，然后进行刻蚀处理，得到刻蚀后的圆 形金属钥片；
[0047] 使用RIE反应离子刻蚀机进行刻蚀处理，刻蚀时间为45min;刻蚀过程中采用SF6 作为反应气体对光孔边缘毛刺进行处理，反应功率为30W，反应时间为40min;
[0048] 将刻蚀后的圆形金属钼片进行双面蒸金处理，得到多孔结构光阑；使用蒸发台进 行表面蒸发金处理，蒸发时间为30min，蒸发厚度为2um。
[0049] 实施例3
[0050] 对厚度为50um的圆形金属钼片依次使用氨水、丙酮、酒精和去离子水进行超声清 洗，并使用流量为I. 5L/min的N2吹干；使用氨水、丙酮、酒精和去离子水对圆形金属钼片依 次进行超声清洗的时间均为IOmin;
[0051] 将经过N2吹干的圆形金属钼片进行烘干；采用加热板进行烘干，烘干时间为 2. 5min，烘干温度为125°C;
[0052] 将烘干后的圆形金属钼片使用匀胶机涂上2um的正性光刻胶，并依次进行前烘、 曝光、显影和坚膜处理，得到光刻后的圆形金属钼片；匀胶机转速分别为510转/分、1900 转/分，时间各为4s和86s;前烘时间为2min，前烘温度为130°C;曝光时间为IOs;坚膜时 间为60min;
[0053] 将光刻后的圆形金属钼片置于腐蚀液中搅拌65min，腐蚀液由磷酸、硝酸、乙酸和 去离子水组成，得到腐蚀后的圆形金属钼片；腐蚀液各组分的比例为12:20:13:55 ;
[0054] 将腐蚀后的圆形金属钼片用去离子水冲洗，然后进行刻蚀处理，得到刻蚀后的圆 形金属钼片；使用RIE反应离子刻蚀机进行刻蚀处理，刻蚀时间为50min;刻蚀过程中采用 SF6作为反应气体对光孔边缘毛刺进行处理，反应功率为120W，反应时间为45min;
[0055] 将刻蚀后的圆形金属钼片进行双面蒸金处理，得到多孔结构光阑；使用蒸发台进 行表面蒸发金处理，蒸发时间为20min，蒸发厚度为0. 5um。
[0056] 实施例4
[0057] 对厚度为50um圆形金属钼片依次使用氨水、丙酮、酒精和去离子水进行超声清 洗，并使用流量为I. 2L/min的N2吹干；使用氨水、丙酮、酒精和去离子水对圆形金属钼片依 次进行超声清洗的时间均为Ilmin;
[0058] 将经过N2吹干的圆形金属钼片进行烘干；采用加热板进行烘干，烘干时间为 2. 2min，烘干温度为122°C;
[0059] 将烘干后的圆形金属钼片使用匀胶机涂上I. 3um的正性光刻胶，并依次进行前 烘、曝光、显影和坚膜处理，得到光刻后的圆形金属钼片；匀胶机转速分别为500转/分、 2000转/分，时间各为5s和85s;前烘时间为I. 2min，前烘温度为122°C;曝光时间为9s; 坚膜时间为55min;
[0060] 将光刻后的圆形金属钼片置于腐蚀液中搅拌62min，腐蚀液由磷酸、硝酸、乙酸和 去离子水组成，得到腐蚀后的圆形金属钼片；腐蚀液各组分的比例为10:25:10:55 ;
[0061] 将腐蚀后的圆形金属钼片用去离子水冲洗，然后进行刻蚀处理，得到刻蚀后的圆 形金属钥片；
[0062] 使用RIE反应离子刻蚀机进行刻蚀处理，刻蚀时间为55min;刻蚀过程中采用SF6 作为反应气体对光孔边缘毛刺进行处理，反应功率为50W，反应时间为50min;
[0063] 将刻蚀后的圆形金属钼片进行双面蒸金处理，得到多孔结构光阑；使用蒸发台进 行表面蒸发金处理，蒸发时间为22min，蒸发厚度为0. 8um。
[0064] 实施例5
[0065] 对厚度为50um圆形金属钼片依次使用氨水、丙酮、酒精和去离子水进行超声清 洗，并使用流量为I. 7L/min的N2吹干；使用氨水、丙酮、酒精和去离子水对圆形金属钼片依 次进行超声清洗的时间均为13min;
[0066] 将经过N2吹干的圆形金属钼片进行烘干；采用加热板进行烘干，烘干时间为 2. 8min，烘干温度为128°C;
[0067] 将烘干后的圆形金属钼片使用匀胶机涂上I.Sum的正性光刻胶，并依次进行前 烘、曝光、显影和坚膜处理，得到光刻后的圆形金属钼片；匀胶机转速分别为500转/分、 2000转/分，时间各为5s和85s;前烘时间为I. 8min，前烘温度为128°C;曝光时间为Ils; 坚膜时间为50min;
[0068] 将光刻后的圆形金属钼片置于腐蚀液中搅拌68min，腐蚀液由磷酸、硝酸、乙酸和 去离子水组成，得到腐蚀后的圆形金属钼片；腐蚀液各组分的比例为10:30:10:50。
[0069] 将腐蚀后的圆形金属钼片用去离子水冲洗，然后进行刻蚀处理，得到刻蚀后的圆 形金属钥片；
[0070] 使用RIE反应离子刻蚀机进行刻蚀处理，刻蚀时间为50min;刻蚀过程中采用SF6 作为反应气体对光孔边缘毛刺进行处理，反应功率为80W，反应时间为45min;
[0071] 将刻蚀后的圆形金属钼片进行双面蒸金处理，得到多孔结构光阑；使用蒸发台进 行表面蒸发金处理，蒸发时间为27min，蒸发厚度为I. 8um。
[0072] 本发明中采用匀胶机使得光刻胶能够均匀涂抹在整个金属钼片表面，达到掩蔽的 效果，光刻胶既作为图形转移层，同时也是腐蚀掩蔽层；
[0073] 腐蚀后图形使用激光共聚焦显微观察，其形貌如图5。图中可见腐蚀后后图形完 整，边缘无明显毛刺，通过实验发现，腐蚀液各组分的择优比例为，10-15%的磷酸，20-30% 的硝酸，10-15%的乙酸，50% -60%的去离子水，以上各组分的质量百分比之和为100%， 腐蚀时间为60-70min，腐蚀效果为最好。下面通过实验进行说明，首先，腐蚀液中水的组分 比对于腐蚀速率有着很大的影响，如表1所示：
[0074] 表1水对腐蚀速率的影响（单位：ml)
[0075]
【主权项】
1. 一种多孔光阔的制备方法，其特征在于，包括w下步骤： 步骤1，对圆形金属钢片依次使用氨水、丙酬、酒精和去离子水进行超声清洗，并使用流 量为1-化/min的馬吹干； 步骤2,将步骤1中经过馬吹干的圆形金属钢片进行烘干； 步骤3,将步骤2中烘干后的圆形金属钢片使用匀胶机涂上1. 2-2um的正性光刻胶，并 依次进行前烘、曝光、显影和坚膜处理，得到光刻后的圆形金属钢片； 步骤4,将光刻后的圆形金属钢片置于腐蚀液中揽拌60-70min，得到腐蚀后的圆形金 属钢片，所述腐蚀液由W下组分组成；1〇-15 %的磯酸，20-30 %的硝酸，10-15 %的己酸， 50% -60%的去离子水，W上各组分的质量百分比之和为100% ; 步骤5,将腐蚀后的圆形金属钢片用去离子水冲洗，然后进行刻蚀处理，得到刻蚀后的 圆形金属钢片； 步骤6,将刻蚀后的圆形金属钢片进行双面蒸金处理，得到多孔结构光阔。
2. 根据权利要求1所述的一种多孔光阔的制备方法，其特征在于，步骤2中采用加热板 进行烘干，烘干时间为2-3min，烘干温度为120-130°C。
3. 根据权利要求1所述的一种多孔光阔的制备方法，其特征在于，步骤3中匀胶机涂胶 2次，转速分别为490-510转/分、1900-2100转/分，时间各为4-6s和80-90S ; 所述前烘时间为l-2min，前烘温度为120-130°C ;所述曝光时间为8-12S ;所述坚膜时 间为 3〇-60min。
4. 根据权利要求1所述的一种多孔光阔的制备方法，其特征在于，步骤5中使用RIE反 应离子刻蚀机进行刻蚀处理，刻蚀时间为45-60min。
5. 根据权利要求4所述的一种多孔光阔的制备方法，其特征在于，刻蚀过程中采用SF e 作为反应气体对光孔边缘毛刺进行处理，反应功率为110W-130W，反应时间为40-60min。
6. 根据权利要求1至5中任意一项所述的一种多孔光阔的制备方法，其特征在于，步骤 6中使用蒸发台进行表面蒸发金处理，蒸发时间为20-30min，蒸发厚度为0. 5-2um。
【专利摘要】本发明公开了一种多孔光阑的制备方法，包括以下步骤：对圆形金属钼片依次使用氨水、丙酮、酒精和去离子水进行超声清洗，并使用N2吹干；将经过N2吹干的圆形金属钼片进行烘干；使用匀胶机涂上正性光刻胶，并依次进行前烘、曝光、显影和坚膜处理，得到光刻后的圆形金属钼片；将光刻后的圆形金属钼片置于腐蚀液中搅拌，腐蚀液由磷酸、硝酸、乙酸和去离子水组成；用去离子水对腐蚀后的圆形金属钼片冲洗，然后进行刻蚀处理；将刻蚀后的圆形金属钼片进行双面蒸金处理，得到多孔结构光阑。本发明的一种多孔结构光阑的制备方法，解决了现有技术中存在的光阑加工效率低、成本高的技术问题。
【IPC分类】H01J37-09
【公开号】CN104599927
【申请号】CN201410817305
【发明人】臧源, 林涛, 李连碧, 封先锋, 马特, 袁思嘉
【申请人】西安理工大学
【公开日】2015年5月6日
【申请日】2014年12月24日