层积光学膜制造装置的制造方法
【技术领域】
[0001 ]本实用新型涉及一种设有遮光帘的层积光学膜制造装置。
【背景技术】
[0002]近年来，随着显示器的不断普及，作为显示器的关键部件之一的光学显示装置的制造技术也受到了越来越多的关注。目前，广泛应用将光学膜贴合在玻璃基板的正反两面上从而制造光学显示装置的技术。因此，光学膜的生产也有更高的要求。
[0003]层积光学膜制造装置主要包括染色延伸处理部、干燥处理部、涂敷部、粘合部、光硬化部等。而且，通常为了防止外部光进入涂敷部、粘合部、光硬化部，遮蔽来自人或物频繁出入的场所的光，而在通路上设置百叶窗或者门。在外部光射入光硬化部时，由于与光硬化有关的波长的外部光，使光硬化处理受到损害，从而损害层积光学膜的品质。一般来说，层积光学膜的光硬化处理使用300nm?500nm波长的光源。
[0004]但是，在人或物出入时需要将百叶窗或门打开得很大，这时很难将光完全遮住。存在当人或物出入时，外部光进入涂敷部、粘合部、光硬化部，与光硬化处理有关的波长的外部光对层积光学膜制造装置的作业产生不好的影响。
[0005]专利文献:日本特开2005-343113号公报【实用新型内容】
[0006]本实用新型的目的在于，提供一种既能遮蔽与层积光学膜的光硬化处理有关的波长的外部光、又方便出入的层积光学膜制造装置。
[0007]为了解决上述问题，本实用新型提供一种层积光学膜制造装置，其向光学膜及/或保护膜上涂敷光硬化粘接剂，并将涂敷了光硬化粘接剂的光学膜和保护膜彼此贴合并进行光硬化处理从而制造层积光学膜，所述层积光学膜制造装置的特征在于，具有:光硬化粘接剂供给装置，其向涂敷所述光硬化粘接剂的涂敷部供给光硬化粘接剂;光硬化粘接剂存储罐，其与该光硬化粘接剂供给装置连接，并存储光硬化粘接剂;在设置有所述光硬化粘接剂存储罐的通路的敞开空间中的至少外部光射入的全部开口部设置有遮光帘，所述遮光帘贴合有具有能够遮蔽或吸收波长300nm?500nm的光的功能的遮光膜。
[0008]优选的是，所述层积光学膜制造装置被墙壁包围而形成房间，设置在无尘室中，在其与相邻的层积光学膜制造装置或者与所述无尘室的墙壁之间形成有设置所述光硬化粘接剂存储罐的所述通路，
[0009]所述光硬化粘接剂存储罐设置在所述通路的至少由所述遮光帘包围的遮光空间中，以防止波长300nm?500nm(即与层积光学膜的光硬化处理有关的波长)的外部光进入所述光硬化粘接剂存储罐。
[0010]优选的是，所述遮光帘有两个，分别在与设置有所述光硬化粘接剂存储罐的所述通路的出入口，横跨所述通路的整个宽度方向地设置，
[0011]所述遮光空间由所述遮光帘、所述层积光学膜制造装置的墙壁、无尘室的墙壁或者相邻的层积光学膜制造装置的墙壁围成。
[0012]优选的是，所述遮光帘有三个，其中两个所述遮光帘分别在与设置有光硬化粘接剂存储罐的所述通路的出入口，从所述层积光学膜制造装置的墙壁沿所述通路的宽度方向局部地设置，另一个所述遮光帘沿所述通路的方向连接设置在两个所述遮光帘之间，
[0013]所述遮光空间分别由所述遮光帘、所述层积光学膜制造装置的墙壁围成。
[0014]优选的是，所述遮光帘由多个遮光帘单体构成，该遮光帘单体中彼此相邻的遮光帘单体相互部分重叠，以遮蔽波长300nm?500nm(即与层积光学膜的光硬化处理有关的波长)的外部光并且方便进出。
[0015]优选的是，彼此相邻的遮光帘单体相互部分重叠的重叠部分的宽度为200mm?300mmo
[0016]优选的是，该遮光帘单体的宽度为500mm?600mm，厚度为40μπι?ΙΟΟμπι。
[0017]优选的是，层积光学膜制造装置具有:第一涂敷部，其将光硬化粘接剂涂敷在保护膜上;第二涂敷部，其将光硬化粘接剂涂敷在光学膜上;贴合部，其将涂敷了光硬化粘接剂的光学膜与保护膜彼此贴合;光硬化部，其对贴合了保护膜的光学膜进行光硬化处理。
[0018]优选的是，层积光学膜制造装置还具有:原料膜供给部，其供给原料膜;保护膜供给部，其供给保护膜;染色延伸处理部，其对原料膜进行染色延伸处理;干燥处理部，其对染色延伸处理后的原料膜进行干燥处理而制成光学膜;检查部，其对层积光学膜进行检查;层积光学膜卷取部，其卷绕层积光学膜。
[0019]优选的是，所述第一涂敷部、所述第二涂敷部、所述贴合部、所述光硬化部、所述原料膜供给部、所述保护膜供给部、所述染色延伸处理部、所述干燥处理部、所述检查部以及所述层积光学膜卷取部分别被墙壁包围而形成各自独立的房间。
[0020]优选的是，所述光硬化粘接剂存储罐设置在所述通路的与所述第一涂敷部和所述第二涂敷部对应的位置。
[0021]优选的是，在围成所述遮光空间的墙壁的窗户和门上贴合遮光膜，从而防止波长300nm?500nm(即与层积光学膜的光硬化处理有关的波长)的外部光从窗户和门进入所述层积光学膜制造装置。
[0022]优选的是，在所述遮光空间的照明灯光贴合遮光膜，从而防止照明灯光向该遮光空间发出波长300nm?500nm的光。
[0023]优选的是，该遮光膜是紫外线吸收膜。
[0024]根据上述本实用新型的结构，在作业者经过通路时，用手掀开需要经过范围大小的遮光帘即可，从而在出入时不需要将通路开放的很大，能够更好地进行遮光。
[0025]由于遮光帘由多片遮光帘单体构成，多片遮光帘单体彼此部分重叠，并且整个遮光帘都贴合有遮光膜，所以在作业者能够简单地进出的同时，还能够遮蔽与层积光学膜的光硬化处理有关的波长的外部光。
【附图说明】
[0026]图1是第一实施方式的无尘室中的设置有遮光帘的偏光膜制造装置的整体俯视图。
[0027]图2是第一实施方式的无尘室中的设置有遮光帘的偏光膜制造装置的侧视图。
[0028]图3是偏光膜制造装置的上层结构图。
[0029]图4是偏光膜制造装置的下层结构图。
[0030]图5是遮光帘的结构图。
[0031]图6是第二实施方式的无尘室中的设置有遮光帘的偏光膜制造装置的整体俯视图。
[0032]图7是第二实施方式的无尘室中的设置有遮光帘的偏光膜制造装置的侧视图。
[0033]附图标记说明
[0034]A无尘室
[0035]I偏光膜制造装置
[0036]11原料膜供给部
[0037]12染色延伸处理部
[0038]13干燥处理部
[0039]14第一涂敷部
[0040]15贴合部[0041 ]16第二涂敷部
[0042]17检查部
[0043]18保护膜供给部
[0044]19光硬化部
[0045]20偏光膜卷取部
[0046]2作业者用风淋室
[0047]3原料膜滚筒搬入用风淋室
[0048]4偏光膜滚筒搬出用风淋室
[0049]C上层部作业者用通路
[0050]H光硬化粘接剂存储罐
[0051]I光硬化粘接剂供给装置
[0052]BI遮光帘
[0053]B2遮光帘
[0054]F框架部
[0055]S遮光帘主体部
[0056]SI第一遮光帘主体部
[0057]S2第二遮光帘主体部
[0058]M遮光帘单体
[0059]22上侧横向主框架
[0060]23下侧横向主框架[0061 ]24加强框架
【具体实施方式】
[0062]以下，参照附图对本实用新型的【具体实施方式】进行详细说明。
[0063]需要说明的是，在以下实施方式中，列举制造偏光膜的偏光膜制造装置为例而进行说明。
[0064]【实施方式I】
[0065]图1是第一实施方式的无尘室中的设置有遮光帘的偏光膜制造装置的整体俯视图，图2是第一实施方式的无尘室中的设置有遮光帘的偏光膜制造装置的侧视图，图3是偏光膜制造装置的上层结构图，图4是偏光膜制造装置的下层结构图，图5是遮光帘的结构图。基于图1?图5对本实用新型的第一实施方式进行说明。
[0066]如图1所示，偏光膜制造装置I设置在无尘室A内，作业者经由作业者用风淋室2进入无尘室A，经由原料膜滚筒搬入用风淋室3将原料膜滚筒搬入无尘室A，并且经由偏光膜滚筒搬出用风淋室4将制成的偏光膜滚筒搬出无尘室A。
[0067]另外，偏光膜制造装置也可以不设置在无尘室A内。在本实施方式中