1.一种电解液，其包括式i化合物、式ii化合物或式iii化合物中的至少一种；
和式iv化合物：
其中，
r11、r12、r13、r21、r22、r31、r32、r33和r34各自独立地选自h、卤素、氰基、经取代或未经取代的c1-c10烷基、经取代或未经取代的c2-c10烯基、经取代或未经取代的c6-c12芳基；
r41和r44各自独立地选自h、f、氰基、经取代或未经取代的c1-c10烷基、经取代或未经取代的c2-c10烯基、经取代或未经取代的c6-c12芳基、ra-(o-rb)或(o-rb)；
r42和r43各自独立地选自rc-(o-rd)或(o-rd)；
rb选自经取代或未经取代的c1-c4的烷基；
ra、rc和rd各自独立地选自经取代或未经取代的c1-c4亚烷基、c2-c5亚烯基或c6-c12芳基；并且
当经取代时，取代基选自卤素、氰基或其组合。
2.根据权利要求1所述的电解液，其中：
所述式i化合物包含以下化合物中的至少一种：
所述式ii化合物为：
所述式iii化合物为：
3.根据权利要求1所述的电解液，其中所述式iv化合物包含
中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的电解液，其中基于所述电解液的总重量，所述式i化合物、式ii化合物或式iii化合物的总含量为0.01wt％至10wt％，所述式iv化合物的总含量为0.01wt％至8wt％。
5.根据权利要求1所述的电解液，其进一步包括添加剂a，所述添加剂a包括氟代碳酸乙烯酯、碳酸亚乙烯酯、乙烯基碳酸乙烯酯、丁二腈、己二腈、1,3,6己烷三甲腈、1,3,2-二噁唑噻吩-2,2-二氧化物、1,3-丙烷磺酸内酯或氟苯中的至少一种，其中基于所述电解液的总重量，所述添加剂a的总含量为1wt％至12wt％。
6.根据权利要求1-5中任一项所述的电解液，其进一步包含式v化合物：
其中：
r51和r52各自独立地选自c1-c4烷基或氟取代的c1-c4烷基；并且
r51和r52中至少一者为氟取代的c1-c4烷基；
其中基于所述电解液的总重量，所述式v化合物的含量为1wt％至30wt％。
7.根据权利要求6所述的电解液，其中所述式v化合物包含
中的至少一种。
8.一种电化学装置，其包含：
正极；
负极，所述负极包括负极活性物质层；和
根据权利要求1-7中任一权利要求所述的电解液。
9.根据权利要求8所述的电化学装置，其中x射线衍射图谱测定得到的所述负极活性物质层的(004)面的峰面积c004和(110)面的峰面积c110的比值c004/c110在8至15的范围内。
10.根据权利要求8所述的电化学装置，其中所述负极活性物质层包括一次颗粒和二次颗粒，其中所述一次颗粒的dv50在3μm至10μm的范围内，所述二次颗粒的dv50在5μm至20μm的范围内。
11.根据权利要求10所述的电化学装置，其中所述一次颗粒与所述二次颗粒的重量比为1:9至5:5。
12.一种电子装置，其包括根据权利要求9-11中任一权利要求所述的电化学装置。