一种优化化学镀金析出的ito走线设计结构的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及电容式触摸屏走线设计，尤其涉及一种化学镀金析出的ιτο走线优化设计结构。
【背景技术】
[0002]采用镀金工艺走线的电容式触摸屏目前处于研发阶段，是世界上从未实现量产。与现在普遍采用的钼铝钼工艺走线相比，有更好的稳定性以及耐腐蚀性，并且由于工序数少可以降低成本。镀金工艺适用于车载，工控类等具有严格质量要求的高端产品。镀金走线设计是影响到镀金结果的直接因素。
[0003]CN104281337A (2015_1_14)公开了一种电容屏边缘走线镀金属方法及电容屏，然而该方法未提出如何能使镀金有效析出的ΙΤ0走线设计结构。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型的目的是提供一种能使镀金有效析出的优化化学镀金析出的ΙΤ0走线设计结构。
[0005]本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的:
[0006]一种优化化学镀金析出的ΙΤ0走线设计结构，包括ΙΤ0玻璃的待镀金部分和不镀金部分，所述待镀金部分和不镀金的驱动区蚀刻有走线，所述不镀金的驱动区覆盖有镀金保护膜，之后通过化学镀金工艺对每块触控玻璃的走线进行镀金；其在镀金不容易析出的地方附近区域且位于所述ΙΤ0玻璃上的非走线部分设置独立的镀金处理诱导件或加宽GND接地线；所述镀金不容易析出的地方为镀金处理面积小的区域；所述独立的镀金处理诱导件为设置在所述ΙΤ0玻璃上的独立的ΙΤ0图形。
[0007]本实用新型镀金不析出是指镀不上金，镀金不容易析出是指不容易镀上金。
[0008]实用新型人经过长期的研发试验，发现电容式触摸屏镀金在镀金过程中，存在以下总结规律:
[0009]①走线密集的地方镀金容易析出；
[0010]②走线不密集的地方镀金不容易析出；
[0011]③线宽大的走线镀金容易析出；
[0012]④线宽小的走线镀金不容易析出；
[0013]⑤如果进行镀金处理的区域面积大，镀金容易析出；
[0014]⑥如果进行镀金处理的区域面积小，镀金不容易析出；
[0015]⑦作为⑥的例外，即使进行镀金处理区域的面积小，如果附近存在较大面积的镀金处理区域，将诱导小面积区域的镀金析出。
[0016]实用新型人经过长期的研发试验，发现除了面积比率外，以上因素也会导致镀金未析出，本技术是针对这样情况的一种解决方案。在镀金不容易析出的地方附近区域设置独立的镀金诱导件或加宽GND接地线，将会引导小面积的ΙΤ0镀金更容易析出。
[0017]作为优选，所述镀金处理面积小的区域为镀金走线与非镀金驱动区域连接的地方，在镀金走线与非镀金驱动区域连接的地方的附近区域且位于所述ΙΤ0玻璃上的非走线部分设置独立的镀金诱导件，用以促进镀金析出。
[0018]更优选地，所述独立的镀金诱导件为独立浮岛结构的ΙΤ0图形。
[0019]作为优选，所述镀金处理面积小的区域为走线不密集的区域，在走线不密集的区域附近且位于所述ΙΤ0玻璃上的非走线部分设置独立的镀金诱导件，用以促进镀金析出。
[0020]更优选地，所述独立的镀金诱导件为独立浮岛结构的ΙΤ0图形。
[0021]作为优选，所述镀金处理面积小的区域为线宽小的走线区域，在将废弃的非使用部位设置独立的镀金诱导件，用以促进镀金析出，待镀金析出后，切除并废弃非使用部位。
[0022]更优选地，所述独立的镀金诱导件为独立浮岛结构的ΙΤ0图形。
[0023]作为优选，所述镀金处理面积小的区域为走线不密集的区域，在走线不密集的区域加宽GND接地线，用以促进镀金析出。
[0024]作为优选，所述镀金处理面积小的区域为线宽小的走线区域，在不废弃的使用部位设置独立的镀金诱导件，用以促进镀金析出。
[0025]更优选地，所述独立的镀金诱导件为独立浮岛结构的ΙΤ0图形。
[0026]作为优选，所述镀金处理面积小的区域为线宽小的走线区域，在线宽小的走线区域加宽GND接地线，用以促进镀金析出。
[0027]采用本实用新型的方法不满足原有设计方法中尽可能的使走线总面积小或者使镀金的ΙΤ0面积尽量的大的原则，是一种新的设计方法，不改变现有的镀金面积，通过在镀金不容易析出的地方附近区域设置独立的镀金处理诱导件或加宽GND接地线，使镀金更容易析出，且镀金厚度更均匀，电容式触摸屏产品稳定性和传输信号能力更好。
【附图说明】
[0028]图1是ΙΤ0玻璃镀金容易析出部分的结构示意图；
[0029]图2是本实用新型ΙΤ0玻璃镀金不容易析出部分的结构示意图；
[0030]图3是ΙΤ0玻璃镀金走线与非镀金走线连接部分的结构示意图；
[0031]图4是本实用新型镀金走线与非镀金走线连接地方区域附近设置独立的镀金诱导件的结构示意图；
[0032]图5是ΙΤ0玻璃走线不密集的地方的结构示意图；
[0033]图6是本实用新型在走线不密集地方区域附近加宽GND线的结构示意图；
[0034]图7是本实用新型在走线不密集地方区域附近设置独立的镀金诱导件的结构示意图；
[0035]图8是ΙΤ0玻璃走线线宽小的地方的结构示意图；
[0036]图9是本实用新型在玻璃切割后将废弃的非使用部位设置独立的镀金诱导件的结构示意图；
[0037]图10是本实用新型在玻璃切割后不废弃的使用部位设置独立的镀金诱导件的结构示意图；
[0038]图11是本实用新型在走线线宽小的地方区域附近加宽GND线的结构示意图；
[0039]图12是ΙΤ0玻璃单独走线示意图；
[0040]图13是ΙΤ0玻璃多数走线示意图；
[0041]图14是本实用新型ΙΤ0玻璃单独走线附近设置大面积的ΙΤ0图形示意图；
[0042]图15是本实用新型在玻璃切割后不废弃的使用部位设置独立浮岛结构的ΙΤ0图形示意图；
[0043]图16是在镀金走线与非镀金驱动区域连接的地方的附近区域设置独立浮岛结构的ΙΤ0图形示意图。
【具体实施方式】
[0044]以下结合图1-图16对本实用新型作进一步详细说明。
[0045]优化化学镀金析出的ΙΤ0走线设计结构包括Ι