本发明涉及盐碱地蔬菜栽培技术领域，尤其涉及一种盐碱地日光温室彩椒栽培的基质和栽培方法。
背景技术：
盐碱地是盐类集积的一个土壤种类，是指土壤里面所含的盐分影响到作物的正常生长。由于受土壤条件等限制因素的影响，盐碱地用于种植蔬菜时，往往表现出根系生长受抑制，根尖变褐，严重时整个根系发黑腐烂等不良现象；盐碱化程度严重时，还会导致植株茎叶枯死，叶片萎缩，生长停滞，影响植株生长和产量。当前我国设施蔬菜对盐碱土的利用率小，而且同一设施内盐碱土壤状况差异大，加上农户生产措施不一，造成蔬菜产品品质、产量低下，而盐碱地农业高效利用对我国设施蔬菜的提升具有重大意义。
砂培是利用砂石为基质进行的一种无土栽培方式。砂培栽培技术简单易学，投入成本低，效益较好，是值得在盐碱地推广的一种栽培模式。但现有盐碱地砂培栽培模式具有许多难以克服的弊端：
(1)基质消毒繁琐麻烦，每年6～7月份必须将栽培基质从栽培槽中挖出，消毒后再重新回填至栽培槽，费时费工。
(2)水和肥料的用量较多，吸收利用率也不高，易于产生盐类积累，基质易再次盐泽化，连续种植3～4年后需要更换新的栽培基质。
(3)砂培基质透气性差，加之缓冲能力、持水力和保肥能力差，根系发育不良，植株长势弱，产量远低于同等管理水平下的土壤栽培。
(4)砂培基质中几乎没有有机质，微生物极少，一旦感染土传病原物，极容易导致土传病害爆发。
为了增加基质透气性和防止基质积水，现有技术通常在基质下方排放一层废弃的塑料育苗穴盘或渗水槽或石子，该技术在一定程度上增加了基质透气性，减少了基质积水，但同时也阻隔了基质与土壤的热交换，影响了作物根际温度的稳定性，会对作物生长产生不利影响。
技术实现要素：
本发明的目的在于提供一种盐碱地日光温室彩椒栽培的基质和栽培方法，本发明的基质持水和保肥能力强，透气性好，蓄热性好，与土壤的热交换能力强；本发明的栽培方法能够减缓基质盐泽化、控制土传病害的发生，减少化学农药的使用，提高彩椒产量。
为了实现上述发明目的，本发明提供以下技术方案：
本发明提供了一种盐碱地日光温室彩椒栽培的基质，所述基质包括填充基质和栽培基质；
所述填充基质包括以下原料：碳化稻壳和第一炉渣；所述碳化稻壳和第一炉渣的体积比为0.5～0.9∶1；
所述栽培基质包括以下原料：砂子、碳化稻壳、椰糠和第二炉渣；所述砂子、碳化稻壳、椰糠和第二炉渣的体积比为4～8∶0.5～1∶0.5～1∶2～7；
所述第一炉渣的粒径为1～1.2cm；所述第二炉渣的粒径为0.5～0.8cm。
优选的，所述砂子的粒径为0.8～2mm。
优选的，所述椰糠的粒径为3～5mm。
优选的，所述碳化稻壳的粒径为2～4mm。
本发明还提供了一种利用上述方案所述基质进行盐碱地日光温室彩椒栽培的方法，一年一大茬栽培模式，连续多茬次种植，包括以下步骤：
1)在日光温室中设置栽培槽，在栽培槽中依次铺设隔离膜、填充基质、防虫网和栽培基质，定植槽南北两端设置通气孔，定植槽南端设置控水沟；
2)定植前，将步骤1)所述栽培槽的基质先冲洗，再在基质中施用em菌剂和氨基酸液肥；
3)种植彩椒，定植后施用诱抗剂，整枝、吊蔓，收获；
4)拉秧后在步骤1)所述栽培槽基质施用辣根素，进行闷棚，之后，重复步骤2)和步骤3)；
5)多次重复步骤2)、步骤3)和步骤4)；
步骤1)中所述填充基质的厚度为6～10cm；步骤1)中所述栽培基质的厚度为24～28cm；步骤1)中所述防虫网的孔径为5～8目；
步骤1)中，通气孔与填充基质相连通；控水沟与各定植槽连通；
步骤3)中，7月下旬至8月上中旬定植，沿每一定植槽两侧栽2行，株距50～60cm，三杆循环整枝，定植后30天进行植株吊架，10月份开始收获，第2年6月下旬拉秧；
步骤4)中，所述闷棚为辣根素施入基质后栽培槽覆盖地膜，关闭日光温室通风口15～20天，结束后撤掉地膜；
步骤2)中的em菌剂和氨基酸液肥、步骤3)中的诱抗剂以及步骤4)中的辣根素均通过滴灌施入。
优选的，步骤2)中所述em菌剂的施用量为1.4～1.8kg/667m2；步骤2)中所述em菌剂中有效活菌浓度为250～350亿/g。
优选的，步骤2)中所述氨基酸液肥的施用量为2.75～3l/667m2；步骤2)中所述氨基酸液肥中氨基酸的含量≥100g/l。
优选的，步骤3)中所述诱抗剂包括以下质量份的原料：壳聚糖0.5～1.5份和聚天冬门冬氨酸9～11份；所述诱抗剂的施用量为37.5～42g/667m2。
优选的，步骤4)中所述辣根素的剂型为水剂；所述辣根素的质量百分含量为15％～25％；步骤4)中所述辣根素的施用量为5～7l/667m2。
优选的，步骤1)中所述栽培槽的宽度为55～65cm；所述栽培槽的深度为32～38cm。
本发明的有益效果：本发明提供了一种盐碱地日光温室彩椒栽培的基质，所述基质包括填充基质和栽培基质；所述填充基质包括以下原料：碳化稻壳和第一炉渣；所述碳化稻壳和第一炉渣的体积比为0.5～0.9∶1；所述栽培基质包括以下原料：砂子、碳化稻壳、椰糠和第二炉渣；所述砂子、碳化稻壳、椰糠和第二炉渣的体积比为5～7∶0.5～1.5∶0.5～1.5∶3～5。本发明的基质持水和保肥能力强，减少了浇水和施肥次数，节水节肥效果显著，与传统砂培相比节水18.2％左右，节约化肥用量18.2％左右；并且，本发明的基质透气性好，蓄热性好，与土壤的热交换能力强，进而使得彩椒根系发达，植株健壮，有利于提高产量，彩椒产量可提高20％以上，达到了正常土壤条件下产量水平。并且，本发明的基质还能够原位消毒，避免了栽培基质从栽培槽中挖出和重新回填，减少劳动强度，省时省力，有利于节省生产成本和大面积推广。
本发明还提供了一种利用上述方案所述基质进行盐碱地日光温室彩椒栽培的方法，一年一大茬栽培模式，连续多茬次种植，包括以下步骤：1)在日光温室中设置栽培槽，在栽培槽中依次铺设隔离膜、填充基质、防虫网和栽培基质；2)在步骤1)所述栽培槽的基质中施用em菌剂和氨基酸液肥；3)种植彩椒，定植后施用诱抗剂；4)收获彩椒，拉秧后施用辣根素，进行闷棚。本发明的栽培方法能够减缓基质盐泽化，使得栽培基质使用年限增长，由原来的3～4年延长至7年以上，进一步节省了生产成本；并且，本发明通过在基质中施用em菌剂和氨基酸液肥，改变了砂质基质中有益菌少且有益菌不易发育生长的缺陷，为有益菌提供发育生长的环境条件，能够完全控制土传病害的发生；本发明通过施用诱抗剂，诱导彩椒对多种病害产生抗性，减少了病虫害的发生，减少了化学农药的使用。
具体实施方式
本发明提供了一种盐碱地日光温室彩椒栽培的基质，所述基质包括填充基质和栽培基质；
所述填充基质包括以下原料：碳化稻壳和第一炉渣；所述碳化稻壳和第一炉渣的体积比为0.5～0.9∶1；
所述栽培基质包括以下原料：砂子、碳化稻壳、椰糠和第二炉渣；所述砂子、碳化稻壳、椰糠和第二炉渣的体积比为4～8∶0.5～1∶0.5～1∶2～7；
所述第一炉渣的粒径为1～1.2cm；所述第二炉渣的粒径为0.5～0.8cm。
在本发明中，所述碳化稻壳和第一炉渣的体积比优选为0.7∶1；所述碳化稻壳的粒径优选为2～4mm，更优选为3mm；所述第一炉渣的粒径优选为1.1cm。
本发明中，所述砂子、碳化稻壳、椰糠和第二炉渣的体积比优选为6∶1∶1∶2；所述砂子的粒径优选为0.8～2mm，更优选为1～1.5mm；所述碳化稻壳的粒径优选为2～4mm，更优选为3mm；所述椰糠的粒径优选为3～5mm，更优选为4mm；所述第二炉渣的粒径优选为0.6～0.7cm。
本发明采用填充基质与栽培基质栽培彩椒，基质透气性好，持水和保肥能力强，蓄热性好，与土壤的热交换能力强，进而使得彩椒根系发达，植株健壮。
本发明还提供了一种利用上述方案所述基质进行盐碱地日光温室彩椒栽培的方法，连续多茬次种植，包括以下步骤：
1)在日光温室中设置栽培槽，在栽培槽中依次铺设隔离膜、填充基质、防虫网和栽培基质，定植槽南北两端设置通气孔，定植槽南端设置控水沟；
2)定植前，将步骤1)所述栽培槽的基质先冲洗，再在基质中施用em菌剂和氨基酸液肥；
3)种植彩椒，定植后施用诱抗剂，整枝、吊蔓，收获；
4)拉秧后在步骤1)所述栽培槽基质施用辣根素，进行闷棚，之后，重复步骤2)和步骤3)；
5)多次重复步骤2)、步骤3)和步骤4)；
步骤1)中所述填充基质的厚度为6～10cm，优选为8cm；步骤1)中所述栽培基质的厚度为24～28cm，优选为26cm；步骤1)中所述防虫网的孔径为5～8目，优选为6～7目；
本发明中，所述盐碱地日光温室彩椒栽培的模式优选为一年一大茬。安装滴灌设备，实现肥水药一体化管理。
本发明首先在日光温室中设置栽培槽，在栽培槽中依次铺设隔离膜、填充基质、防虫网和栽培基质；所述栽培槽优选的为南北方向设置；所述栽培槽的南端优选的设置控水沟，所述控水沟与各栽培槽连通；所述控水沟的深度优选为35～45cm，更优选为40cm；所述控水沟的宽度优选为35～45cm，更优选为40cm；所述控水沟与棚外排水沟连通，以便控水沟内的水及时排出棚外，不影响定植槽南端的通气孔换气。
本发明中，所述栽培槽的宽度优选为55～65cm，更优选为60cm；所述栽培槽的深度优选为32～38cm，更优选为34cm；相邻栽培槽的间距优选为110～130cm，更优选为120cm；所述栽培槽的南北两端优选的设置有通气孔；所述通气孔优选的与填充基质相连，有利于提高基质的透气性，彩椒根系发达，植株健壮。
本发明中，所述隔离膜优选为聚乙烯薄膜；所述隔离膜的厚度优选为6～10丝，更优选为8丝；所述隔离膜的长度优选的大于栽培槽的长度；所述隔离膜的宽度优选为1.2～1.6m，更优选为1.4m；所述隔离膜优选的设置于栽培槽的底部和内壁；所述隔离膜的作用是隔离基质和土壤。
在日光温室中设置栽培槽后，本发明优选的还包括基质冲洗，即清洗基质，本发明具体实施过程中，利用滴灌设备向基质滴灌清水至饱和后继续滴灌，使水渗漏至控水沟，直至水颜色明显变浅，达到清澈为止；所述清洗基质的作用是消除药物残留。
在清洗基质后，本发明在栽培槽的基质中施用em菌剂和氨基酸液肥；所述em菌剂的施用量优选为1.4～1.8kg/667m2，更优选为1.6kg/667m2；所述em菌剂中有效活菌浓度优选为250～350亿/g，更优选为300亿/g；所述em菌剂优选的购自于河南众邦生物制品有限公司；所述氨基酸液肥的施用量优选为2.75～3l/667m2，更优选为2.8～2.9l/667m2；所述氨基酸液肥中氨基酸的含量优选的≥100g/l；所述氨基酸液肥优选的购自于河南省强生农业科技发展有限公司。
本发明具体实施过程中，所述栽培槽中施用em菌剂和氨基酸液肥混合后灌溉中随水施用；所述灌溉的方式优选为滴灌。本发明施用em菌剂的作为补充基质中的有益微生物，有利于减少土传病害和基质盐泽化发生，提高基质的使用年限；本发明施用氨基酸液肥的作用是为有益菌提供发育生长的环境条件，有利于有益微生物生长繁殖。
在栽培槽的基质中施用em菌剂和氨基酸液肥后，本发明种植彩椒，定植后施用诱抗剂；本发明对所述彩椒的品种没有特殊限制，本发明具体实施过程中，所述彩椒的品种优选为乐迪和蓓红；沿栽培槽两侧种植，每一栽培槽种植2行，栽培的行距优选为55～65cm，更优选为60cm；栽培的株距优选为50～60cm，更优选为55cm。
本发明中，所述定植的时间优选为7月下旬至8月中旬；本发明对所述定植的方法没有特殊要求，采用本领域常规方法即可。
本发明定植后施用诱抗剂；所述诱抗剂优选的包括以下质量份的原料：壳聚糖0.5～1.5份和聚天冬门冬氨酸9～11份；更优选的，所述诱抗剂包括以下质量份的原料：壳聚糖1份和聚天冬门冬氨酸10份；所述诱抗剂优选的溶于水后施用；本发明对水的含量没有特殊要求，能够充分溶解诱抗剂即可；所述诱抗剂的施用时间优选为定植后5～7d，更优选为定植后6d；所述诱抗剂的施用方式优选为灌溉随水施用，施用至彩椒根部；所述灌溉的方式优选的包括滴灌；所述诱抗剂的施用量优选为37.5～42g/667m2，更优选为38～40g/667m2；本发明施用诱抗剂的作用是有效防御彩椒在亚适宜温光环境危害以及诱导彩椒对多种病害产生抗性，具有促进生长、抵御病害、增强光合作用、增加产量的效果。
施用诱抗剂后，本发明优选的还包括整枝；所述整枝的方式优选为三杆循环整枝。
整枝后，本发明优选的还包括吊架；所述吊架的时间优选为定植后25～35d，更优选为30d。本发明对所述吊架的方式没有特殊限制，采用本领域常规方法即可；本发明具体实施过程中首先在栽培槽正上方距地面1.8m设置第1吊架钢丝和第2吊架钢丝；所述第1吊架钢丝和第2吊架钢丝所在的平面平行地面；所述第1吊架钢丝和第2吊架钢丝的间距优选为60cm；设置第1吊架钢丝和第2吊架钢丝后，本发明进行植株吊架，具体为：每株三条吊绳，吊绳的一端系在彩椒植株每一单杆的基部，另一端系在定植行正上方的吊架钢丝上。
吊架后，本发明收获彩椒，拉秧后施用辣根素，进行闷棚；所述开始收获的时间优选为10月；本发明对所述收获的方式没有特殊限制，采用本领域常规收获彩椒的方法即可；所述拉秧的时间优选为第二年的6月下旬；本发明对所述拉秧的方式没有特殊限制，采用本领域常规拉秧的方法即可。
本发明拉秧后施用辣根素；所述辣根素的剂型优选为水剂；所述辣根素的质量百分含量优选为15％～25％，更优选为20％；所述辣根素的施用量优选为5～7l/667m2，更优选为6l/667m2；所述辣根素的使用方式优选为灌溉随水施用；所述灌溉的方式优选为滴灌；所述辣根素优选的购自于西安维特生物科技有限责任公司。本发明中，施用辣根素的作用是基质消毒。
本发明中，所述闷棚的具体实施过程为：对栽培槽覆盖地膜，关闭日光温室通风口，进行闷棚；所述闷棚的时间优选为15～20d，更优选为16～18d。
闷棚结束后，本发明优选的还包括撤掉地膜，清洗基质，施用em菌剂和氨基酸液肥，进行下一茬彩椒栽培。
本发明中，所述栽培方法优选的还包括浇水、施药和施肥，本发明对所述浇水、施药和施肥的次数、频率、施用量等无特殊限制，采用本领域常规方法即可。
下面结合实施例对本发明提供的技术方案进行详细的说明，但是不能把它们理解为对本发明保护范围的限定。
以下实施例和对比例为在寿光市北部南木桥村实施盐碱地彩椒多年定点砂培试验。需要说明的是：除对比例8基质按规定要求更新外，其它实施例和对比例的基质与上一年度茬次保持不变。
实施例1
2011年7月至2012年6月，供试彩椒品种为乐迪。
按以下方案进行第1茬彩椒栽培。
一种盐碱地日光温室彩椒栽培的方法，日光温室内采用一年一大茬模式进行基质栽培；7月下旬至8月上中旬定植，10月份开始收获，第2年6月下旬拉秧；安装滴灌设备，实现肥水药一体化管理；还包括以下部分：
1)定植槽：南北方向设置，定植槽宽60cm、深35cm；相邻两定植槽间距120cm；选用隔离膜，隔离基质与土壤，定植槽南北两端设置通气孔。隔离膜是一种厚度为8丝的聚乙烯薄膜，铺在定植槽的两侧及底部，使基质与土壤隔离，隔离膜宽度1.4m，长度比定植槽长1m，以便覆盖定植槽南北两端的土壤。
2)基质：包括由碳化稻壳和大颗粒炉渣按体积比0.7∶1组成的填充基质和由砂子、碳化稻壳、椰糠和小颗粒炉渣按体积比6∶1∶1∶4组成的栽培基质；砂子粒径0.8～2mm，碳化稻壳粒径2～4mm，椰糠粒径3～5mm，大颗粒炉渣粒径1～1.2cm，小颗粒炉渣粒径0.5～0.8cm。
3)基质添加：铺设隔离膜后先添加填充基质，厚度8cm，在填充基质上覆盖一层8目的防虫网，再在防虫网之上添加栽培基质，厚度26cm，通气孔与填充基质相连通。
4)基质处理：首次种植前，冲洗基质，并补施em菌，667m2补施活菌300亿/g的em菌原液1.6kg，em菌原液与氨基酸液肥混合通过滴灌施入基质；每次拉秧后，将20％辣根素水剂667m2用量5l通过滴灌施入基质，栽培槽覆盖地膜，关闭日光温室通风口闷棚15天；闷棚结束后撤掉地膜，冲洗基质，之后补施em菌，667m2补施活菌300亿/g的em菌原液1.6kg，em菌原液与氨基酸液肥混合通过滴灌施入基质，进行下一茬彩椒栽培。氨基酸液肥为氨基酸≥100g/l的液体肥，每次667m2用量2.75-3l。
5)定植及管理：沿每一定植槽两侧栽2行，株距55cm，定植后5d浇施一次诱抗剂水溶液，三杆循环整枝，定植后30天进行植株吊架，每株3根吊绳，吊绳的一端系在彩椒植株每一单杆的基部，另一端系在定植行正上方的吊架钢丝上。诱抗剂由壳聚糖与聚天冬门冬氨酸按质量比1∶10组成，溶于水后通过滴灌与灌溉水一同施入彩椒根部，667m2用量37.5g。
对比例1
2011年7月至2012年6月，供试彩椒品种为乐迪。
按下列目前生产中最常见的技术方案进行第1茬日光温室彩椒栽培，日光温室内采用一年一大茬模式进行基质栽培；定植日期同实施例1，拉秧期同实施例1；安装滴灌设备，实现肥水药一体化管理；还包括以下部分：
1)定植槽：南北方向设置，定植槽宽60cm、深35cm；相邻两定植槽间距120cm；选用隔离膜，隔离基质与土壤。隔离膜是一种厚度为8丝的聚乙烯薄膜，铺在定植槽的两侧及底部，使基质与土壤隔离，隔离膜宽度1.4m，长度比定植槽长1m，以便覆盖定植槽南北两端的土壤。
2)基质：由砂子和炉渣按体积比2∶1组成；砂子粒径0.8～2mm，炉渣粒径0.5～0.8cm。
3)基质添加：铺设隔离膜后添加填充基质，厚度34cm。
4)基质处理：首次种植前，冲洗基质；每次拉秧后，将基质挖出，按常规法消毒后重新填装即可，进行下一茬彩椒栽培。
5)定植及管理：沿每一定植槽两侧栽2行，株距55cm，三杆循环整枝，定植后30d进行植株吊架，每株3根吊绳，吊绳的一端系在彩椒植株每一单杆的基部，另一端系在定植行正上方的吊架钢丝上。
对比例2
2011年7月至2012年6月，供试彩椒品种为乐迪。
按下列技术方案进行第1茬日光温室彩椒栽培，日光温室内采用一年一大茬模式进行基质栽培；定植日期同实施例1，拉秧期同实施例1；安装滴灌设备，实现肥水药一体化管理；还包括以下部分：
1)定植槽：南北方向设置，定植槽宽60cm、深35cm；相邻两定植槽间距120cm；选用隔离膜，隔离基质与土壤。隔离膜是一种厚度为8丝的聚乙烯薄膜，铺在定植槽的两侧及底部，使基质与土壤隔离，隔离膜宽度1.4m，长度比定植槽长1m，以便覆盖定植槽南北两端的土壤。
2)基质：由砂子和炉渣按体积比2∶1组成；砂子粒径0.8～2mm，炉渣粒径0.5～0.8cm。
3)基质添加：铺设隔离膜后添加填充基质，厚度34cm。
4)基质处理：首次种植前，冲洗基质，并补施em菌，667m2补施活菌300亿/g的em菌原液1.6kg，em菌原液与氨基酸液肥混合通过滴灌施入基质；每次拉秧后，将基质挖出，按常规法消毒后重新填装，冲洗基质，之后补施em菌，667m2补施活菌300亿/g的em菌原液1.6kg，em菌原液与氨基酸液肥混合通过滴灌施入基质，进行下一茬彩椒栽培。氨基酸液肥为氨基酸≥100g/l的液体肥，每次667m2用量2.75l。
5)定植及管理：沿每一定植槽两侧栽2行，株距55cm，三杆循环整枝，定植后30天进行植株吊架，每株3根吊绳，吊绳的一端系在彩椒植株每一单杆的基部，另一端系在定植行正上方的吊架钢丝上。
对比例3
2011年7月至2012年6月，供试彩椒品种为乐迪。
按下列技术方案进行第1茬日光温室彩椒栽培，日光温室内采用一年一大茬模式进行基质栽培；定植日期同实施例1，拉秧期同实施例1；安装滴灌设备，实现肥水药一体化管理；还包括以下部分：
1)定植槽：南北方向设置，定植槽宽60cm、深35cm；相邻两定植槽间距120cm；选用隔离膜，隔离基质与土壤。隔离膜是一种厚度为8丝的聚乙烯薄膜，铺在定植槽的两侧及底部，使基质与土壤隔离，隔离膜宽度1.4m，长度比定植槽长1m，以便覆盖定植槽南北两端的土壤。
2)基质：由砂子和炉渣按体积比2∶1组成；砂子粒径0.8～2mm，炉渣粒径0.5～0.8cm。
3)基质添加：铺设隔离膜后添加填充基质，厚度34cm。
4)基质处理：首次种植前，冲洗基质，并补施em菌，667m2补施活菌300亿/g的em菌原液1.6kg，em菌原液与氨基酸液肥混合通过滴灌施入基质；每次拉秧后，将基质挖出，按常规法消毒后重新填装，冲洗基质，之后补施em菌，667m2补施活菌300亿/g的em菌原液1.6kg，进行下一茬彩椒栽培。氨基酸液肥为氨基酸≥100g/l的液体肥，每次667m2用量2.75l。
5)定植及管理：沿每一定植槽两侧栽2行，株距55cm，定植后5d浇施一次诱抗剂水溶液，三杆循环整枝，定植后30天进行植株吊架，每株3根吊绳，吊绳的一端系在彩椒植株每一单杆的基部，另一端系在定植行正上方的吊架钢丝上。诱抗剂由壳聚糖与聚天冬门冬氨酸按质量比1∶10组成，溶于水后通过滴灌与灌溉水一同施入彩椒根部，667m2用量37.5g。
对比例4
2011年7月至2012年6月，供试彩椒品种为乐迪。
按下列技术方案进行第1茬日光温室彩椒栽培，日光温室内采用一年一大茬模式进行基质栽培；定植日期同实施例1，拉秧期同实施例1；安装滴灌设备，实现肥水药一体化管理；还包括以下部分：
1)定植槽：南北方向设置，定植槽宽60cm、深35cm；相邻两定植槽间距120cm；选用隔离膜，隔离基质与土壤。隔离膜是一种厚度为8丝的聚乙烯薄膜，铺在定植槽的两侧及底部，使基质与土壤隔离，隔离膜宽度1.4m，长度比定植槽长1m，以便覆盖定植槽南北两端的土壤。
2)基质：由砂子和炉渣按体积比2∶1组成；砂子粒径0.8～2mm，炉渣粒径0.5～0.8cm。
3)基质添加：铺设隔离膜后添加填充基质，厚度34cm。
4)基质处理：首次种植前，冲洗基质，并补施em菌，667m2补施活菌300亿/g的em菌原液1.6kg，em菌原液与氨基酸液肥混合通过滴灌施入基质；每次拉秧后，将20％辣根素水剂667m2用量4-5l通过滴灌施入基质，栽培槽覆盖地膜，关闭日光温室通风口闷棚15d；闷棚结束后撤掉地膜，冲洗基质，之后补施em菌，667m2补施活菌300亿/g的em菌原液1.6kg，进行下一茬彩椒栽培。氨基酸液肥为氨基酸≥100g/l的液体肥，每次667m2用量2.75l。
5)定植及管理：沿每一定植槽两侧栽2行，株距55cm，定植后5-7天浇施一次诱抗剂水溶液，三杆循环整枝，定植后30天进行植株吊架，每株3根吊绳，吊绳的一端系在彩椒植株每一单杆的基部，另一端系在定植行正上方的吊架钢丝上。诱抗剂由壳聚糖与聚天冬门冬氨酸按质量比1∶10组成，溶于水后通过滴灌与灌溉水一同施入彩椒根部，667m2用量37.5g。
定植后45d测定实施例1以及对比例1～4中植株根系活力；调查疫霉根腐病、细菌性叶斑病和叶霉病等田间发生情况；统计化学农药的使用情况、浇水与施肥情况和彩椒产量；调查彩椒根际温度变化情况。试验结果参见表1。
表1实施例1和对比例1～4的栽培方法对应的彩椒生长状况
从表1的结果可以看出，实施例1、对比例1、对比例2、对比例3和对比例4植株根系活力分别为145.4mg·g-1·h-1、112.7mg·g-1·h-1、110.8mg·g-1·h-1、113.1mg·g-1·h-1和112.4mg·g-1·h-1，实施例1与对比例1、对比例2、对比例3、对比例4之间差异均达显著水平，对比例1、对比例2、对比例3、对比例4之间差异不显著；
实施例1未发生疫霉根腐病，对比例1、对比例2、对比例3和对比例4种植后期均零星发生疫霉根腐病，但均未造成重大危害；
实施例1、对比例1、对比例2、对比例3和对比例4细菌性叶斑病发病率分别为2.6％、11.2％、9.6％、11.5％和10.4％，实施例1与对比例1、对比例2、对比例3、对比例4之间差异均达显著水平，对比例1、对比例2、对比例3、对比例4之间差异不显著；
实施例1、对比例1、对比例2、对比例3和对比例4叶霉病发病率分别为3.5％、13.6％、14.2％、14.8％和13.9％，实施例1与对比例1、对比例2、对比例3、对比例4之间差异均达显著水平，对比例1、对比例2、对比例3、对比例4之间差异不显著；
定植后实施例1、对比例1、对比例2、对比例3和对比例4施药次数分别为11次、18次、18次、18次和18次。本发明植株抗病性强，生产中可减少化学农药使用7次，化学农药使用量减少38.9％；
定植后实施例1比对比例1、对比例2、对比例3和对比例4减少滴灌浇水12次。本发明基质缓冲能力、持水力和保肥能力强，节水18.2％左右，节约化肥用量18.2％左右，节水节肥效果显著；
实施例1、对比例1、对比例2、对比例3和对比例4彩椒产量667m2分别为17582.5kg、14598.2kg、14591.8kg、14601.4kg和14615.5kg，实施例1较其它处理提高了20％以上，达到了同等管理水平正常土壤条件下的产量水平；
当夏秋季节外界最高温度为36℃～38℃时，实施例1彩椒根际10cm处最高温度为25.7℃，对比例1彩椒根际10cm处最高温度为28.4℃；当冬春季节外界最低温度为零下零下12℃～10℃时，实施例1彩椒根际10cm处最低温度为13.7℃，对比例1彩椒根际10cm处最低温度为10.5℃。实施例1基质蓄热性好，基质与土壤的热交换能力强，作物根际温度稳定性好，高温季节作物根际最高温度不会过高，低温季节作物根际最低温度不会过低，有利于彩椒根系生长。
实施例2
2012年7月至2013年6月，供试彩椒品种为乐迪，在实施例1的地块上栽培第2茬彩椒，栽培方法同实施例1。
对比例5
2012年7月至2013年6月，供试彩椒品种为乐迪，在对比例1的地块上栽培第2茬彩椒，栽培方法同对比例1。
定植后45天测定实施例2和对比例5的植株根系活力；调查疫霉根腐病田间发生情况；统计彩椒产量。试验结果参见表2。
表2实施例2和对比例5的栽培方法对应的彩椒生长状况
由表2结果可知，实施例2、对比例5植株根系活力分别为149.5mg·g-1·h-1、116.2mg·g-1·h-1，差异显著。
实施例2、对比例5疫霉根腐病发病率分别为0、3.7％，差异显著。
实施例2、对比例5彩椒产量667m2分别为17601.4kg、14415.6kg，实施例2较对比例5提高了22.1％。
实施例3
2013年7月至2014年6月，供试彩椒品种为蓓红，在实施例2的地块上栽培第3茬彩椒，栽培方法同实施例1。
对比例6
2013年7月至2014年6月，供试彩椒品种为蓓红，在对比例5的地块上栽培第3茬彩椒，栽培方法同对比例1。
定植后45天测定实施例3和对比例6的植株根系活力；调查疫霉根腐病田间发生情况；调查基质盐渍化情况；统计彩椒产量。试验结果参见表3。
表3实施例3和对比例6的栽培方法对应的彩椒生长状况
由表3结果可知，实施例3、对比例6植株根系活力分别为147.8mg·g-1·h-1、110.5mg·g-1·h-1，差异显著。
实施例3、对比例6疫霉根腐病发病率分别为0、6.7％，差异显著。
收获后，检测基质的盐分含量，实施例3为0.12％，对比例6为0.28％，盐分含量已接近临界值0.3％。
实施例3、对比例6彩椒产量667m2分别为16984.8kg、13576.9kg，实施例3较对比例6提高了25.1％，对比例6产量减产幅度明显加快。
实施例4
2014年7月至2015年6月，供试彩椒品种为蓓红，在实施例3的地块上栽培第4茬彩椒，栽培方法同实施例1。
对比例7
2014年7月至2015年6月，供试彩椒品种为蓓红，在对比例6的地块上栽培第4茬彩椒，栽培方法同对比例1。
定植后45天测定实施例4和对比例7的植株根系活力；调查疫霉根腐病田间发生情况；调查基质盐渍化情况；统计彩椒产量。试验结果参见表4。
表4实施例4和对比例7的栽培方法对应的彩椒生长状况
由表4可知，实施例4、对比例7植株根系活力分别为150.4mg·g-1·h-1、112.7mg·g-1·h-1，差异显著。
实施例4、对比例7疫霉根腐病发病率分别为0、6.8％，差异显著。
收获后，检测基质的盐分含量，实施例4为0.14％，对比例7为0.31％，盐分含量已超过临界值0.3％，须更换基质。
实施例4、对比例7彩椒产量667m2分别为17021.6kg、12875.6kg，实施例4较对比例7提高了32.2％，对比例7减产已非常明显。
实施例5
2015年7月至2016年6月，供试彩椒品种为蓓红，在实施例4的地块上栽培第5茬彩椒，栽培方法同实施例1。
对比例8
2015年7月至2016年6月，供试彩椒品种为蓓红，将对比例7的基质更换新基质后继续栽培第5茬彩椒，栽培方法同对比例1。新基质与对比例1的基质相同。
栽培方法同对比例1。
定植后45天测定实施例5和对比例8的植株根系活力；调查疫霉根腐病田间发生情况；调查基质盐渍化情况；统计彩椒产量。试验结果参见表5。
表5实施例5和对比例8的栽培方法对应的彩椒生长状况
由表5可知，实施例5、对比例8植株根系活力分别为152.3mg·g-1·h-1、110.6mg·g-1·h-1，差异显著。
实施例5未发生疫霉根腐病，对比例8生长后期零星发生疫霉根腐病，未造成重大危害。
收获后，检测基质的盐分含量，实施例5为0.15％，对比例8为0.10％。
实施例5、对比例8彩椒产量667m2分别为16398.7kg、13642.8kg，实施例5较对比例8提高了20.2％。
实施例6
2016年7月至2017年6月，供试彩椒品种为乐迪，在实施例5的地块上栽培第6茬彩椒，栽培方法同实施例1。
对比例9
2016年7月至2017年6月，供试彩椒品种为乐迪，在对比例8的地块上栽培第6茬彩椒，栽培方法同对比例1。
定植后45天测定实施例6和对比例9的植株根系活力；调查疫霉根腐病田间发生情况；调查基质盐渍化情况；统计彩椒产量。试验结果参见表6。
表6实施例6和对比例9的栽培方法对应的彩椒生长状况
由表6可知，实施例6、对比例9植株根系活力分别为153.5mg·g-1·h-1、110.2mg·g-1·h-1，差异显著
实施例6、对比例9疫霉根腐病发病率分别为0、6.5％，差异显著。
收获后，检测基质的盐分含量，实施例6为0.17％，对比例9为0.18％，对比例9盐渍化程度较快。
实施例6、对比例9彩椒产量667m2分别为16958.7kg2、13855.1kg，实施例6较对比例9提高了22.4％。
实施例7
2017年7月至2018年6月，供试彩椒品种为乐迪，在实施例6的地块上栽培第7茬彩椒，栽培方法同实施例1。
对比例10
2017年7月至2018年6月，供试彩椒品种为乐迪，在对比例9的地块上栽培第7茬彩椒，栽培方法同对比例1。
定植后45天测定实施例7和对比例10的植株根系活力；调查疫霉根腐病田间发生情况；调查基质盐渍化情况；统计彩椒产量。试验结果参见表7。
表7实施例7和对比例10的栽培方法对应的彩椒生长状况
由表7可知，实施例7、对比例10植株根系活力分别为152.3mg·g-1·h-1、108.6mg·g-1·h-1，差异显著。
实施例7、对比例10疫霉根腐病发病率分别为0、7.4％，差异显著。
收获后，检测基质的盐分含量，实施例7为0.19％，对比例10为0.26％，对比例10盐渍化程度较快。
实施例7、对比例10彩椒产量667m2分别为17182.8kg、14247.7kg，实施例7较对比例10提高了20.6％。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。