一种蒸镀掩模板及其制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示领域，尤其涉及一种显示器件的蒸镀掩模板。
【背景技术】
[0002]有机发光二极管器件(0LED，0rganic Light Emitting D1de)与传统的液晶显示器相比，具有更低的功耗，同时还拥有高亮度、高响应速度和宽色域，已经成为显示领域目前的主流器件。
[0003]不同于液晶显示器，0LED是自发光器件，传统0LED显示器像素点的着色方式是将红色、绿色、蓝色三种有机材料通过蒸镀的方式沉积在基板对应的像素位置上，三色通过配合发光从而形成各种高纯度画质的图像。在有机材料的蒸镀过程中需要用到一种蒸镀掩模板(蒸镀MASK)组件，如图1所示，是现有技术中的一种蒸镀掩模板的示意图，有机材料104通过蒸镀MASK 100的开口区域101蒸镀到基板103上，而遮挡区域102阻挡有机材料的沉积，在进行一种特定颜色的有机材料的沉积时，将蒸镀掩模板的开口区域对应到这种颜色在基板的相应位置上，这样便能够实现在基板的不同区域上蒸镀不同颜色的有机材料。
[0004]但是，现有技术在蒸镀的过程中，蒸镀MASK对有机材料的沾染严重，造成了有机材料的浪费。同时，有机材料的沾染会造成蒸镀MASK开口区域的面积发生变化，造成蒸镀不均匀从而产生显示像素阴影(由于蒸镀不均匀而造成的阴影区域)，影响有机发光器件的品质。另一方面，需要使用有机溶剂对蒸镀MASK表面沾染的有机材料进行定期的清洗，频繁的清洗工作既增加了人员成本，又影响生产效率，并且还会对蒸镀MASK造成磨损，提高了生产成本。
【发明内容】
[0005]鉴于现有技术存在的上述缺陷和不足，期望提供一种能够减少有机材料沾染的方案，为了实现上述目的，本发明提供了一种蒸镀掩模板及其制作方法。
[0006]本发明所提供的蒸镀掩模板包括:蒸镀掩模基板，蒸镀掩模基板包括开口区域和遮挡区域，设置在蒸镀掩模基板第一表面的不沾涂层，不沾涂层覆盖所述遮挡区域。
[0007]在本发明的一个实施例中，可选的，蒸镀掩模基板的材料包括金属合金:铁镍合金、镍钴合金或者铁钴合金中的任意一种。
[0008]可选的，不沾涂层为氧化铝与二氧化钛陶瓷膜，其中，铝原子与钛原子的摩尔百分比为2:1?20:1。
[0009]可选的，氧化铝与二氧化钛陶瓷膜中，铝原子与钛原子的摩尔百分比为2:1?5:1，氧化铝与二氧化钛陶瓷膜的厚度为0.5?2μηι。
[0010]在本发明的另一个实施例中，蒸镀掩膜基板具有第二表面，开口区域具有连接第一表面和第二表面的至少一个侧表面，不沾涂层覆盖侧表面。
[0011]本发明还提供了一种蒸镀掩模板的制作方法，包括:提供一蒸镀掩模基板，在蒸镀掩模基板上形成开口区域和遮挡区域，在蒸镀掩模基板第一表面形成不沾涂层，不沾涂层覆盖所述遮挡区域。
[0012]本发明所提供的蒸镀掩模板及其制作方法具有以下优点:
[0013]在蒸镀掩模板的表面设置不沾涂层，能够有效的防止有机材料在蒸镀掩模板表面的沾染，从而提高了有机材料的利用率。
[0014]本发明所使用的不沾涂层是氧化铝和二氧化钛陶瓷膜，通过优化制作材料的配比，获得的不沾涂层具有表面致密的特点，具有更好的耐受高温的特性，能够经受有机材料蒸镀过程中的高温，从而具有很好的稳定性，保证了有机材料的蒸镀精度。
【附图说明】
[0015]图1为现有技术中的一种蒸镀掩模板的示意图；
[0016]图2A是本发明实施例一所提供的一种蒸镀掩模板的俯视图；
[0017]图2B是图2A沿AA’的截面图；
[0018]图3是本发明实施例一的氧化铝与二氧化钛陶瓷膜的电子透射显微镜图；
[0019]图4是本发明实施例一所提供的又一种蒸镀掩模板示意图；
[0020]图5是本发明实施例二所提供的蒸镀掩模板的制作方法流程示意图；
[0021 ]图6是本发明实施例二制备氧化铝与二氧化钛溶胶的流程示意图；
【具体实施方式】
[0022]下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关发明，而非对该发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与发明相关的部分。
[0023]需要说明的是，在不冲突的情况下，本发明中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。
[0024]实施例一
[0025]如图2A所述是本实施例提供的一种蒸镀掩模板的俯视图，图2B是图2A沿AA’的截面图。
[0026]参考图2A和图2B，蒸镀掩模板200包括:蒸镀掩膜基板201，蒸镀掩膜基板201具有开口区域2011和遮挡区域2012，设置在蒸镀掩模基板201第一表面2013的不沾涂层202，不沾涂层202覆盖遮挡区域2012。
[0027]本实施例所提供的蒸镀掩模板200具有开口区域2011，在蒸镀的过程中，有机材料通过开孔区域2011蒸镀到基板上，而遮挡区域2012能够对蒸镀材料起到阻挡作用，从而在特定区域进行蒸镀。本实施例在蒸镀掩膜基板201的第一表面2013设置了不沾涂层202，在蒸镀过程中，能够有效防止蒸镀材料在蒸镀掩模板表面的沾染，从而提高了材料的利用率。而另一方面，因为减少了蒸镀材料在蒸镀掩模板表面的沾染，从而减少了对蒸镀掩模板的清洗频率，节省了人员成本，并且由于在清洗蒸镀掩模板的过程中会造成对掩模板的磨损，而清洗频率的减少能够减小对掩模板的损坏，从而节约了生产成本。
[0028]需要说明的是，本实施例中的开口区域2011不限定于图2A所示出的形状，开口区域2011可以根据需要设计为任何形状。
[0029]可选的，本实施例中蒸镀掩膜基板201的材料包括金属合金。
[0030]可选的，金属合金可以为铁镍合金、镍钴合金或者铁钴合金中的任意一种。
[0031]铁镍合金、镍钴合金或者铁钴合金具有较低的热膨胀系数，在较高的蒸镀温度下体积膨胀量很小，能够保证蒸镀掩模板具有稳定的形状，从而保证了蒸镀的精度。
[0032]可选的，本实施例中，不沾涂层202可以为氧化铝与二氧化钛陶瓷膜；
[0033]具体的，在进行蒸镀的过程中，蒸镀掩模板表面的局部温度会达到200度左右，在此温度下，物质分子间具有很强的结合力，因而对不沾材料提出了更高的要求，本实施例中的氧化铝与二氧化钛陶瓷膜，能够经受高温而不会产生变形。通过合适的配比优化，本实施例中的氧化铝与二氧化钛陶瓷膜材料的气孔和晶界减小，无机小分子紧密排列，在表面形成致密的结构特性。一般的蒸镀材料从蒸镀源喷射出以后会变成气体分子，当气体分子和不沾涂层表面的无机小分子接触，会产生弹性碰撞，不但不会对蒸镀材料沾染，还会弹走气体分子。并且，表面致密的结构使得缺陷少，膜层的硬度高，更耐清洗，多次的清洗也不会对蒸镀掩模板造成磨损。
[0034]本实施例中，当铝原子与钛原子的摩尔百分比为2:1?20:1，能够改变氧化铝陶瓷表面的粗糙形貌，形成致密的分子结构。
[0035]可选的，当铝原子与钛原子的摩尔百分比为2:1?5:1，所形成的氧化铝与二氧化钛陶瓷膜表面分子排列更加致密，对蒸镀材料的气体分子具有更好的阻挡和反弹效果，从而具有更好的不沾特性。
[0036]图3为本实施例氧化铝与二氧化钛陶瓷膜表面的电子透射显微镜图，如图3所示，氧化铝与二氧化钛陶瓷膜表面形成致密的晶粒，晶粒之间缺陷少，能够弹走蒸镀源喷射出的气体分子，使蒸镀材料不会沾染在蒸镀掩模板的表面，并且致密的晶粒使得氧化铝与二氧化钛陶瓷膜具有很高的硬度，更耐清洗，多次的清洗也不会对蒸镀掩模板造成磨损。
[0037]可选的，氧化铝与二氧化钛陶瓷膜的厚度为0.5?2μηι，这个厚度范围能保证覆盖良好，同时又不会增加蒸镀掩模基板重量，导致蒸镀掩模基板变形。蒸镀掩膜基板表面具有一定的粗糙度，当氧化铝与二氧化钛陶瓷膜的厚度小于0.5μπι，将不能有效覆盖蒸镀掩膜基板，而如果氧化铝与二氧化钛陶瓷膜的厚度大于2微米会增加蒸镀掩膜基板的重量，会对蒸镀掩膜基板造成形变，从而影响蒸镀的精度。
[0038]如图4所示，是在本实施例提供的又一种蒸镀掩模板示意图，与上述实施方式相同的部分，此处不再赘述，不同之处在于，蒸镀掩模基板401具有与第一表面4013相对的第二表面4014，开口区域4011具有连接第一表面4013和第二表面4014的至少一个侧表面4015，不沾涂层402覆盖侧表面4015。
[0039]在蒸镀的过程中，蒸镀掩模板400具有不沾涂层402的第一表面4013面对蒸镀源404，蒸镀源404通过开口区域4011将蒸镀材料喷射到基板403上，遮挡区域4012对蒸镀材料具有遮挡作用，从而使蒸镀材料蒸镀到基板403的指定区域中，在上述过程中，蒸镀材料不但在正对蒸镀源的表面容易沾染，在连接第一表面4013和第二表面4014的侧表面4015也非常容易沾染，蒸镀源在侧表面4015的沾染会造成开口区域面积的变化，从而造成蒸镀不均匀，形成显示像素阴影，影响有机发光器件的品质。本实施例中，通过在侧表面4015设置不沾涂层402