1.一种氧化设备中挡片自动清洁系统，其特征在于，包括：
副炉体，用于放置挡片并进行掺氯氧化工艺，所述副炉体包括炉管口、进气口、出气口；
硅片传送单元，其通过副炉体的炉管口将挡片送至副炉体中或从副炉体中取出；
气体分配单元，用于向副炉体中提供掺氯氧化工艺所需的气体，所述气体分配单元与副炉体的进气口相连接；
尾气处理单元，其与副炉体的出气口相连接；
机台控制单元，其与副炉体、硅片传送单元、气体分配单元和尾气处理单元相连。
2.根据权利要求1所述的氧化设备中挡片自动清洁系统，其特征在于，所述氧化设备包括氧化炉体，所述氧化炉体与副炉体共用硅片传送单元、气体分配单元、尾气处理单元和机台控制单元。
3.根据权利要求1或2所述的氧化设备中挡片自动清洁系统，其特征在于，所述硅片传送单元为机械手臂。
4.根据权利要求1或2所述的氧化设备中挡片自动清洁系统，其特征在于，所述机台控制单元对挡片的使用次数进行监测，当达到设定使用次数时，机台控制单元驱动硅片传送单元将挡片送至副炉体内进行掺氯氧化工艺。
5.根据权利要求2所述的氧化设备中挡片自动清洁系统，其特征在于，所述副炉体进行掺氯氧化工艺与氧化炉体进行氧化工艺是相互独立的。
6.根据权利要求5所述的氧化设备中挡片自动清洁系统，其特征在于，所述副炉体进行掺氯氧化工艺与氧化炉体进行氧化工艺同时进行。
7.根据权利要求1所述的氧化设备中挡片自动清洁系统，其特征在于，所述气体分配单元向副炉体内输入氧气、氮气、氢气、氯化物气体。
8.根据权利要求2所述的氧化设备中挡片自动清洁系统，其特征在于，所述气体分配单元向氧化炉体内输入氧气、氮气、氢气。
9.根据权利要求2所述的氧化设备中挡片自动清洁系统，其特征在于，所述副炉体的容量比氧化炉体的容量小。