洗要求需要添加酸碱液时，可以通过计量泵24来添加酸碱液，精确控制酸碱加入量，程序依据管路中的pH值来发出命令，控制计量泵是否添加酸碱；清洗时，回路的电导率是判断是否继续清洗的依据。
[0035]此外，第一实施方式和第二实施方式对应的CIP清洗工作站的实体结构都可以参考图4所示的CIP清洗工作站进行相应模块对应器件的增减得到。示例的，由于第一实施方式中的CIP清洗工作站包含清洗模块、配液模块及控制模块，所以就可以将图4中所示的测量模块、判断模块、清扫模块及支撑模块对应的器件去除掉。
[0036]本发明第四实施方式提供一种CIP清洁工作站清洗设备的方法，如图6所示，包括以下步骤:
[0037]601、开启控制模块。
[0038]602、控制模块控制清洗模块对待清洗设备进行冲洗。
[0039]603、控制模块控制配液模块根据待清洗设备内物料的相关参数来配制清洗液。
[0040]604、控制模块控制清洗模块利用配液模块配制的清洗液对待清洗设备进行再次冲洗。[0041 ] 本发明实施方式相对于现有技术而言，首先开启控制模块，在开启控制模块后，再自动的开启配液模块和清洗模块，配液模块就可以自动根据待清洗设备内物料的相关参数来配制清洗液；清洗模块就可以自动使用配液模块配制的清洗液来清洗待清洗设备，不用人工清洗，减轻了工人的工作压力。
[0042]不难发现，本实施方式为与第一实施方式相对应的系统实施例，本实施方式可与第一实施方式互相配合实施。第一实施方式中提到的相关技术细节在本实施方式中依然有效，为了减少重复，这里不再赘述。相应地，本实施方式中提到的相关技术细节也可应用在第一实施方式中。
[0043]本发明第五实施方式提供一种CIP清洗工作站清洗设备的方法，第五实施方式在第四实施方式的基础上做了进一步改进，改进之后的CIP清洗工作站清洗设备的方法可以大大减少清洗液的用量，而且可以缩短清洗时间，大大提高清洗效率。
[0044]具体的，如图7所示，该方法包括步骤701至步骤707，其中，步骤701至步骤704与第四实施方式中的步骤601至步骤604完全相同，在此不作赘述。
[0045]进一步的，步骤705为:控制模块控制测量模块实时测量待清洗设备内清洗液的相关参数。
[0046]步骤706为:控制模块控制判断模块根据测量模块测量的相关参数判断是否已将待清洗设备清洗干净。
[0047]步骤707为:当判断设备判定待清洗设备已被清洗干净时，再对待清洗设备进行润洗。
[0048]可以利用测量模块可以实时的检测待清洗设备内清洗液的流量、酸碱度及温度等参数，从而能够根据参数实时调配清洗液，使得清洗液与待清洗设备内的物质特性相符，从而将待清洗设备清洗干净；然后在利用判断模块来判断是否已经将待清洗设备清洗干净，当判断模块判定待清洗设备已经被清洗干净时，就可以停止供给清洗液，转而进行后续的简单处理，而不用像现有技术中人工清洗那样不断的加清洗液进行清洗，因此，这种CIP清洗工作站不仅大大减少清洗液的用量，而且可以缩短清洗时间，大大提高清洗效率。
[0049]不难发现，本实施方式为与第二实施方式相对应的系统实施例，本实施方式可与第一实施方式互相配合实施。第一实施方式中提到的相关技术细节在本实施方式中依然有效，为了减少重复，这里不再赘述。相应地，本实施方式中提到的相关技术细节也可应用在第一实施方式中。
[0050]本发明第六实施方式提供一种CIP清洗工作站清洗设备的方法，第六实施方式在第五实施方式的基础上做了进一步改进，改进之后的CIP清洗工作站清洗设备的方法可以保证使用完毕后，CIP清洗工作站中易残存液体的各模块无残留，方便下次使用，同时也可以延长该工作站的寿命。
[0051]具体的，如图8所示，该方法包括步骤801至步骤808，其中，步骤801至步骤807与第五实施方式中的步骤701至步骤707完全相同，在此不作赘述。
[0052]进一步的，步骤808为:控制模块控制清扫模块吹扫排放清洗设备中残留的液体。
[0053]当清洗模块已经将待清洗设备清洗干净时，就可以利用清扫模块吹扫排放清洗设备中残留的液体，从而保证使用完毕后，CIP清洗工作站中易残存液体的各模块无残留，方便下次使用，同时也可以延长该工作站的寿命。
[0054]不难发现，本实施方式为与第三实施方式相对应的系统实施例，本实施方式可与第一实施方式互相配合实施。第一实施方式中提到的相关技术细节在本实施方式中依然有效，为了减少重复，这里不再赘述。相应地，本实施方式中提到的相关技术细节也可应用在第一实施方式中。
[0055]上面各种方法的步骤划分，只是为了描述清楚，实现时可以合并为一个步骤或者对某些步骤进行拆分，分解为多个步骤，只要包含相同的逻辑关系，都在本专利的保护范围内；对算法中或者流程中添加无关紧要的修改或者引入无关紧要的设计，但不改变其算法和流程的核心设计都在该专利的保护范围内。
【主权项】
1.一种CIP清洗工作站，包含清洗模块，用于清洗待清洗设备，其特征在于，所述原位清洗CIP清洗工作站还包含配液模块及控制模块； 其中，所述配液模块用于自动根据所述待清洗设备内物料的相关参数来配制清洗液； 所述控制模块用于控制所述清洗模块及所述配液模块的开启或关闭。2.根据权利要求1所述的CIP清洗工作站，其特征在于，所述CIP清洗工作站还包含: 测量模块，用于在清洗过程中测量所述待清洗设备内清洗液的相关参数； 判断模块，用于根据所述测量模块测量的相关参数判断是否继续清洗； 所述控制模块还用于控制所述测量模块的开启或关闭。3.根据权利要求2所述的CIP清洗工作站，其特征在于，所述CIP清洗工作站还包含: 清扫模块，用于在所述判断模块判定已将所述待清洗设备清洗干净之后，吹扫排放所述清洗设备中残留的液体。4.根据权利要求1所述的CIP清洗工作站，其特征在于，所述清洗模块包含:PW管道、清洗罐、循环泵、注射用水WFI管道、润洗罐、呼吸器、清洗管路、CIP液供给管道、工业蒸汽管道、换热器、纯蒸汽管道及循环回路，其中，所述PW管道与所述清洗罐、所述循环泵顺序相连；所述润洗罐与所述WFI管道、所述纯蒸汽管道均相连；所述呼吸器架设在所述润洗罐上；所述清洗管路与所述CIP液供给管道相连；所述工业蒸汽管道与所述换热器相连，所述循环回路设在所述清洗罐上。5.根据权利要求1所述的CIP清洗工作站，其特征在于，所述配液模块包含:酸罐及碱罐，其中，所述酸罐及所述碱罐均与所述清洗模块相连。6.根据权利要求2所述的CIP清洗工作站，其特征在于，所述测量模块包含流量计、温度传感器、pH计及电导率仪；所述流量计、所述温度传感器、所述pH计及所述电导率仪均与所述清洗模块相连。7.根据权利要求3所述的CIP清洗工作站，其特征在于，所述清扫模块包含压缩空气管道、压缩空气过滤器及排放管道，其中，所述压缩空气管道与所述压缩空气过滤器相连，所述压缩空气过滤器与所述清洗模块相连。8.—种如权利要求1所述的CIP清洗工作站清洗设备的方法，其特征在于，包括以下步骤: 51、开启所述控制模块； 52、所述控制模块控制所述清洗模块对所述待清洗设备进行冲洗； 53、所述控制模块控制所述配液模块根据所述待清洗设备内物料的相关参数来配制清洗液; 54、所述控制模块控制所述清洗模块利用所述配液模块配制的清洗液对所述待清洗设备进行再次冲洗。9.根据权利要求8所述的CIP清洗工作站清洗设备的方法，其特征在于，在所述S3之后，在所述S4之前，所述方法还包括以下步骤: 55、所述控制模块控制所述测量模块实时测量所述待清洗设备内清洗液的相关参数； 56、所述控制模块控制所述判断模块根据所述测量模块测量的相关参数判断是否已将所述待清洗设备清洗干净； 57、当所述判断设备判定所述待清洗设备已被清洗干净时，再对所述待清洗设备进行润洗。10.根据权利要求9所述的CIP清洗工作站清洗设备的方法，其特征在于，在所述S7之后，所述方法还包括以下步骤: S8、所述控制模块控制所述清扫模块吹扫排放所述清洗设备中残留的液体。
【专利摘要】本发明涉及生物制药领域，公开了一种CIP清洗工作站及其清洗设备的方法，该CIP新型清洗工作站包含清洗模块，用于清洗待清洗设备，原位清洗CIP清洗工作站还包含配液模块及控制模块；其中，配液模块用于自动根据待清洗设备内物料的相关参数来配制清洗液；控制模块用于控制清洗模块及配液模块的开启或关闭。该CIP清洗工作站能够自动的清洗待清洗设备，不用人工清洗，减轻了工人的工作压力。
【IPC分类】G06F1/18
【公开号】CN105320234
【申请号】CN201410362837
【发明人】康丽, 贺国伦, 崔璐, 喻进, 刘志平, 彭志良
【申请人】上海森松制药设备工程有限公司
【公开日】2016年2月10日
【申请日】2014年7月28日