本实用新型涉及薄膜技术领域，尤其涉及一种光学离型膜。
背景技术：
离型膜是指表面具有分离性的薄膜，离型膜与特定的材料在有限的条件下接触后不具有粘性，或轻微的粘性。
离型膜，又称剥离膜、隔离膜、分离膜、阻胶膜、离形膜、薄膜、塑料薄膜、掩孔膜、硅油膜、硅油纸、防粘膜、打滑膜、天那纸、离型纸。通常情况下为了增加塑料薄膜的离型力，会将塑料薄膜做等离子处理，或涂氟处理，或涂硅离型剂于薄膜材质的表层上，让它对于各种不同的有机压感胶可以表现出极轻且稳定的离型力。
由于离型膜具有隔离、填充、保护、易于剥离等优点，因此被广泛的应用于各种电子、通信、机械等领域中。
随着手机，平板电脑等电子产品的普及，对透光性好离型膜的需求越来越大，同时贴合在电子产品上的离型膜不能影响使用手感和外观，否则导致体验不佳。
此外，离型膜在剥离和贴合过程中积累大量静电荷，大量静电荷的积累会在离型膜的使用过程中对电子产品产生致命性的破坏风险，大量静电荷的产生也会吸附尘埃粒子，造成电子产品生产过程中的不良，而且离型膜与电子产品贴合容易产生气泡影响美观。
技术实现要素：
为了解决现有技术中的问题，本实用新型的目的是提供一种光学离型膜。
为了实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：一种光学离型膜，包括防静电层，基材层和离型膜层，所述防静电层设置有复数个第一凹槽，所述防静电层外侧设置有基材层，所述基材层于第一凹槽对应位置设置有第二凹槽，所述第一凹槽和第二凹槽围成的空间填充有胶黏剂层，所述基材层外侧设置有离型膜层，所述基材层和离型膜层间设置有中间层。
优选的是，所述基材层为PET层。
优选的是，所述胶黏剂层采用的胶黏剂为硅胶胶黏剂。
优选的是，所述离型膜层为硅油层。
优选的是，所述中间层为纳米SiO2层。
优选的是，所述纳米SiO2层中的SiO2为球状纳米颗粒，所述SiO2的直径为100-200nm。
优选的是，所述光学离型膜的总厚度为50-55μm。
与现有技术相比，本实用新型实现的有益效果：本实用新型光学离型膜设置有第一凹槽和第二凹槽，胶黏剂层设置于第一凹槽和第二凹槽围成的空间内，两个凹槽的设计使得防静电层和基材层间的连接更加稳固，降低胶黏剂层的厚度，同时两个凹槽的设计节省了空间，降低了整个光学离型膜的厚度，提高了光学离型膜的透光性；本实用新型光学离型膜设置有防静电层，使得光学离型膜抗静电，不会产生电荷积累，避免了对电子产品带来损害，同时减少灰尘的产生；本实用新型光学离型膜在基材层和离型膜层间设置中间层，中间层为纳米SiO2层，纳米SiO2比表面积大，吸附力强，与离型膜层的相互作用力大，在光学离型膜剥离时，易剥离，避免留有残胶。
附图说明
以下结合附图和具体实施方式来进一步详细说明本实用新型：
图1是本实用新型光学离型膜的结构示意图。
其中：防静电层1，第一凹槽1-1，基材层2，第二凹槽2-1，离型膜层3，胶黏剂层4，中间层5。
具体实施方式
如图1，一种光学离型膜，包括防静电层1，基材层2和离型膜层3，所述防静电层1设置有3个第一凹槽1-1，所述防静电层1外侧设置有基材层2，所述基材层2于第一凹槽1-1对应位置设置有第二凹槽2-1，所述第一凹槽1-1和第二凹槽2-1围成的空间填充有胶黏剂层4，所述基材层2外侧设置有离型膜层3，所述基材层2和离型膜层3间设置有中间层5。
所述防静电层1的设计使得光学离型膜抗静电，不会产生电荷积累，避免了对电子产品带来损害，同时减少灰尘的产生。
所述基材层2为PET层。
防静电层1与基材层2在对应位置分别设置有第一凹槽1-1和第二凹槽2-1，第一凹槽1-1和第二凹槽2-1围成的空间用于容纳胶黏剂层4，节省了胶黏剂层4占用的空间，降低了整个光学离型膜的厚度。
所述胶黏剂层4采用的胶黏剂为硅胶胶黏剂。
所述离型膜层3为硅油层。
所述中间层5为纳米SiO2层，所述纳米SiO2层中的SiO2为球状纳米颗粒，所述SiO2的直径为100-200nm，此纳米SiO2层具有较大的比表面积，对离型膜层3的吸附力强，在光学离型膜剥离时，离型膜层3易于剥离，并且避免留有残胶。
所述光学离型膜的总厚度为50-55μm，光学离型膜的透光性好，并且该总厚度的光学离型膜不会影响手感和外观，保证客户对电子产品的体验效果。
上述的具体实施方式只是示例性的，是为了更好地使本领域技术人员能够理解本专利，不能理解为是对本专利包括范围的限制；只要是根据本专利所揭示精神的所作的任何等同变更或修饰，均落入本专利包括的范围。