发光二极管芯片及其制作方法与流程

文档序号:23756853发布日期:2021-01-29 17:37阅读:来源:国知局
技术总结
本公开提供了一种发光二极管芯片及其制作方法,属于半导体技术领域所述发光二极管芯片包括衬底、N型半导体层、有源层、P型半导体层、N型电极、P型电极和分布式布拉格反射镜;所述N型半导体层、所述有源层、所述P型半导体层依次层叠在所述衬底的第一表面上;所述P型半导体层上设有延伸至所述N型半导体层的凹槽,所述N型电极设置在所述凹槽内的N型半导体层上,所述P型电极设置在所述P型半导体层上;所述分布式布拉格反射镜铺设在所述衬底的第二表面上,所述第二表面为所述第一表面的相反表面;所述N型半导体层的部分边缘区域为光线散射结构,所述光线散射结构由具有晶体缺陷的晶体结构形成。本公开有利于提升LED的正面出光效率。效率。效率。


技术研发人员:兰叶 吴志浩 李鹏
受保护的技术使用者:华灿光电(浙江)有限公司
技术研发日:2020.07.30
技术公布日:2021/1/29

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