技术特征：
1.一种硅片湿法刻蚀用槽体结构，其特征在于，包括：槽体(1)，所述槽体(1)内盛装有刻蚀溶液；溢流组件(2)，包括固定板(21)和活动板(22)，所述固定板(21)设置于所述槽体(1)的槽壁上，所述固定板(21)上设置有容纳槽(211)，所述活动板(22)可上下活动地设置于所述容纳槽(211)内，所述活动板(22)上设置有轴线沿竖直方向延伸的第一螺纹孔；调节螺栓(3)，所述调节螺栓(3)能旋拧于所述第一螺纹孔内并抵接于所述容纳槽(211)的槽底；或者所述容纳槽(211)的槽底对应所述第一螺纹孔设置有第二螺纹孔，所述调节螺栓(3)依次穿设于所述第一螺纹孔和所述第二螺纹孔内。2.根据权利要求1所述的硅片湿法刻蚀用槽体结构，其特征在于，所述活动板(22)的上表面与水平面平行。3.根据权利要求1所述的硅片湿法刻蚀用槽体结构，其特征在于，所述活动板(22)上沿其高度方向设置有刻度线。4.根据权利要求1所述的硅片湿法刻蚀用槽体结构，其特征在于，所述调节螺栓(3)的数量为多个，多个所述调节螺栓(3)沿所述活动板(22)的长度方向间隔排布，每个所述调节螺栓(3)均对应一个所述第一螺纹孔。5.根据权利要求1所述的硅片湿法刻蚀用槽体结构，其特征在于，所述固定板(21)的宽度从上至下逐渐增加。6.根据权利要求1所述的硅片湿法刻蚀用槽体结构，其特征在于，所述固定板(21)可拆卸连接于所述槽体(1)；或者所述固定板(21)焊接于所述槽体(1)上。7.根据权利要求1所述的硅片湿法刻蚀用槽体结构，其特征在于，所述槽体(1)外还套设有溢流槽，所述溢流槽能承接从所述槽体(1)内溢流的所述刻蚀溶液。8.根据权利要求1所述的硅片湿法刻蚀用槽体结构，其特征在于，所述固定板(21)和所述活动板(22)均采用聚偏氟乙烯材质制成。9.根据权利要求1-8中任一项所述的硅片湿法刻蚀用槽体结构，其特征在于，所述溢流组件(2)的数量为两个，两个所述溢流组件(2)分别设置于所述槽体(1)相对的两个槽壁上。10.一种湿法刻蚀设备，其特征在于，包括如权利要求1-9中任一项所述的硅片湿法刻蚀用槽体结构。
技术总结
本实用新型涉及硅片生产制造技术领域，公开一种硅片湿法刻蚀用槽体结构及湿法刻蚀设备。该硅片湿法刻蚀用槽体结构包括槽体、溢流组件和调节螺栓，槽体内盛装有刻蚀溶液；溢流组件包括固定板和活动板，固定板设置于槽体的槽壁上，活动板上设置有容纳槽，活动板可上下活动地设置于容纳槽内，活动板上设置有轴线沿竖直方向延伸的第一螺纹孔；调节螺栓能旋拧于第一螺纹孔内并抵接于容纳槽的槽底；或者容纳槽的槽底对应第一螺纹孔设置有第二螺纹孔，调节螺栓依次穿设于第一螺纹孔和第二螺纹孔内。所述硅片湿法刻蚀用槽体结构，结构简单，只需要旋拧调节螺栓即可实现活动板与固定板之间相对位置的调节，从而起到调节槽体内刻蚀溶液的液面高度的效果。的液面高度的效果。的液面高度的效果。
技术研发人员：易书令 唐步玉 姜大俊
受保护的技术使用者：盐城阿特斯阳光能源科技有限公司
技术研发日：2021.11.09
技术公布日：2022/4/5