技术特征：
技术总结
本发明涉及一种阵列基板的制作方法、阵列基板及显示装置，用以解决现有的TFT基板制作工艺较为复杂、亟需有效的方式既能减少光刻工艺又不会降低产品良率的问题。该制作方法包括：在衬底基板上形成栅极金属层图案、栅极绝缘层薄膜、有源层图案和源漏极金属层图案；在源漏极金属层图案上依次形成平坦化层薄膜、第一电极层图案、第一绝缘层薄膜和光刻胶图案；依次对第一绝缘层薄膜和平坦化层薄膜进行干刻工艺，在第一绝缘层薄膜、第一遮挡电极和平坦化层薄膜中形成的过孔构成第一通孔；在第一绝缘层薄膜上形成包括第一桥接电极的第二电极层图案，并使第一桥接电极至少完全覆盖第一通孔的区域、且与源漏极金属层图案连接。
技术研发人员：戴文君
受保护的技术使用者：上海天马微电子有限公司
技术研发日：2017.06.30
技术公布日：2017.11.03