一般小于8度，其直接成型难度就会非常大，因而角度A的角度选择一般不小于15度，以提高可加工型。
[0050]同时，受冲压工艺的限制，发射头3个体不会太小，因而不会产生例如碳纤维或者说碳刷结构那样因产生集束结构而容易聚集微尘的问题，且其整体相对较短，也不容易产生钝化。
[0051]如图1至3所以，基片I构成电能传输单元，同时也构成了极板座，那么为了匹配负离子发射器的原理，发射头3需要朝向另一个电极，因而发射头需要从基片I所在的片面翻起而与所述片面成预定角度，从而形成与另一电极匹配。
[0052]现有的针式发射头，一般与其座部垂直，而本实施例中，发射头3并不必然需要与其座部部分垂直，或者说需要与基片I垂直，受两个方面因素的影响。第一因素是，发明人经过实验发现，发射头3的发射效率与角度的关系，其中的角度是指发射头3与基片I夹角。在一定范围内，角度的变化对发射效率的影响并不大，例如，两者相互垂直与两者成80度时的发射效率基本差不多。
[0053]另一个因素是可加工性，由于不锈钢，要让其变形就需要克服其屈服强度，在弹性形变范围内，在外力消除后，不锈钢会恢复到原来的形状，因而，在具体的加工中，冲出垂直的角度相对比较困难，且材料的各个方向的性质未必完全一样，换言之，当位于一个方向的发射头3能够与基片I垂直时，其他的发射头3未必与基片I垂直，尽管角度差别不大，但也绝对不会相同。
[0054]综合以上两个因素和具体的试验，确定发射头3与基片I的角度控制在60度以上即可，如果工艺允许，垂直是追求的角度，但并不是必然要保证的角度，能够做到78度以上，其使用效果即可得到保证。
[0055]发射头3可以以一个为单元构成单体单元，也可以多个发射头3构成一个单元，整体上构成一个“大”的发射头，以满足“发射头”的适应性布局，例如图1-图3中各种不同的应用中，“大”的发射头为满足单头功率而具有更好的适应性。
[0056]所述发射头3成组成型时，成归属于一个单元的多个发射头3构成为发射头单元4，或者说每组发射头3称为一个发射头单元4。
[0057]在个体较小的负离子发生器中，发射头单元4可以仅配置为一个，而在功率相对比较大的负离子发生器中，显然处于发射头分布和整体发射量上的考虑，单个发射头单元4往往不能满足技术要求。
[0058]当多个发射头单元4共存时，容易伴生臭氧，发明人经过研宄发现，合理分布发射头，能够有效减少臭氧的产生，经过长期的研发发现，当发射头单元4的间距大于等于3cm，所伴生的臭氧量能够保持在安全的浓度范围内。
[0059]尽管随着单个发射头单元4的功率的变化对相互间的间距需要有所调整，一般而言，大于3cm在大多数应用中所伴生的臭氧浓度是可以接受的。
[0060]本申请成组配置发射头3的方式并没有为本领域的技术人员所熟知，例如碳刷发射头，强调发射头的数量，并没有实际产生分组。对于针式发射头当前一般也只是强调个体数量。
[0061]关于发射头单元4的分布密度，需要考虑具体的应用，在如图2所示的应用中，可以应用在例如帽檐上，发射头单元4之间的间距相对比较大，但一般要控制在1cm以内，以适应对负离子整体弥散度的要求。
[0062]除此之外，例如图1所示的结构，发射头单元4可以在一个基片I上阵列分布，例如构成行列矩阵结构，从而使整体结构相对比较紧凑，发射头单元4之间的间距可以相对比较小。
[0063]在图2和图3所示的实施例中，所述发射头3成型在基片I的边缘，其可加工性在已做的实施例中最好，或者说整体的制造成本相对比较低，制作效率相对比较高。
[0064]在负离子发生器上的装配，例如图2所示的结构，可以作为发生单元，多个负离子发射头装置协同配置在一个发生器中。
[0065]在图1所示的结构中，所述发射头3成型在基片I的片面上，图中发射头I在一个发射头单元4中成圆形阵列，通过模具冲头的合理配置，可以成组成型。
[0066]对于一些大功率的应用，一个负离子发射头装置适配于一个发生器，因而，在这样的应用中，所述发射头3充分利用基片I的空间，成型在基片I的边缘和基片I的片面上。
[0067]关于所述尖角的角度，也就是图1中所标示的A，应当小于等于60度，避免角度A过钝，电晕效应降低，同时也会降低单位基片I成型出的尖角个数，或者说发射头3的个数会受到比较大的影响。
[0068]基于前述的内容可知，发射头3的尖角一般要控制在15度以上，如果工艺上可行，可以将所述角度制作的相对较小，但不易小于2度，不只是成型工艺难度过大的问题，而是其整体效率并没有因此得到提升。
[0069]经过测试，在30度到45度的区间内，以图1中所示的发射头单元4为例所产生的发射头装置，整体效率较佳，且成型难度相对也比较低，而较小的尖角角度并没有使整体效率有明显的提升。
[0070]基于前述的内容，所产生的新的负离子发射头装置具有更加广泛的应用前景，因而所产生多种新式的负离子发生器，例如匹配图3所示的结构，可以应用于具有弧度的应用中，例如圆形构件，比如防雾霾帽子，将其装配在帽舌或者帽檐上。
[0071]在该负离子发射头装置的应用中，或者说所产生的负离子发生器，其驱动电路，除了接线上的少许改变外，也就是专用线缆的舍弃外，没有改动，本领域的技术人员据此可以根据驱动功率进行相关驱动电路的选择。
[0072]一种负离子发生头装置的成型工艺，包括以下:
[0073]在给定的具有塑性的导电片材的预定位置冲裁出尖角，其中导电片材构成基片1，尖角构成发射头3 ；
[0074]将所述尖角向预定的方向翻起，使该尖角与所述导电片材的片面成预定角度。
[0075]在优选的实施例中，所述尖角分组，每组尖角为偶数个，且翻起后构成一个圆形阵列；从而具有圆形阵列的尖角组的成型方法是:
[0076]采用上下冲头的对冲，相应的两冲头相同，一个冲头相对于另一个冲头周向偏转一个匹配尖角的成型头；从而对冲后形成相互间隔的尖角；
[0077]然后转移工位，在转移到的工位，使用与圆形阵列同轴线的锥头圆柱冲头将尖角翻起。
[0078]其中，该优选的实施例主要应用于图1所示的负离子发射头装置，主要是所示的圆孔2比较小，或者说直径过小，如果不采用两个冲头对冲，很难精确地冲出太多的发射头O
[0079]并且一般而言，将发射头I看成是一个等腰三角形，在图1至图3所示的实施例中，一般其腰长控制在1.25mm左右，通常不大于2mm，且不小于1mm，个体非常小，单纯的一个冲头从一个方向的冲裁很难成型出如此之小的结构。采用两冲头对冲的方式可以有效的解决这个问题。
[0080]在图3所示的结构中，例如装配孔6和定位槽7可以预先冲出，以用于后续工位的定位，例如装配孔6也可以作为后续工序中的定位孔使用。
【主权项】
1.一种负离子发射头装置，其特征在于，包括: 基片(I)，为具有塑性的导电片材件；以及 发射头(3)，为在基片(I)上预定位置冲裁出的尖角，从基片(I)所在的片面翻起而与所述片面成预定角度。
2.根据权利要求1所述的负离子发射头装置，其特征在于，所述发射头(3)成组成型，而构成为发射头单元(4)。
3.根据权利要求2所述的负离子发射头装置，其特征在于，发射头单元(4)间的间距大于等于3cm，且不大于10cm。
4.根据权利要求1至3任一所述的负离子发射头装置，其特征在于，所述发射头(3)成型在基片(I)的边缘。
5.根据权利要求1至3任一所述的负离子发射头装置，其特征在于，所述发射头(3)成型在基片(I)的面上。
6.根据权利要求1至3任一所述的负离子发射头装置，其特征在于，所述发射头(3)成型在基片(I)的边缘和基片(I)的面上。
7.根据权利要求1所述的负离子发射头装置，其特征在于，所述基片(I)采用厚度为0.15-0.50mm的不锈钢片。
8.根据权利要求1或7所述的负离子发射头装置，其特征在于，所述尖角小于等于60度，且大于等于2度。
9.根据权利要求1或7所述的负离子发射头装置，其特征在于，所述预定角度为90度。
10.一种负离子发生器，其特征在于，包括如权利要求1-9任一所述的负离子发射头装置。
【专利摘要】本实用新型公开了一种负离子发射头装置和发生器，区别于已有的负离子发射头装置将发射头另行焊接集束或者使用碳刷，并另行配线的结构，依据本实用新型的实施例，采用在基片上成型出发射头的结构，其中基片与发射头材质相同，自身具有导电性，不需要另行配线，且相对而言，基片的电阻比配线的电阻小。由于不必考虑焊接，因而发射头的长度不再受焊接的限制。并且冲制出的发射头硬度相对较大，不容易钝化，发射头之间相互分散，而不至于聚集较多的微尘。
【IPC分类】H01T23-00
【公开号】CN204497571
【申请号】CN201520238835
【发明人】周红伟, 李佳桐
【申请人】济南伟桐环保科技有限公司
【公开日】2015年7月22日
【申请日】2015年4月20日