电磁致动器用电枢线圈、电磁致动器、曝光装置及器件制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种电磁致动器用电枢线圈、电磁致动器、曝光装置及器件制造方法，更详细来说，涉及一种用于线性马达等电磁致动器的电枢线圈、使用该电枢线圈的电磁致动器、使用该电磁致动器的曝光装置以及使用该曝光装置的器件制造方法。
【背景技术】
[0002]以往，在制造半导体元件(集成电路等)、液晶显示元件等电子器件(微型器件)的光刻工序中所使用的例如步进-重复(step and repeat)方式的投影曝光装置(所谓的步进机(stepper))或者步进-扫描(step and scan)方式的投影曝光装置(所谓的步进式扫描机(scanning-stepper))中，将例如线性马达等电磁致动器用于对作为曝光对象的晶圆或者玻璃板(以下，统称为晶圆)的位置控制。
[0003]此处，已知作为在曝光装置中使用的电磁致动器所具有的电枢线圈的绕线(导线)而使用了细长的带状电线(所谓的扁线(strip))(例如，参照专利文献I)。
[0004]此处，作为电磁致动器用电枢线圈，最好是既能确保绕线匝数又能小型化的电枢线圈。
[0005]现有技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1:美国专利第6，891，600号说明书
【发明内容】
[0008]本发明是在上述情况下提出的，若从第一种观点出发，则提供一种电磁致动器用电枢线圈，其通过将带状的绕线绕规定的绕线轴卷绕多圈而形成的，所述绕线具有带状的导电体、和设于所述导电体的一面侧的带状的绝缘体。
[0009]由此，利用绝缘体阻隔在被卷绕于绕线轴的状态下相对的(重叠的)导电体间导通(防止电气短路)。由于绝缘体形成为带状，所以与假设用绝缘物覆盖导电体的整个表面的情况相比，能够缩小线圈的径向的尺寸。
[0010]若从第二种观点出发，则本发明提供一种电磁致动器，该电磁致动器具有:设于可动件以及固定件中的一方的本发明的电磁致动器用电枢线圈；以及设于所述可动件以及固定件中的另一方的磁体，通过所述电磁致动器用电枢线圈与所述磁体的电磁相互作用，而在所述电磁致动器用电机线圈与所述磁体之间产生推力。
[0011 ]若从第三种观点出发，则本发明提供一种曝光装置，该曝光装置具有:移动体，其保持规定的物体，并利用本发明的电磁致动器所产生的所述推力来移动；以及图案形成装置，其使用能量束在所述移动体所保持的所述物体上形成规定的图案。
[0012]若从第四种观点出发，则本发明提供一种器件制造方法，该器件制造方法包括如下的步骤:使用本发明的曝光装置来对所述物体进行曝光；以及使曝光了的所述物体显影。
【附图说明】
[0013]图1是概略地示出一个实施方式的曝光装置的结构的图。
[0014]图2是示出图1的曝光装置所具有的载台装置的立体图。
[0015]图3的(A)是示出图2的载台装置所具有的X轴用的固定件的立体图，图3的(B)是图3的(A)的固定件所具有的线圈单元的立体图。
[0016]图4的(A)是图3的(B)的线圈单元所具有的线圈的立体图，图4的(B)是沿着图4的(A)的B-B线的剖视图。
[0017]图5是示出以曝光装置的控制系统为中心而构成的主控制装置的输入输出关系的框图。
【具体实施方式】
[0018]以下，针对一个实施方式，使用图1?图5进行说明。
[0019]在图1中概略地示出一个实施方式的曝光装置10的结构。曝光装置10是步进-扫描方式的投影曝光装置，是所谓的扫描仪(scanner)。如后文所述，在本实施方式中设有投影光学系统16b，以下，以与投影光学系统16b的光轴AX平行的方向作为Z轴方向，以在与Z轴方向正交的平面内光罩R与晶圆W相对扫描的方向作为Y轴方向，以与Z轴以及Y轴正交的方向作为X轴方向，以绕X轴、Y轴以及Z轴的旋转(倾斜)方向分别作为θχ、0y以及Θz方向来进行说明。
[0020]曝光装置10具有照明系统12、光罩载台14、投影单元16、包含晶圆载台30在内的载台装置20以及它们的控制系统等。在晶圆载台30上载置有表面上涂敷了抗蚀剂(感光剂)的晶圆W。
[0021]例如美国专利申请公开第2003/0025890号说明书等披露的那样，照明系统12具有光源、包含光学积分器(optical integrator)等在内的照度均匀化光学系统以及具有光罩遮帘等(均未图示)的照明光学系统。照明系统12利用照明光(曝光用光)IL以大致均匀的照度来照射由光罩遮帘(也称为遮蔽系统)设定(限制)的光罩R上的狭缝状的照明区域IAR。作为照明光IL而使用例如ArF(氟化氩)准分子激光(波长193nm)。
[0022]光罩载台14通过例如真空吸附保持着在图案面(图1中的-Z侧的面)形成有电路图案等的光罩R。光罩载台14能够由包含例如XY双自由度的线性马达(未图示)在内的光罩驱动系统72(图1中未图示。参照图5)，在扫描方向(Y轴方向)上以规定的行程来驱动，且能够在X轴以及θζ方向上被微量地驱动。光罩载台14在XY平面内的位置信息(包含θζ方向的旋转量信息)是由主控制装置70(在图1中未图示。参照图5)利用包含例如激光干涉仪系统(或者编码器(encoder)系统)的光罩位置测量系统74来求出的。主控制装置70基于上述光罩位置测量系统74的输出来控制光罩驱动系统72所具有的XY双自由度线性马达，由此控制光罩载台14在XY平面内的位置(包括Θ z方向的旋转量)。
[0023]投影单元16配置于光罩载台14的下方(-Z侧)。投影单元16具有镜筒16a和在镜筒16a内保持的投影光学系统16b。例如使用由沿着光轴AX排列的多个光学元件(透镜元件)组成的折射光学系统作为投影光学系统16b。投影光学系统16b例如是两侧远心的，并具有规定的投影倍率(例如I /4倍、I /5倍或者I /8倍等)。
[0024]因此，当利用来自照明系统12的照明光IL照射光罩R上的照明区域IAR时，利用从以图案面与投影光学系统16b的第一面(物体面)大致一致的方式配置的光罩R透过的照明光IL，经由投影光学系统16b将该照明区域IAR内的光罩R的电路图案的缩小像(电路图案的一部分的缩小像)形成于晶圆W上的与上述照明区域IAR共轭的区域(以下，也称为曝光区域)IA上，该晶圆W配置于投影光学系统16b的第二面(像面)侧。而且，通过同步驱动光罩载台14和晶圆载台30，一边使光罩R在扫描方向上相对于照明区域IAR (照明光IL)相对移动，一边使晶圆W在扫描方向上相对于曝光区域IA(照明光IL)相对移动，由此扫描曝光晶圆W上的一个照射(shot)区域(划分区域)，将光罩R的图案转印至该照射区域。即，在本实施方式中，利用照明系统12以及投影光学系统16b在晶圆W上生成光罩R的图案，利用照明光IL对晶圆W上的感光层(抗蚀剂层)进行曝光来在晶圆W上形成该图案。
[0025]载台装置20具有设置于洁净室的地板100上的框架搬运部件(frame caster)22、载置于该框架搬运部件22上的底盘24、配置于该底盘24的上方的晶圆载台30、驱动晶圆载台30的晶圆驱动系统76(在图1中未图示。参照图5)以及用于求出晶圆载台30的位置信息的晶圆位置测量系统78等。
[0026]如图2所示，框架搬运部件22由大致平板状的构件构成，该大致平板状的构件在其X侧方向一侧和另一侧的端部附近一体地形成有以Y轴方向为长边方向且向上方突出的凸部26a、26b ο在框架搬运部件22的凸部26a的上方载置有在Y轴方向上延伸的Y轴用的固定件42a。同样地，在框架搬运部件22的凸部26b的上方载置有在Y轴方向上延伸的Y轴用的固定件42b。在本实施方式中，Y轴用的固定件4