制备有机发光显示面板的方法、有机发光显示面板和显示装置与流程

本发明涉及显示领域，具体地，涉及制备有机发光显示面板的方法、有机发光显示面板和显示装置。

背景技术：

随着人们对电子设备显示效果要求的日益繁多，有机发光显示面板因自发光、宽视角、广色域、高对比度、轻薄、可折叠、可弯曲、轻薄易携带等特点，成为了显示领域的主要研发方向。但目前的有机发光二极管在实际应用中易出现低灰阶串扰，影响面板显示效果。

因此，目前制备有机发光显示面板的方法、有机发光显示面板和显示装置仍有待改进。

技术实现要素：

本申请是基于发明人对以下问题的发现而做出的：

发明人发现：为了进行彩色显示，有机发光显示基板上会设置不同颜色的多个有机发光二极管，如红色、绿色和蓝色(下文简称r、g和b)。当给rgb有机发光二极管其中一种颜色的有机发光二极管施加开启电压时，特别在低灰阶下容易将其余颜色的有机发光二极管点亮，表现为低灰阶串扰，影响面板显示效果。

本申请旨在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。

在本申请的一个方面，本发明提出了一种制备有机发光显示面板的方法，包括：在基板的一侧形成像素定义层；在所述像素定义层远离所述基板的一侧形成像素支撑层，并令所述像素支撑层朝向所述像素定义层一侧的表面在所述基板上的正投影位于所述像素支撑层远离所述像素定义层一侧的表面在所述基板上的正投影的所在范围之内；在所述像素支撑层远离所述像素定义层的一侧形成发光功能层；将所述像素支撑层剥离，以获得所述有机发光显示面板。由此，通过像素支撑层的剥离在发光功能层上形成断开缝，切断载流子在相邻有机发光二极管间的横向传输，有效提高了面板的低灰阶显示质量。

根据本发明的实施例，所述像素定义层在所述基板上限定出多个子像素，所述子像素包括红色子像素、蓝色子像素和绿色子像素，所述像素支撑层在所述基板上的正投影至少环绕所述红色子像素所在区域。由此，可通过像素支撑层对红色子像素的包围，在像素支撑层剥离后切断红色子像素与绿色子像素和蓝色子像素间载流子的横向传输途径。

根据本发明的实施例，所述像素支撑层在所述基板上的正投影将所述红色子像素、所述绿色子像素和所述蓝色子像素所在区域彼此间隔开。由此，可通过像素支撑层对红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素的包围，在像素支撑层剥离后切断rgb子像素间载流子的横向传输途径。

根据本发明的实施例，所述像素支撑层是由负性感光材料形成的，所述负性感光材料包括氟醚类材料，将所述像素支撑层剥离包括：将含有所述像素定义层、所述像素支撑层、所述发光功能层的所述基板置于剥离液中，形成所述剥离液的材料包括氟醚类材料。由此，有利于对像素支撑层进行剥离。

根据本发明的实施例，所述发光功能层为空穴注入层、空穴传输层、电子阻隔层、有机发光层、空穴阻隔层和电子传输层，剥离所述像素定义层之后所述方法进一步包括：在所述电子传输层远离所述空穴阻隔层的一侧形成电子注入层。由此，有助于进一步提高显示效果。

根据本发明的实施例，所述发光功能层为空穴注入层和空穴传输层，剥离所述像素定义层之后所述方法进一步包括：在所述空穴传输层远离所述空穴注入层的一侧形成电子阻隔层；在所述电子阻隔层远离所述空穴传输层的一侧形成有机发光层；在所述有机发光层远离所述电子阻隔层的一侧形成空穴阻隔层；在所述空穴阻隔层远离所述有机发光层的一侧形成电子传输层；在所述电子传输层远离所述空穴阻隔层的一侧形成电子注入层。由此，有助于进一步提高显示效果。

根据本发明的实施例，所述发光功能层为空穴注入层、空穴传输层、电子阻隔层和有机发光层，剥离所述像素定义层之后所述方法进一步包括：在所述有机发光层远离所述电子阻隔层的一侧形成空穴阻隔层；在所述空穴阻隔层远离所述有机发光层的一侧形成电子传输层；在所述电子传输层远离所述空穴阻隔层的一侧形成电子注入层。由此，有助于进一步提高显示效果。

根据本发明的实施例，所述发光功能层为空穴注入层、空穴传输层、电子阻隔层、有机发光层和空穴阻隔层，剥离所述像素定义层之后所述方法进一步包括：在所述空穴阻隔层远离所述有机发光层的一侧形成电子传输层；在所述电子传输层远离所述空穴阻隔层的一侧形成电子注入层。由此，有助于进一步提高显示效果。

根据本发明的实施例，所述像素支撑层的厚度为1～2微米。由此，有利于提升像素支撑层对于掩模版的支撑效果。

根据本发明的实施例，所述像素支撑层的宽度小于相邻的两个所述子像素之间的间隔宽度。由此，有助于进一步提高显示效果。

根据本发明的实施例，所述像素支撑层的宽度为2～20微米。由此，有助于进一步提高显示效果。

在本发明的另一方面，本发明提出了一种有机发光显示面板，包括：基板；像素定义层，所述像素定义层在所述基板上限定出多个子像素；发光功能层，所述发光功能层位于所述像素定义层远离所述基板的一侧；所述发光功能层在相邻的两个所述子像素之间的间隙处具有断开缝。由此，可通过发光功能层在相邻子像素之间的断开缝有效降低子像素间低灰阶串扰。

根据本发明的实施例，所述子像素包括红色子像素、绿色子像素以及蓝色子像素，所述断开缝在所述基板上的正投影环绕所述红色子像素所在区域。由此，可通过发光功能层在相邻红色子像素之间的断开缝有效降低红色子像素与其余子像素的低灰阶串扰。

根据本发明的实施例，所述断开缝在所述基板上的正投影具有环绕部和第一连接部，所述环绕部环绕所述红色子像素所在区域，所述第一连接部连接相邻的两个所述环绕部并将位于第一方向上且相邻的所述绿色子像素和所述蓝色子像素间隔开。由此，可有效降低相邻红色子像素间以及部分蓝色子像素和绿色子像素间的低灰阶串扰。

根据本发明的实施例，所述断开缝在所述基板上的正投影具有所述环绕部、所述第一连接部和第二连接部，所述第一连接部连接在第一方向上相邻的两个所述环绕部，且所述第一连接部将位于第二方向上的所述绿色子像素和蓝色子像素所在区域隔开，所述第二连接部连接在第二方向上相邻的两个所述环绕部，且第二连接部将位于第一方向上的所述绿色子像素和所述蓝色子像素所在区域间隔开。由此，可进一步有效降低相邻子像素间的低灰阶串扰。

根据本发明的实施例，所述发光功能层为空穴注入层、空穴传输层、电子阻隔层、有机发光层、空穴阻隔层和电子传输层，所述有机发光显示面板进一步包括电子注入层。由此，可进一步提高显示效果。

根据本发明的实施例，所述发光功能层为空穴注入层和空穴传输层，所述有机发光显示面板进一步包括：电子阻隔层、有机发光层、空穴阻隔层、电子传输层和电子注入层。由此，可进一步提高显示效果。

根据本发明的实施例，所述发光功能层为空穴注入层、空穴传输层、电子阻隔层和有机发光层，所述有机发光显示面板进一步包括：空穴阻隔层，电子传输层和电子注入层。由此，可进一步提高显示效果。

根据本发明的实施例，所述发光功能层为空穴注入层、空穴传输层、电子阻隔层、有机发光层和空穴阻隔层；所述有机发光显示面板进一步包括电子传输层和电子注入层。由此，可进一步提高显示效果。

在本发明的又一方面，本发明提出了一种显示装置，包括显示面板，所述显示面板为前面所述的有机发光显示面板，或是利用前面所述的制备有机发光显示面板的方法获得的。由此，该显示装置具有前面所述的显示面板所具有的全部特征及优点，在此不再赘述。

附图说明

本发明的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1显示了根据本发明的一个制备有机发光显示面板的流程示意图；

图2显示了根据本发明的一个制备有机发光显示面板的流程示意图；

图3显示了相关技术中封装层缺陷处的扫描电子显微镜图；

图4显示了根据本发明的一个制备有机发光显示面板的部分流程示意图；

图5显示了根据本发明的一个实施例的有机发光显示面板的结构示意图；

图6显示了根据本发明的一个实施例的有机发光显示面板的部分结构示意图；

图7显示了根据本发明的又一个实施例的有机发光显示面板的部分结构示意图；

图8显示了根据本发明的又一个实施例的有机发光显示面板的部分结构示意图；

图9显示了根据本发明的又一个实施例的有机发光显示面板的部分结构示意图；

图10显示了根据本发明的又一个实施例的有机发光显示面板的结构示意图。

附图标记说明：100：基板；200：像素定义层；300：像素支撑层；310：异物；320：无机层；330：无机层间隙；400：发光功能层；500：公共层；10：环绕部；20：第一连接部；30：第二连接部。

具体实施方式

下面详细描述本申请的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本申请，而不能理解为对本申请的限制。

本申请旨在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。

在本发明的一个方面，本发明提出了一种制备有机发光显示面板的方法，包括：在基板的一侧形成像素定义层；在像素定义层远离基板的一侧形成像素支撑层，并令像素支撑层朝向像素定义层一侧的表面在基板上的正投影位于像素支撑层远离像素定义层一侧的表面在基板上的正投影的所在范围之内；在像素支撑层远离像素定义层的一侧形成发光功能层；将像素支撑层剥离，以获得有机发光显示面板。由此，可通过像素支撑层的设置保护蒸镀膜层，又可通过像素支撑层的剥离有效降低其对蒸镀膜层的损伤，同时在发光功能层上形成断开缝。

为了方便理解，参考图3和图6，下面首先对该制备有机发光显示面板的方法可实现上述有益效果的原理进行简单说明：

在oled器件中，当在给某一种颜色的子像素单元施加开启电压时，电子从阴极注入电子注入层370，空穴从阳极流入空穴注入层310。电子和空穴分别通过载流子传输速率相匹配的电子传输层360和空穴传输层320流向对应颜色的有机发光层340，并在有机发光层340耦合形成激子，激子辐射跃迁，发出光子，释放能量。为了阻止电子和空穴达到有机发光层340后由于电场作用进一步迁移，故设置电子阻隔层330和空穴阻隔层350，利用其特殊的能级结构，可以对电子和空穴形成迁移的势垒，阻止其进一步迁移离开有机发光层340。对于rgb像素单元的启亮电压，通常b(蓝色子像素)电压最大，g(绿色子像素)的电压和r(红色子像素)的电压较小，由于发光功能层多是整层蒸镀形成的，因此常用的rgb有机发光二极管都共用空穴注入层310和空穴传输层320，即在显示基板的多个有机发光二极管之间也存在发光功能层材料。通常空穴注入层载流子迁移率较大。例如当在蓝色子像素单元的两端施加较大电压时，大部分电流会流向蓝色子像素的有机发光层，点亮蓝色子像素，但还会有小部分电流通过共用的空穴注入层分别流向绿色子像素的有机发光层和红色子像素的有机发光层，同时将绿色像素和红色像素点亮，最终导致低灰阶显示出现颜色串扰，显示面板的低灰阶显示质量较差。本发明的方法在像素定义层上形成了倒梯形的像素支撑层，因此在形成发光层时，发光层材料会在倒梯形的像素支撑层处断开，避免形成连续的发光功能层膜层，随后在形成空穴注入层之后将像素支撑层进行了剥离。由此可以在剥离像素支撑层的同时将像素支撑层上方的发光功能层材料去除，进而在多个发光二极管之间形成发光层的间隙，有效切断载流子横向运输的途径，防止低灰阶串扰，提升了显示面板的低灰阶显示质量。并且，当无像素支撑层存在时，掩模版与基板分离时易将掩模版撕裂，导致工艺成本的增加和工艺流程的增多。当像素支撑层300存在时，像素支撑层300表面出现损伤后，像素支撑层300因损伤而脱落的像素支撑层材料会在发光功能层表面形成异物310，由于异物310的存在使得封装结构中的无机层320出现无机层间隙330，最终导致封装失效，显示面板表现为区域多暗点不良。故在蒸镀发光功能层前，在基板上设置像素支撑层以对掩模版进行支撑，可以有效防止掩模版刮伤蒸镀后的膜层，同时也能防止掩模版与基板贴合过于紧密从而使得掩模版受损；在进行封装工艺前对掩模版进行剥离，可有效降低掩模版损伤对封装结构无机层的破坏，同时在发光功能层上形成断开缝，进一步提高显示效果。

具体地：参考图1，该方法可包括以下步骤：

s100：在基板的一侧形成像素定义层

根据本发明的一些实施例，参考图2中的(a)，在该步骤于基板100的一侧形成像素定义层200，像素定义层可在基板上对子像素区域进行界定区分，便于后续工艺对于子像素区域的准确定位。像素定义层的结构不受特别限制，具体地，只要像素定义层可在基板上限定出包括红色子像素、蓝色子像素和绿色子像素在内的多个子像素即可。

s200：在像素定义层远离基板的一侧形成像素支撑层

根据本发明的一些实施例，参考图2中的(b)，在该步骤于像素定义层200远离基板100的一侧形成像素支撑层300，像素支撑层起支撑掩模版的作用，避免在蒸镀工艺中掩模版与蒸镀膜层直接接触，影响蒸镀效果，故设置像素支撑层以减少掩模版对膜层的破坏。像素支撑层的结构不受特别限制，例如像素支撑层在基板上的正投影至少环绕红色子像素所在区域。具体地，像素支撑层在基板上的正投影在满足环绕红色子像素所在区域的前提下，可将红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素所在区域彼此间隔开。

根据本发明的一个实施例，形成像素支撑层的材料不受特别限制，例如像素支撑层可由负性感光材料形成，具体地，负性感光材料包括氟醚类材料。

根据本发明的一些实施例，像素支撑层的厚度不受特别限制，具体地，像素支撑层的厚度范围可以为1～2微米。当像素支撑层的厚度小于1微米时，像素支撑层过薄，承载能力较差，无法起到支撑掩模版的作用。当像素支撑层的厚度大于2微米时，像素支撑层较厚，在进行后续像素支撑层的剥离工艺时，剥离较慢，耗时长，影响制备进程。

根据本发明的一些实施例，像素支撑层的宽度不受特别限制，例如像素支撑层的宽度可小于相邻的两个子像素之间的间隔宽度。具体地，像素支撑层的宽度范围可以为2～20微米。当像素支撑层的宽度小于2微米时，像素支撑层过窄，单位面积受压过大，无法起到支撑掩模版的作用。当像素支撑层的宽度大于20微米时，像素支撑层在基板上的正投影与像素定义层限定出的子像素区域在基板上的正投影相重合，当进行发光功能层的蒸镀工艺时部分子像素区域被像素支撑层遮挡，故无法在子像素区域内形成完整的发光功能层，极大地影响了显示效果。

s300：在像素支撑层远离像素定义层的一侧形成发光功能层

根据本发明的一些实施例，参考图2中的(c)，该步骤在像素支撑层300远离像素定义层200的一侧形成发光功能层400。在外界电压的驱动下，由电极注入的电子和空穴在有机发光层中复合形成处于束缚能级的电子空穴对即激子，激子辐射退激发发出光子，产生可见光。因此一般发光功能层含有一系列发光功能结构，从而有助于提升oled器件的发光性能。发光功能层通常采用蒸镀工艺形成，蒸镀工艺具有垂直选择性，当被蒸镀表面具有倒梯形结构时，蒸镀形成的发光功能层在倒梯形结构处会与倒梯形结构处周围平面形成段差，从而使得发光功能层在倒梯形结构处与周围平面断开，当倒梯形结构及其表面上的发光功能层被移除后，发光功能层在倒梯形结构处断开。

s400：将像素支撑层剥离

由此，剥离后可将倒梯形结构的像素支撑层及像素支撑层表面的发光功能层一同去除，从而可形成发光功能层的断开缝，进而起到防止低灰阶串扰的问题。

根据本发明的一些实施例，参考图2中的(d)，在蒸镀工艺完成后，像素支撑层不再起支撑效果，此时可将像素支撑层去除。为了减少像素支撑层的损伤对于封装结构的破坏，同时也为了在子像素周围形成发光功能层的断开缝，进而通过切断空穴在子像素间的横向传输，改善面板显示效果。在该步骤将像素支撑层剥离，像素支撑层的剥离不受特别限制，例如将含有像素定义层、像素支撑层、发光功能层的基板置于剥离液中，像素支撑层会逐步溶解于剥离液中进而脱落，此时像素支撑层上已形成的发光功能层也随之脱离基板，从而形成发光功能层的断开缝。根据本发明的一些实施例，形成剥离液的材料不受特别限制，例如形成剥离液的材料可包括氟醚类材料。

根据本发明的一些实施例，参考图4，发光功能层所包含的具体结构不受特别限制。例如可包括空穴注入层及空穴传输层、电子阻隔层、有机发光层、空穴阻隔层、电子注入层和电子传输层中的一个或多个。如前所述，本申请是通过剥离像素支撑层而在发光功能层处形成断开缝，从而起到防止低灰阶串扰的问题，因此发光功能层可以为有机发光二极管的多个有机膜层中载流子迁移率最高的一层或几层结构。例如，可至少令空穴注入层形成断开缝。或者，也可令空穴注入层和空穴传输层同时形成断开缝。

例如，根据本申请的一些实施例，发光功能层可以为空穴注入层、空穴传输层、电子阻隔层、有机发光层、空穴阻隔层和电子传输层。该方法可包括：

s310：在像素支撑层远离像素定义层的一侧形成空穴注入层

根据本发明的一些实施例，在该步骤中在像素支撑层远离像素定义层的一侧形成空穴注入层。由此，在外加电场的作用下，空穴从阳极注入空穴注入层。

s320：在空穴注入层远离像素支撑层的一侧形成空穴传输层

根据本发明的一些实施例，在该步骤中在空穴注入层远离像素支撑层的一侧形成空穴传输层。由此，以便空穴注入层的空穴经空穴传输层向有机发光层迁移。

s330：在空穴传输层远离空穴注入层的一侧形成电子阻隔层

根据本发明的一些实施例，在该步骤中在空穴传输层远离空穴注入层的一侧形成电子阻隔层。由此，当电子迁移到有机发光层中，由于电场的存在，电子可以继续向阳极迁移，导致有机发光层的电子浓度下降，发光效率降低。电子阻隔层，由于其特殊的能级结构，可以对电子形成迁移的势垒，阻止其进一步迁移。

s340：在电子阻隔层远离空穴传输层的一侧形成有机发光层

根据本发明的一些实施例，在该步骤中在电子阻隔层远离空穴传输层的一侧形成有机发光层。因为电子和空穴都需要在发光层中传输，故形成有机发光层的材料须需具备固态下有较强荧光、电子和空穴传输性能好、热稳定性和化学稳定性佳、量子效率高且能够真空蒸镀的特性。

s350：在有机发光层远离电子阻隔层的一侧形成空穴阻隔层

根据本发明的一些实施例，在该步骤中在有机发光层远离电子阻隔层的一侧形成空穴阻隔层。由此，当空穴迁移到有机发光层中，由于电场的存在，空穴可以继续向阴极迁移，导致发光区域空穴浓度下降，发光效率降低。而空穴阻隔层，由于其特殊的能级结构，可以对空穴形成迁移的势垒，阻止其进一步迁移。

s360：在空穴阻隔层远离有机发光层的一侧形成电子传输层

根据本发明的一些实施例，在该步骤中在空穴阻隔层远离有机发光层的一侧形成电子传输层。由此，以便电子注入层的电子经电子传输层向有机发光层迁移。

随后，可进行像素支撑层剥离的操作，由此，可将前述形成的空穴注入层、空穴传输层、电子阻隔层、有机发光层、空穴阻隔层和电子传输层均随着像素支撑层进行剥离，从而形成断开缝。随后，还可进行以下操作：

s370：在电子传输层远离空穴阻隔层的一侧形成电子注入层

根据本发明的一个实施例，在该步骤中在电子传输层远离空穴阻隔层的一侧形成电子注入层。由此，在外加电场作用下，电子从阴极注入电子注入层。

或者，发光功能层可以是空穴注入层、空穴传输层、电子阻隔层、有机发光层和空穴阻隔层，即可以在形成空穴注入层、空穴传输层、电子阻隔层、有机发光层和空穴阻隔层之后进行剥离的操作，从而形成断开缝。随后再形成电子传输层和电子注入层。

又或者，发光功能层可以是空穴注入层、空穴传输层、电子阻隔层和有机发光层，即可以在形成空穴注入层、空穴传输层、电子阻隔层和有机发光层之后进行剥离的操作，从而形成断开缝。随后再形成空穴阻隔层、电子传输层和电子注入层。

此外，发光功能层还可以是空穴注入层和空穴传输层，即可以在形成空穴注入层和空穴传输层之后进行剥离的操作，从而形成断开缝隙。随后再形成电子阻隔层、有机发光层、空穴阻隔层、电子传输层和电子注入层。

本领域技术人员能够理解的是，在像素支撑层剥离前形成的发光功能层的部分结构随着像素支撑层的剥离均会在像素支撑层对应位置形成断开缝。在像素支撑层剥离之后形成的部分结构在像素支撑层对应位置无断开缝。在像素支撑层剥离前形成的发光功能层的部分结构不受特别限制，只需要包括空穴注入层和空穴传输层即可，本领域技术人员可根据实际情况进行选择。

在本发明的另一方面，本发明提出了一种有机发光显示面板，参考图5，包括：基板100；像素定义层200，像素定义层在基板上限定出多个子像素；发光功能层400，发光功能层位于像素定义层远离基板的一侧；发光功能层在相邻的两个子像素之间的间隙处具有断开缝。发光功能层在相邻的两个子像素之间的断开缝可以有效切断空穴在相邻子像素间的横向传输，从而可以改善子像素间的颜色串扰，显著提高面板低灰阶显示质量。该有机发光显示面板可以是利用前面所述的方法制备的。由此，该有机发光显示面板可具有前述的方法获得的显示面板所具有的全部特征以及优点，在此不再赘述。

根据本发明的一些实施例，子像素种类不受特别限制，例如子像素可包括红色子像素、绿色子像素以及蓝色子像素。

根据本发明的一些实施例，参考图7，因为r(红色子像素)的启亮电压较低，故红色子像素较容易出现低灰阶颜色串扰。断开缝在基板上的正投影环绕的区域不受特别限制，具体地，断开缝在基板上的正投影的环绕部10可环绕红色子像素所在区域。

根据本发明的实施例，参考图8，断开缝在基板上的正投影具有环绕部10和第一连接部20，第一连接部20的方向与第一方向相同，环绕部10环绕r(红色子像素)所在区域，第一连接部20连接相邻的两个环绕部10并将位于第一方向上且相邻的g(绿色子像素)和b(蓝色子像素)间隔开。由此，可有效降低相邻红色子像素间以及部分蓝色子像素和绿色子像素间的低灰阶串扰。多个子像素沿第一方向和第二方向进行排布，例如，可沿第一方向排列成多行，沿第二方向排列成多列。本领域技术人员可理解的是，第一方向和第二方向可不完全垂直，也可具有一定夹角，该夹角可以不为90度。

根据本发明的实施例，参考图9，断开缝在基板上的正投影具有环绕部10、第一连接部20和第二连接部30。环绕部10环绕r(红色子像素)所在区域，第一连接部20连接在第一方向上相邻的两个环绕部10，且第一连接部20将位于第二方向上的g(绿色子像素)和b(蓝色子像素)所在区域隔开，第二连接部30连接在第二方向上相邻的两个环绕部10，且第二连接部20将位于第一方向上的绿色子像素和蓝色子像素所在区域间隔开。由此，可进一步有效降低相邻子像素间的低灰阶串扰。

该有机发光二极管是利用前述的方法制备的，因此可具有与前述方法获得的有机发光二极管相一致的结构。具体地，该断开缝可形成在电子传输层和电子注入层之间，也即是说，发光功能层可以为空穴注入层、空穴传输层、电子阻隔层、有机发光层、空穴阻隔层和电子传输层。

或者，断开缝可形成在空穴阻隔层和电子传输层之间，也即是说，发光功能层可以为空穴注入层、空穴传输层、电子阻隔层、有机发光层和空穴阻隔层。

又或者，断开缝可形成在有机发光层和空穴阻隔层之间，也即是说，发光功能层可以为空穴注入层、空穴传输层、电子阻隔层和有机发光层。

此外，断开缝还可以形成在空穴传输层和电子阻隔层之间，也即是说发光功能层可以为空穴注入层和空穴传输层。

根据本发明的实施例，发光功能层的组成不受特别限制，只要包括空穴注入层和空穴传输层即可。例如当发光功能层为空穴注入层、空穴传输层、电子阻隔层、有机发光层、空穴阻隔层和电子传输层时，此时有机发光显示面板进一步包括电子注入层。例如当发光功能层为空穴注入层和空穴传输层时，此时有机发光显示面板进一步包括：电子阻隔层、有机发光层、空穴阻隔层、电子传输层和电子注入层。具体地，当发光功能层为空穴注入层、空穴传输层、电子阻隔层和有机发光层时，有机发光显示面板可进一步包括：空穴阻隔层，电子传输层和电子注入层。例如当发光功能层为空穴注入层、空穴传输层、电子阻隔层、有机发光层和空穴阻隔层时，有机发光显示面板进一步包括：电子传输层和电子注入层。

本领域技术人员能够理解的是，参考图10，在像素定义层200上形成断开缝的发光功能层400只需要包括空穴注入层和空穴传输层，在具体实施中，其余发光功能层400未包括的常见发光功能结构如电子阻隔层、有机发光层、空穴阻隔层、电子传输层、电子输入层等结构可以在公共层500中包括。本领域技术人员可根据实际情况进行选择。

在本发明的又一方面，本发明提出了一种显示装置，包括显示面板，显示面板为前面的有机发光显示面板，或是利用前面的制备有机发光显示面板的方法获得的。由此，该显示装置具有前面的显示面板所具有的全部特征及优点，在此不再赘述。

下面通过具体的实施例对本申请的方案进行说明，需要说明的是，下面的实施例仅用于说明本申请，而不应视为限定本申请的范围。实施例中未注明具体技术或条件的，按照本领域内的文献所描述的技术或条件或者按照产品说明书进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市购获得的常规产品。

实施例1：

1、在基板上形成背板电路以及阳极和像素定义层。具体地，可包括：pi/buffer/active/gi1/gate1/gi2/gate2/ild/sd/pln/anode/pdl(pi：polyimide，聚酰亚胺；buffer：缓冲层；active：活化层；gi1：绝缘层1；gate1：栅极1；gi2：绝缘层2；gate2：栅极2；ild：interlayerdielectric，层间介质隔离；sd：源漏极；pln：层间平坦化层；anode：阳极；pdl：pixeldefinelayer，像素定义层)。

2、在上述膜层上，涂覆一层厚度为2微米的氟醚类材料，宽度为10微米，经曝光、显影得到倒梯形像素支撑层，像素支撑层包围红色子像素区。

3、在上述背板结构上，采取常见的蒸镀工艺蒸镀形成发光功能层：空穴注入层、空穴传输层、电子阻隔层、有机发光层、空穴阻隔层、电子传输层。

4、在上述有机膜层蒸镀完成后，将上述器件从蒸镀腔取出，转至氮气箱，置于氟醚类剥离液中。

5、将上述器件从氮气箱取出，转至蒸镀腔蒸镀完成电子注入层及常规器件结构。

6、按照常规工艺完成后续封装和模组工艺。

结果表明，红色子像素与蓝色子像素、绿色子像素区域相隔离，载流子横向传输被切断。显示面板未出现低灰阶串扰现象，显示效果良好。

实施例2：

1、在基板上形成背板电路以及阳极和像素定义层。具体地，可包括：pi/buffer/active/gi1/gate1/gi2/gate2/ild/sd/pln/anode/pdl(pi：polyimide，聚酰亚胺；buffer：缓冲层；active：活化层；gi1：绝缘层1；gate1：栅极1；gi2：绝缘层2；gate2：栅极2；ild：interlayerdielectric，层间介质隔离；sd：源漏极；pln：层间平坦化层；anode：阳极；pdl：pixeldefinelayer，像素定义层)。

2、在上述膜层上，涂覆一层厚度为2微米的氟醚类材料，宽度为10微米，经曝光、显影得到倒梯形像素支撑层，像素支撑层包围红色子像素区、蓝色子像素区以及绿色子像素区。

3、在上述背板结构上，采取常见的蒸镀工艺蒸镀形成发光功能层：空穴注入层、空穴传输层、电子阻隔层、有机发光层、空穴阻隔层、电子传输层。

4、在上述有机膜层蒸镀完成后，将上述器件从蒸镀腔取出，转至氮气箱，置于氟醚类剥离液中。

5、将上述器件从氮气箱取出，转至蒸镀腔蒸镀完成电子注入层及常规器件结构。

6、按照常规工艺完成后续封装和模组工艺。

结果表明，红色子像素、蓝色子像素以及绿色子像素之间均相隔离，载流子横向传输被切断。显示面板未出现低灰阶串扰现象，显示效果良好。

对比例1：

1、在基板上形成背板电路以及阳极和像素定义层。具体地，可包括：pi/buffer/active/gi1/gate1/gi2/gate2/ild/sd/pln/anode/pdl(pi：polyimide，聚酰亚胺；buffer：缓冲层；active：活化层；gi1：绝缘层1；gate1：栅极1；gi2：绝缘层2；gate2：栅极2；ild：interlayerdielectric，层间介质隔离；sd：源漏极；pln：层间平坦化层；anode：阳极；pdl：pixeldefinelayer，像素定义层)。

2、在上述背板结构上，蒸镀形成发光功能层：空穴注入层、空穴传输层、电子阻隔层、有机发光层、空穴阻隔层、电子传输层以及电子注入层。

3、在上述背板结构上，在蒸镀腔内蒸镀完成其余常规器件结构。

4、按照常规工艺完成后续封装和模组工艺。

结果表明，未含有像素支撑层的基板与金属掩模版接触后，金属掩模版将发光功能层刮伤，影响发光功能层的正常工作，无法满足显示要求。掩模版因与基板贴合过于紧密产生吸附静电，将掩模版拉起时因静电吸附力过大，掩模版发生撕裂，无法再次使用。

对比例2：

1、在基板上形成背板电路以及阳极和像素定义层。具体地，可包括：pi/buffer/active/gi1/gate1/gi2/gate2/ild/sd/pln/anode/pdl(pi：polyimide，聚酰亚胺；buffer：缓冲层；active：活化层；gi1：绝缘层1；gate1：栅极1；gi2：绝缘层2；gate2：栅极2；ild：interlayerdielectric，层间介质隔离；sd：源漏极；pln：层间平坦化层；anode：阳极；pdl：pixeldefinelayer，像素定义层)。

2、在上述膜层上，涂覆一层厚度为2微米的氟醚类材料，宽度为10微米，经曝光、显影得到倒梯形像素支撑层，像素支撑层包围红色子像素区、蓝色子像素区以及绿色子像素区。

3、在上述背板结构上，采取常见的蒸镀工艺蒸镀形成发光功能层：空穴注入层、空穴传输层、电子阻隔层、有机发光层、空穴阻隔层、电子传输层以及电子注入层。

4、在上述背板结构上，在蒸镀腔内蒸镀完成其余常规器件结构。

5、按照常规工艺完成后续封装和模组工艺。

结果表明，像素支撑层损伤脱落的异物使得封装结构出现封装不良，显示面板经信赖性测试后出现多暗点不良，显示性能无法满足要求。

在本发明的描述中，术语“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明而不是要求本发明必须以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“另一个实施例”等的描述意指结合该实施例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。

尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本发明的限制，本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。