结构，在进行测试分析时，先以所述模块为单位进行栅介质完整性的测试，确认被击穿的所述模块；再以所述测试单元为单位，对被击穿的所述模块进行栅介质完整性的测试，确认被击穿测试单元，能够简化分析过程，避免分析过程对测试结构造成的损伤，从而保证测试分析的准确性。
[0033]2、本发明提供的用于栅介质完整性的测试结构及其测试方法，该测试结构的所述kX I个模块的阵列形成一个组，所述测试结构包括两个以上的所述组，同一所述组的模块之间并联连接后，所述组之间再并联连接，以对所述测试结构进行进一步分级，使得所述测试结构具有多层级结构，在进行测试分析时，可以逐层进行分析测试，直到确认被击穿测试单元，从而进一步的简化分析过程，保证测试分析的准确性。
【附图说明】
[0034]图1为现有技术中的用于栅介质完整性的测试结构的示意图；
[0035]图2a-图2e为本发明一实施例中用于栅介质完整性的测试结构的示意图；
[0036]图3为本发明一实施例中用于栅介质完整性的测试方法的流程图；
[0037]图4为本发明一实施例中用于栅介质完整性的测试方法的过程中测试结构的示意图。
【具体实施方式】
[0038]下面将结合示意图对本发明的用于栅介质完整性的测试结构及其测试方法进行更详细的描述，其中表示了本发明的优选实施例，应该理解本领域技术人员可以修改在此描述的本发明，而仍然实现本发明的有利效果。因此，下列描述应当被理解为对于本领域技术人员的广泛知道，而并不作为对本发明的限制。
[0039]为了清楚，不描述实际实施例的全部特征。在下列描述中，不详细描述公知的功能和结构，因为它们会使本发明由于不必要的细节而混乱。应当认为在任何实际实施例的开发中，必须做出大量实施细节以实现开发者的特定目标，例如按照有关系统或有关商业的限制，由一个实施例改变为另一个实施例。另外，应当认为这种开发工作可能是复杂和耗费时间的，但是对于本领域技术人员来说仅仅是常规工作。
[0040]在下列段落中参照附图以举例方式更具体地描述本发明。根据下面说明和权利要求书，本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。
[0041]本发明的核心思想在于，提供一种用于栅介质完整性的测试结构及其测试方法，对所述测试结构进行分级，然后逐级进行测试，以确认被击穿的测试单元，简化分析过程，避免分析过程对测试结构造成的损伤，保证测试分析的准确性。
[0042]结合上述核心思想，本发明提供一种用于栅介质完整性的测试结构，包括包括kX I个模块的阵列，每个所述模块由mXn个测试单元阵列形成，同一所述模块的测试单元之间并联连接后，所述模块之间再并联连接，其中，k、l、m、n均为自然数。
[0043]进一步，结合上述用于栅介质完整性的测试结构，本发明还提供了一种测试方法，包括以下步骤:
[0044]步骤S01，提供一衬底，根据所述的测试结构在所述衬底上形成实际待测结构；
[0045]步骤S02，以所述模块为单位进行栅介质完整性的测试，确认被击穿的所述模块；
[0046]步骤S03，以所述测试单元为单位，对被击穿的所述模块进行栅介质完整性的测试，确认被击穿测试单元。
[0047]以下列举所述用于栅介质完整性的测试结构及其测试方法的几个实施例，以清楚说明本发明的内容，应当明确的是，本发明的内容并不限制于以下实施例，其他通过本领域普通技术人员的常规技术手段的改进亦在本发明的思想范围之内。
[0048]以下请参考图2a-图2e，其中，图2a_图2e为本发明一实施例中用于栅介质完整性的测试结构的示意图。本第一实施例中，所述测试结构2分为两级:测试单元210、多个所述测试单元210组成的模块200。
[0049]所述测试结构2包括kX I个模块200的阵列，每个所述模块200由mXn个测试单元210阵列形成，其中，k、1、m、η均为自然数。在本实施例中，所述测试结构2包括2X2个模块200的阵列，每个所述模块200由4X4个测试单元210阵列形成，但是，k、l、m、n的取值范围并不做具体限制，具体由所述测试结构2的大小以及测试要求进行设置。同一所述模块200的测试单元210之间并联连接后，所述模块200之间再并联连接，从而使得所述测试结构2具有分级结构，在进行测试分析时，先以所述模块200为单位进行栅介质完整性的测试，在所述测试结构2中确认被击穿的所述模块200 ;再以所述测试单元210为单位，对被击穿的所述模块200进行栅介质完整性的测试，确认被击穿测试单元210，能够简化分析过程，避免分析过程对测试结构2造成的损伤，从而保证测试分析的准确性。
[0050]如图2a所示，图2a为所述测试结构2的基底层结构，所述测试结构2的基底层包括栅极201、有源区202以及接触孔(CT) 203，每一个所述测试单元210均具有一个所述栅极 201。
[0051]图2b为所述测试结构2的第一互连层结构，在本实施例中，在整个所述测试结构2中，所述测试单元210的基底通过第一金属线220连接，其中，所述第一金属线220位于第一互连层的金属层(M1)，所述第一互连层的金属层上具有第一互连层的通孔层(VI)，第一互连层的通孔层具有第一互连层通孔221。所述第一金属线220通常连接一第一垫片，用于施加电压。
[0052]图2c为所述测试结构2的第二互连层结构，如图2c所示，每一行的所述测试单元210的有源区通过第二金属线230连接，其中，所述第二金属线230位于第二互连层的金属层(M2)，所述第二互连层的金属层上具有第二互连层的通孔层(V2)，第二互连层的通孔层具有第二互连层通孔231。所述第二金属线230通常连接一第二垫片，用于施加电压。
[0053]同一所述模块200内，每一行的所述测试单元210的栅极通过第三金属线240连接，不同所述模块200之间的所述第三金属线240相隔绝。其中，图2d为所述测试结构2的第三互连层结构，如图2d所示，所述第三金属线240位于第三互连层的金属层(M3)，所述第三互连层的金属层上具有第三互连层的通孔层(V3)，第三互连层的通孔层具有第三互连层通孔241。
[0054]所述第三互连层通孔241均连接一第四金属线260，其中，所述第四金属线260位于第四互连层的金属层(M4)，如图2e所示，图2e为所述测试结构2的第四互连层结构，所述第四金属线260的布图以及形状并不做具体限制，所述第四金属线260通常连接一第三垫片，用于施加电压。从而，使得所述测试结构2具有分级结构。其中，所述测试结构2并不限于上述结构，只要可以实现所述测试结构2具有分级结构，亦在本发明的思想范围之内。另外，所述第一金属线220、第二金属线230、第三金属线240、所述第四金属线260并不限于位于第一互连层、第二互连层、第三互连层、第四互连层，只要所述第三金属线260位于所述第一金属线220以及第二金属线230的上层的互连层，所述第四金属线240位于所述第三金属线260的上层的互连层，亦在本发明的思想范围之内。
[0055]以下结合图3具体说明本实施例中用于栅介质完整性的测试结构的测试方法。
[0056]首先，进行步骤S11，提供一衬底，根据所述测试结构2在所述衬底上形成实际待测结构。
[0057]然后，进行步骤S12，以所述模块200为单位进行栅介质完整性的测试，确认被击穿的所述模块200。在进行步骤S12之间，一般需要先对所有的所述测试单元210施加电压，使得某些所述测试单元210的栅介质被击穿而失效，此为本领域的公知常识，在此不作赘述。较佳的，采用电压衬底技术，以所述模块200为单位进行栅介质完整性的测试，对所述测试结构2的所有模块200进行分析，被击