一种用于半导体生产设备二次配的集成装置的制作方法

本发明涉及半导体设备安装技术领域，具体是一种用于半导体生产设备二次配的集成装置。

背景技术：

目前半导体行业飞速发展，半导体制程精密生产设备的升级换代也越来越快，相应半导体精密生产设备的安装改造也越来越多。对于半导体工厂来说，尤其是芯片制造业半导体工厂的建设，建设周期是非常关键的因素，往往决定了产品是否能够在市场上获得成功。目前半导体工厂二次配均采用现场施工的形式，真空泵、管路、电路等都在现场施工，进度计划难以控制，安全和质量隐患较多。目前由于半导体精密生产设备安装部署周期长，现场施工在整个项目时间占用的比例很大，而且当需要修改设备布置时，已完成的二次配工程拆除费时费力。现场二次配安装过程中质量难以保证，经常出现返工和返修的情况。

技术实现要素：

本发明提供一种用于半导体生产设备二次配的集成装置，以解决背景技术中存在的问题。

本发明采用以下技术方案：

一种用于半导体生产设备二次配的集成装置，包括：泵架本体、集成管路、集成电路和真空泵。所述泵架本体由碳钢和不锈钢型材组焊而成的矩形框架，分上下两层，所述集成管路包括真空管路、制程冷却水管路和氮气管路，所述集成电路包括强电系统和弱电系统，所述真空泵包括泵体A和泵体B，泵体A布置在泵架本体上层，泵体B布置在泵架本体下层，所述泵体A和泵体B四个底脚部位均设置有支撑固定脚。

进一步地，所述泵架本体表面采用防静电喷塑处理，泵架本体的不锈钢型材内部空腔用作电缆线槽，所述泵架本体尺寸为：长度150~400cm，宽度135cm，高度200cm，所述泵架本体下层高度为50cm。

进一步地，所述真空管路包括真空管路进气管和真空管路排气管，所述真空管路进气管配置闸板阀、流量计、压力计和传感器。

进一步的，所述制程冷却水管路包括给水管路和回水管路，每台真空泵各配置一条制程冷却水管路，所述给水管路和回水管路分别通过软管与真空泵连接，并使用喉箍紧固，所述制程冷却水管路均布置在真空泵右侧。

进一步地，所述给水管路预装有一个球阀，所述回水管路预装有阀组，所述阀组包括压力计、流量计、温度计、球阀。

进一步地，所述强电系统包括动力电缆、工业插座和工业插头，所述动力电缆一端连接工业插头，与真空泵自带工业插座连接，动力电缆另一端连接外部电源箱，所述外部电源箱通过安装螺钉固定在泵架本体框架的左侧，电源箱的电缆布置在泵架本体下层的不锈钢型材的内部空腔里。

进一步地，所述弱电系统包括从真空泵接口到装置外部接口的信号线和控制电路，所述控制电路布置在泵架本体上层的不锈钢型材的内部空腔里。

进一步地，所述真空泵之间的间距为45cm。

进一步地，所述泵体A顶部的进气口与真空管路进气管，所述泵体A后面的排气口与真空管路排气管通过快速卡箍连接，所述泵体B后面的进气口与真空管路进气管通过法兰连接，所述泵体B后面的排气口与真空管路排气管通过快速卡箍连接。

进一步地，所述泵体A与氮气管路通过VCR管接头连接，所述泵体B与氮气管路通过卡套式管接头连接，所述泵体A型号为IH1000真空泵，泵体B为型号A103P真空泵，所述氮气管路均布置在真空泵后侧。

本发明的有益效果为：

本发明集成装置能满足各种等级洁净室的要求，具有装拆快捷方便，大大减少了设备部署的时间，缩短了整个半导体生产设备的安装周期，减少了厂房占用面积，可移动性好，满足机台位置临时调整的需求，集成装置采用模块化标准化制造，解决现场施工周期长和进度不可控的问题，且施工质量得到有效保证，满足半导体工厂不间断运行的要求。

附图说明

图1为本发明一种用于半导体生产设备二次配的集成装置正面立体结构示意图。

图2为本发明一种用于半导体生产设备二次配的集成装置背面立体结构示意图。

图3为本发明一种用于半导体生产设备二次配的集成装置泵架本体立体结构示意图。

图中1-泵架，2-泵体A，3-真空管路进气管，4-真空管路排气管，5-制程冷却水管路，6-氮气管路，7-动力电缆，8-泵体B，9-工业插座，10-工业插头，11-闸板阀，12-阀组，13-控制电路，14-开关组，15-支撑固定脚，16-软管。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述地实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动成果前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

如图1-所示，一种用于半导体生产设备二次配的集成装置，包括：泵架本体1、集成管路、集成电路和真空泵。所述泵架本体1由碳钢和不锈钢型材组焊而成的矩形框架，分上下两层，所述集成管路包括真空管路、制程冷却水管路5和氮气管路6，所述集成电路包括强电系统和弱电系统，所述真空泵包括泵体A2和泵体B8，泵体A2布置在泵架本体1上层，泵体B8布置在泵架本体1下层，所述泵体A2和泵体B8四个底脚部位均设置有支撑固定脚15。

所述泵架本体1表面采用防静电喷塑处理，泵架本体1的不锈钢型材内部空腔用作电缆线槽，所述泵架本体1尺寸为：长度150~400cm，宽度135cm，高度200cm，所述泵架本体1下层高度为50cm。

所述真空管路包括真空管路进气管3和真空管路排气管4，所述真空管路进气管3配置闸板阀11、流量计、压力计和传感器。

所述制程冷却水管路5包括给水管路和回水管路，每台真空泵各配置一条制程冷却水管路5，所述给水管路和回水管路分别通过软管与真空泵连接，并使用喉箍紧固，所述制程冷却水管路5均布置在真空泵右侧。

所述给水管路预装有一个球阀，所述回水管路预装有阀组12，所述阀组12包括压力计、流量计、温度计、球阀。

所述强电系统包括动力电缆7、工业插座9和工业插头10，所述动力电缆7一端连接工业插头10，与真空泵自带工业插座9连接，动力电缆7另一端连接外部电源箱，所述外部电源箱通过安装螺钉固定在泵架本体1框架的左侧，电源箱的电缆布置在泵架本体1下层的不锈钢型材的内部空腔里。

所述弱电系统包括从真空泵接口到装置外部接口的信号线和控制电路13，所述控制电路13布置在泵架本体1上层的不锈钢型材的内部空腔里。

所述真空泵之间的间距为45cm。

所述泵体A2顶部的进气口与真空管路进气管3通过法兰连接，所述泵体A2后面的排气口与真空管路排气管4通过快速卡箍连接，所述泵体B8后面的进气口与真空管路进气管3通过法兰连接，所述泵体B8后面的排气口与真空管路排气管4通过快速卡箍连接。

所述泵体A2与氮气管路6通过VCR管接头连接，所述泵体B8与氮气管路6通过卡套式管接头连接，所述泵体A2型号为IH1000真空泵，泵体B8为型号A103P真空泵，所述氮气管路6均布置在真空泵后侧。

本发明集成装置安装时，首先用碳钢和不锈钢型材组焊而成矩形框架得到泵架本体1，将泵体A2放置在泵架本体1上层，将泵体B8放置在泵架本体1下层，使用防振支架将泵体A、泵体B固定在框架上，使用法兰夹将真空管路进气管3固定在真空泵顶部的进气口上，使用快速卡箍将真空管路排气管4与真空泵排气口连接，然后将泵体A2与氮气管路6通过VCR管接头连接，泵体B8与氮气管路通过卡套式管接头连接，将制程冷却水管路5的给水管路和回水管路分别通过软管16与真空泵连接，并使用喉箍紧固，然后将所述动力电缆7一端连接工业插头10，与真空泵自带工业插座9连接，动力电缆7另一端连接外部电源箱，将控制电路13和开关组14与真空泵连接，最后进行压力和泄露测试，测试合格产品即为本发明集成装置，将集成装置运到工厂与半导体生产设备模块化连接即可，解决现场施工周期长和进度不可控的问题。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包括在本发明的保护范围之内。