标识、手机的玻璃盖板及带标识的基板的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及手机技术领域，特别是涉及一种标识、手机的玻璃盖板及带标识的基 板的制作方法。
【背景技术】
[0002] 通常情况下，手机盖板玻璃上设置有各种标识，如LOGO(标志）、名称、修饰图案 等。而现有的标识通常是通过丝印油墨本身的颜色和图案来表现的，其炫目度有限，不能满 足消费者的观感需求。
【发明内容】
[0003] 基于此，有必要提供一种具有较炫目的观感的标识、手机的玻璃盖板及带标识的 基板的制作方法。
[0004] 一种标识，包括：
[0005] 炫目层，其形状与所述标识的形状相同；及
[0006] 透光油墨层，设于所述炫目层上；
[0007] 其中，所述炫目层靠近所述透光油墨层的一侧具有激光全息光栅图案。
[0008] 在其中一个实施例中，所述炫目层为氧化物膜层。
[0009] 在其中一个实施例中，所述炫目层为Si02膜层、Ti02膜层、Zr0 2膜层、A1203膜层、 BaTi03膜层、LiNb03膜层、KTa03膜层或PbTi0 3膜层。
[0010] 在其中一个实施例中，所述炫目层为UV胶层。
[0011] 在其中一个实施例中，所述标识还包括设于所述炫目层与所述透光油墨层之间的 增透膜。
[0012] 在其中一个实施例中，所述增透膜包括交错排布的Si02条带及Ti02条带。
[0013] 在其中一个实施例中，所述标识还包括设于所述增透膜与所述透光油墨层之间的 反射层。
[0014] 在其中一个实施例中，所述反射层为Si02膜层、ZnS膜层、镜面Ag层或镜面Au层。
[0015] 在其中一个实施例中，所述炫目层的厚度为15nm~20nm，所述增透膜的厚度为 15nm~20nm，所述反射层的厚度为15nm~20nm，所述透光油墨层的厚度为15nm~20nm。
[0016] 一种手机的玻璃盖板，包括：
[0017] 玻璃基板；及
[0018] 上述的标识，所述炫目层远离所述透光油墨层的一侧设于所述玻璃基板上。
[0019] 在其中一个实施例中，所述玻璃基板设有标识的一侧具有遮光区及用于设置标识 的标识区，所述标识区的形状与所述标识的形状相同，所述遮光区上设有遮光油墨层。
[0020] 一种带标识的基板的制作方法，包括如下步骤：
[0021] 提供基板及全息模版，所述全息模版具有激光全息光栅图案；
[0022] 在所述基板上形成炫目中间层，其中，所述炫目中间层的形状与待制作的标识的 形状相同，所述炫目中间层经固化处理后即可得到炫目层；
[0023] 将所述全息模版压制于所述炫目中间层上，并对所述炫目中间层进行固化处理， 得到炫目层，所述炫目层远离所述基板的一侧具有激光全息光栅图案；及
[0024] 在所述炫目层上形成透光油墨层，即得到所述带标识的基板。
[0025] 在其中一个实施例中，所述炫目层为氧化物膜层，在所述基板上形成炫目中间层 的具体步骤如下：
[0026] 提供与氧化物膜层对应的前驱体，并采用溶胶法制得与氧化物膜层对应的溶胶；
[0027] 将所述与氧化物膜层对应的溶胶涂布于所述基板上，并采用匀胶机匀胶，得到中 间产品；及
[0028] 在温度为70摄氏度~110摄氏度的烘道内对所述中间产品烘烤lmin~5min，即 得所述炫目中间层。
[0029] 在其中一个实施例中，在将所述全息模版压制于所述炫目中间层上，并对所述炫 目中间层进行固化处理，得到炫目层的步骤中，所述全息模版的温度为70摄氏度~110摄 氏度，施加于所述全息模版上的压力为lkg/cm 2~5kg/cm2,所述全息模版压制于所述炫目 中间层上的时间为5min~lOmin。
[0030] 在其中一个实施例中，所述炫目层为UV胶层，在所述基板上形成炫目中间层的具 体步骤如下：在所述基板上涂布UV胶。
[0031] 在其中一个实施例中，在将所述全息模版压制于所述炫目中间层上，并对所述炫 目中间层进行固化处理，得到炫目层步骤中，在将所述全息模版压制于所述炫目中间层上 后，对所述炫目中间层进行黄光照射固化。
[0032] 在其中一个实施例中，所述基板设有标识的一侧具有遮光区及用于设置标识的标 识区，所述标识区的形状与待制作的标识的形状相同，在所述基板上形成炫目中间层的步 骤前，还包括在所述遮光区丝印遮光油墨层的步骤。
[0033] 在其中一个实施例中，还包括在所述炫目层与所述透光油墨层之间形成增透膜的 步骤；其中，所述增透膜包括交错排布的Si0 2条带及Ti02条带，形成Si02条带与Ti02条带 的方法为磁控溅射法或电子束蒸发法。
[0034] 在其中一个实施例中，还包括在所述增透膜与所述透光油墨层之间形成反射层的 步骤；其中，所述反射层为Si02膜层、ZnS膜层、镜面Ag层或镜面Au层，形成Si02膜层与 ZnS膜层的方法为磁控溅射法或电子束蒸发法，形成镜面Ag层与镜面Au层的方法为电子束 蒸发法或丝网印刷法。
[0035] 上述标识通过增设一侧具有激光全息光栅图案的炫目层，从而可以利用光的反射 式干涉，进而使得上述标识具有更加炫目的观感。
【附图说明】
[0036] 图1为一实施方式的玻璃盖板的结构示意图；
[0037] 图2为标识的结构示意图；
[0038] 图3为一实施方式的带标识的基板的制作方法的流程图；
[0039] 图4为全息模版、玻璃基板与炫目中间层的结构示意图；
[0040] 图5为玻璃基板与炫目层的结构示意图。
【具体实施方式】
[0041] 下面结合附图及具体实施例对标识、手机的玻璃盖板及带标识的基板的制作方法 进行进一步的说明。
[0042] 如图1及图2所示，一实施方式的玻璃盖板10,包括玻璃基板100及设于玻璃基板 100上的标识200。
[0043] 在本实施方式中，标识200形成于玻璃基板100上，其用途是生产手机。可以理解， 在其他实施方式中，标识200也可以形成于塑胶基板等其他材质的基板上。显然，标识200 的用途也不限于生产手机，也可以用于生产平板等。
[0044] 玻璃基板100设有标识200的一侧具有遮光区（图未标）及用于设置标识200的 标识区（图未标）。标识区的形状与标识200的形状相同，遮光区上设有遮光油墨层110。
[0045] 标识200包括依次层叠设置的炫目层210、增透膜220、反射层230及透光油墨层 240,其中，炫目层210远离透光油墨层240的一侧设于玻璃基板100上，其形状与标识200 的形状相同。
[0046] 如图5所示，炫目层210靠近透光油墨层240的一侧具有激光全息光栅图案，从而 使得标识200可以利用光的反射式干涉，进而使得标识200具有更加炫目的观感。也即，激 光全息光栅图案可以对入射光进行反射后产生干涉现象，光照时，在一定角度下观看标识 200,将产生如⑶盘表面一样的发散式光图案。
[0047] 炫目层210可以为氧化物膜层或UV(ultraviolet，紫外）胶层，其中，氧化物膜层 可以为Si0 2膜层、Ti02膜层、Zr02膜层、A1203膜层、BaTi0 3膜层、LiNb03膜层、KTa03膜层或 PbTi03 膜层。
[0048] 为了得到清晰、明亮的激光全息光栅图案，在炫目层210上设置增透膜220以增加 入射光的透过率。可以理解，在其他实施方式中，增透膜220可以省略。进一步，在本实施 方式中，增透膜220包括交错排布的Si0 2条带及Ti02条带。可以理解，在其他实施方式中， 也可以选用其他能增加光线透过率的膜材。
[0049] 为了得到清晰、明亮的激光全息光栅图案，在增透膜220上设置反射层230以增强 入射光的反射强度。可以理解，在其他实施方式中，反射层230可以省略。进一步，在本实 施方式中，反射层230优选为Si0 2膜层、ZnS膜层、镜面Ag层或镜面Au层。
[0050] 透光油墨层240能遮掩和装饰手机、平板等设备的内部器件。
[0051] 进一步，在本实施方式中，炫目层210的厚度为15nm~20nm，增透膜220的厚度为 15nm~20nm，反射层230的厚度为15nm~20nm，透光油墨层240的厚度为15nm~20nm。
[0052] 如图3所示，在本实施方式中，还提供一种带标识的基板的制作方法，包括如下步 骤：
[0053] 步骤310,提供基板及全息模版，全息模版具有激光全息光栅图案。
[0054] 其中，基板为用于制作手机盖板的玻璃基板。玻璃基板设有标识的一侧具有遮光 区及用于设置标识的标识区。标识区的形状与标识的形状相同。
[0055] 如图4所7K,全息模版400具有激光全息光栅图案。全息模版400的制作过程如 下：先采用激光全息技术制作出全息照片，再将全息照片复制到金属镍板上，从而形成具有 激光全息光栅图案的全息模版400。即，在本实施方式中，全息模版400为镍板。可以理解， 在其他实施方式中，全息模版400也可以是PET (polyethylene terephthalate，聚对苯二 甲酸乙二醇酯）基材