技术总结
本发明提供一种像素限定层及其制备方法、有机电致反光二极管基板及其制备方法，属于显示技术领域。本发明的像素限定层的制备方法，包括：在基底上，形成第一膜层，以及通过喷墨打印的方式形成网格状的第二膜层，且所述第一膜层位于第二膜层上；去除与所述网格状的第二膜层的镂空位置对应的所述第一膜层，并裸露出所述镂空位置处的所述第二膜层的侧边，以形成包括像素限定层的图形。在本发明的像素限定层的制备方法中，通过喷墨打印的方式直接形成位于第一膜层下方的、网格状的第二膜层，去除与网格状的第二膜层的镂空位置对应的第一膜层，以形成包括像素限定层，也即仅通过一次构图工艺就可以形成像素限定层的图形，从而简化了制备工艺。
技术研发人员：侯文军;刘则
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司
文档号码：201710064403
技术研发日：2017.02.04
技术公布日：2017.05.31