一种低输入电阻功率半导体晶体管的制作方法

文档序号:20812159发布日期:2020-05-20 02:09阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种低输入电阻功率半导体晶体管,包括半导体晶体管上管s1和半导体晶体管下管s2,其特征在于:所述半导体晶体管上管s1包括门极g、发射极e、n发射极和p+基极,n发射极与门极g导通连接,并与发射极e导通连接,p+基极与n发射极导通连接;所述半导体晶体管下管s2包括n基极、n+缓冲区、p+层和集电极c,n基极与n+缓冲区导通连接,n+缓冲区与p+层导通连接,p+层与集电极c导通连接;所述半导体晶体管上管s1上设有门极导通电阻rgon,导体晶体管下管s2上设有寄生米勒电容ccg、栅极电阻rg和内部驱动栅极电阻rdriver,内部驱动栅极电阻rdriver的输入端接到门极g上,部驱动栅极电阻rdriver的输出端接到门极导通电阻rgon的输入端,门极导通电阻rgon的输出端接到三极端q1的基极,并接到寄生米勒电容ccg的输入端,三极端q1的发射极接地,三极端q1的集电极接到三极管q2的发射极,三极管q2的集电极接到+hvdc输入端子上;所述寄生米勒电容ccg的输出端连接到三极管q2的发射极;所述门极导通电阻rgon的两端并联有关断电阻rgoff。

2.根据权利要求1所述的一种低输入电阻功率半导体晶体管,其特征在于:所述关断电阻rgoff的输出端串联有二极管d1,二极管d1的输出端接回到门极导通电阻rgon的输入端。

3.根据权利要求1所述的一种低输入电阻功率半导体晶体管,其特征在于:所述n基极、n+缓冲区以及p+层和集电极c依次叠放在一起,p+基极位于n基极的上端外侧,n发射极位于p+基极上,p+基极、n发射极以及n基极均与门极g贴合。


技术总结
本实用新型公开了一种低输入电阻功率半导体晶体管,包括半导体晶体管上管S1和半导体晶体管下管S2,所述半导体晶体管上管S1包括门极G、发射极E、N发射极和P+基极,N发射极与门极G导通连接,并与发射极E导通连接。本低输入电阻功率半导体晶体管,寄生米勒电容CCG导通时,通过减小关断电阻RGOFF的阻值,可以有效抑制寄生米勒电容CCG的导通,使半导体晶体管的开关速度提高,大大降低整个半导体晶体管的开关功率损耗,提高电路工作效率。

技术研发人员:刘道国
受保护的技术使用者:深圳市尚鼎芯科技有限公司
技术研发日:2019.10.23
技术公布日:2020.05.19
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