导电性薄膜的制作方法

文档序号:21195564发布日期:2020-06-23 18:42阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种导电性薄膜,其依次具备第1金属层和树脂薄膜,

所述第1金属层的厚度为10nm以上且200nm以下,

所述第1金属层的与所述树脂薄膜处于相反侧的表面的表面粗糙度rz为100nm以下。

2.根据权利要求1所述的导电性薄膜,其中,所述树脂薄膜的与所述第1金属层处于相反侧的表面的表面粗糙度ra为30nm以下。

3.根据权利要求1所述的导电性薄膜,其中,所述树脂薄膜的所述第1金属层侧的表面的表面粗糙度ra为0.5nm以上且10nm以下。

4.根据权利要求1所述的导电性薄膜,其还具备基底层,所述基底层配置于所述树脂薄膜与所述第1金属层之间。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的导电性薄膜,其还具备第2金属层,所述第2金属层配置于所述树脂薄膜的与所述第1金属层相反的一侧,

所述第2金属层的厚度为10nm以上且200nm以下,

所述第2金属层的与所述树脂薄膜处于相反侧的表面的表面粗糙度rz为100nm以下。

6.根据权利要求5所述的导电性薄膜,其中,所述树脂薄膜的所述第2金属层侧的表面的表面粗糙度ra为0.5nm以上且10nm以下。

7.根据权利要求5所述的导电性薄膜,其中,所述第1金属层的与所述树脂薄膜处于相反侧的表面的表面粗糙度ra及所述第2金属层的与所述树脂薄膜处于相反侧的表面的表面粗糙度ra中的至少一者为0.5nm以上且10nm以下。

8.根据权利要求5所述的导电性薄膜,其还具备基底层,所述基底层配置于所述树脂薄膜与所述第2金属层之间。

9.根据权利要求5所述的导电性薄膜,其中,所述第1金属层的厚度与所述第2金属层的厚度之差的绝对值为5nm以下。

10.根据权利要求1~9中任一项所述的导电性薄膜,其被卷绕成卷状。


技术总结
提供即使设置有较薄的金属层也可抑制金属层的图案化时发生断线的导电性薄膜。一种导电性薄膜,其依次具备第1金属层和树脂薄膜,前述第1金属层的厚度为10nm以上且200nm以下,前述第1金属层的与前述树脂薄膜处于相反侧的表面的表面粗糙度Rz为100nm以下。前述树脂薄膜的与前述第1金属层处于相反侧的表面的表面粗糙度Ra优选为30nm以下。

技术研发人员:小石直树;片桐正义;桥本尚树
受保护的技术使用者:日东电工株式会社
技术研发日:2019.12.06
技术公布日:2020.06.23
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