1.一种腔体内衬，所述腔体内衬包括底壁衬体和侧壁衬体，所述侧壁衬体环绕所述底壁衬体设置以形成工艺腔，所述底壁衬体的中部形成用于设置偏置电极的容置口，所述底壁衬体上设置有多个沿所述底壁衬体厚度方向贯穿所述底壁衬体的抽气孔，其特征在于，所述底壁衬体的上表面为朝向所述工艺腔凸出的曲面，并且从所述容置口到所述底壁衬体与所述侧壁衬体的连接处的方向上所述曲面的高度逐渐降低。
2.根据权利要求1所述的腔体内衬，其特征在于，所述底壁衬体为以所述腔体内衬的中轴线为旋转轴的回转体，所述底壁衬体的上表面的母线为圆弧或抛物线。
3.根据权利要求2所述的腔体内衬，其特征在于，所述母线在所述容置口处的切线为水平线，所述母线在所述底壁衬体与所述侧壁衬体的连接处的切线与水平线的夹角的范围为[15°，45°]。
4.根据权利要求1-3任意一项所述的腔体内衬，其特征在于，在所述底壁衬体的上表面，沿从所述底壁衬体的内部到所述底壁衬体的外部的方向，所述抽气孔的面积与所述底壁衬体的上表面面积之间的比例逐渐增大。
5.根据权利要求4所述的腔体内衬，其特征在于，各所述抽气孔形状相同，多个所述抽气孔分别分布在多个不同的圆周上，该多个圆周的圆心均位于所述底壁衬体的中轴线上，并且从所述中轴线向外各个所述同心圆上的抽气孔数量逐渐增多。
6.根据权利要求4所述的腔体内衬，其特征在于，多个所述抽气孔分别分布在多个不同的圆周上，该多个圆周的圆心均位于所述底壁衬体的中轴线上，每个所述圆周上的抽气孔数量相同，同一所述同心圆上的抽气孔形状相同，并且从所述中轴线向外各个所述同心圆上的抽气孔面积逐渐增大。
7.根据权利要求1-3任意一项所述的腔体内衬，其特征在于，所述侧壁衬体包括竖直部和过渡部，所述过渡部连接在所述竖直部与所述底壁衬体之间，所述过渡部的内表面为曲面。
8.根据权利要求7所述的腔体内衬，其特征在于，所述侧壁衬体与所述底壁衬体形成为一体结构。
9.一种等离子体反应腔室，其特征在于，包括腔室主体和权利要求1-8任意一项所述的腔体内衬，所述腔体内衬设置在所述腔室主体内，所述腔体内衬的底壁衬体的容置口环绕偏置电极，且所述底壁衬体的上表面在所述容置口处与所述偏置电极的上表面齐平，所述腔室主体的壁上设置有通孔。
10.一种等离子体设备，包括等离子体反应腔室和抽气装置，其特征在于，所述等离子体反应腔室为权利要求9所述的等离子体反应腔室；所述抽气装置的抽气口与所述通孔相通。