技术特征：
技术总结
用于制造沉积掩模的金属板包括：基础金属板；以及设置在基础金属板上的表面层，其中表面层包含与基础金属板的元素不同的元素，或者具有与基础金属板的组成比不同的组成比，以及基础金属板的蚀刻速率大于表面层的蚀刻速率。一个实施方案包括用于蚀刻因子大于或等于2.5的沉积掩模的制造方法。该实施方案的沉积掩模包括沉积图案区域和非沉积区域，沉积图案区域包括复数个通孔，沉积图案区域分为有效区域、外周区域和非有效区域，并且通孔可以形成在有效区域和外周区域中。
技术研发人员：成东默;尹锺珉;曹守铉;金海植;韩太勋;孙晓源;李相侑;李相范
受保护的技术使用者：LG伊诺特有限公司
技术研发日：2017.08.22
技术公布日：2019.06.04