1.一种柔性显示屏结构，其特征在于，包括一柔性基底(1)、设于所述柔性基底(1)的第一显示区(2)、设于所述柔性基底(1)的第二显示区(4)、以及设于所述柔性基底(1)且连接所述第一显示区(2)与所述第二显示区(4)的外折区(3)；
所述第一显示区(2)与所述第二显示区(4)内均布设阵列像素电路，所述外折区(3)包括用于连接所述第一显示区(2)的所述阵列像素电路与所述第二显示区(4)的所述阵列像素电路的金属连接线(31)、以及覆盖所述金属连接线(31)的柔性有机层；
所述第一显示区(2)与所述第二显示区(4)通过所述外折区(3)实现向外弯折。
2.如权利要求1所述的柔性显示屏结构，其特征在于，所述第一显示区(2)、所述第二显示区(4)以及所述外折区(3)位于所述柔性基底(1)的同一侧。
3.如权利要求1或2所述的柔性显示屏结构，其特征在于，所述外折区(3)的柔性有机层包括多层，且分别覆盖在所述金属连接线(31)的上下两侧。
4.如权利要求3所述的柔性显示屏结构，其特征在于，所述第一显示区(2)与第二显示区(4)均包括：设在柔性基底(1)上的缓冲层(241)、设在缓冲层(241)上的图案化的半导体有源层(242)、依次层叠在半导体有源层(242)与缓冲层(241)上的多层无机绝缘层、设在最上层的无机绝缘层上并与半导体有源层(242)接触的金属布线层(246)、覆盖金属布线层(246)的第一柔性有机层(247)、设在第一柔性有机层(247)上并与金属布线层(246)接触的阳极(248)、及设在阳极(248)与第一柔性有机层(247)上的第二柔性有机层(249)；所述第二柔性有机层(249)暴露出部分阳极(248)；所述半导体有源层(242)、金属布线层(246)、及阳极(248)构成所述阵列像素电路；
所述外折区(3)包括设在柔性基底(1)上的缓冲层(241)、设在缓冲层(241)上方覆盖所述金属连接线(31)下侧的第三柔性有机层(33)、覆盖所述金属连接线(31)上侧层叠的第一柔性有机层(247)、及第二柔性有机层(249)；所述金属连接线(31)连接第一显示区(2)与第二显示区(4)内的金属布线层(246)。
5.如权利要求4所述的柔性显示屏结构，其特征在于，所述柔性基底(1)的材质为聚酰亚胺。
6.如权利要求4所述的柔性显示屏结构，其特征在于，所述柔性有机层的材质为有机光阻。
7.一种柔性显示屏结构的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤S1、提供一柔性基底(1)，在所述柔性基底(1)上先后涂布覆盖缓冲层(241)、在欲形成第一显示区(2)与第二显示区(4)的区域制备图案化的半导体有源层(242)、以及依次在半导体有源层(242)与缓冲层(241)上涂布层叠多层无机绝缘层；
步骤S2、使用一道光罩制备出金属布线层(246)，所述金属布线层(246)与半导体有源层(242)接触；
步骤S3、使用另一道光罩在欲形成外折区(3)的区域将金属布线层(246)及其下侧的至少一层所述无机绝缘层蚀刻掉；
步骤S4、在欲形成外折区(3)的区域填涂有机材料，形成第三柔性有机层(33)；
步骤S5、使用再一道光罩在欲形成外折区(3)的区域制备出金属连接线(31)，连接第一显示区(2)与第二显示区(4)内的金属布线层(246)；
步骤S6、在所述金属连接线(31)、金属布线层(246)、及第三无机绝缘层(245)上涂布覆盖第一柔性有机层(247)；
步骤S7、在第一柔性有机层(247)上欲形成第一显示区(2)与第二显示区(4)的区域制备出阳极(248)；
所述阳极(248)与金属布线层(246)接触；所述半导体有源层(242)、金属布线层(246)、及阳极(248)构成阵列像素电路；
步骤S8、在阳极(248)与第一柔性有机层(247)上制备出第二柔性有机层(249)；
所述第二柔性有机层(249)暴露出部分阳极(248)。
8.如权利要求7所述的柔性显示屏结构的制作方法，其特征在于，所述柔性基底(1)的材质为聚酰亚胺。
9.如权利要求7所述的柔性显示屏结构的制作方法，其特征在于，所述第一柔性有机层(247)、第二柔性有机层(249)及第三柔性有机层(33)的材质为有机光阻。