技术特征：
1.一种智能化气雾、液流和基质联合栽培装置，其特征在于，包括气雾栽培通道，所述气雾栽培通道上设置有多个基质栽培钵体，所述基质栽培钵体用于栽培植株，所述基质栽培钵体底部穿入所述气雾栽培通道，所述基质栽培钵体内部上方设置有基质栽培层，所述基质栽培钵体下方中空并且外壁开设有网洞阵列；其中，所述栽培通道内部上方设置有气雾栽培层，所述栽培通道内部下方设置有液流层，所述气雾栽培层用于填充栽培气雾，所述液流层用于填充栽培流体；所述基质栽培钵体底部穿过气雾栽培层并延伸至液流层中。2.根据权利要求1所述的智能化气雾、液流和基质联合栽培装置，其特征在于，所述网洞阵列包括多个沿圆周方向均匀分布在基质栽培钵体外壁的孔道，多个所述孔道正对所述气雾栽培层。3.根据权利要求2所述的智能化气雾、液流和基质联合栽培装置，其特征在于，位于所述基质栽培钵体外壁底部的多个所述孔道接通所述液流层。4.根据权利要求1所述的智能化气雾、液流和基质联合栽培装置，其特征在于，所述气雾栽培通道上设置有移动式雾化器，所述移动式雾化器延伸至所述气雾栽培层。5.根据权利要求1所述的智能化气雾、液流和基质联合栽培装置，其特征在于，所述气雾栽培通道内设置有微环境传感器。
技术总结
本实用新型公开了一种智能化气雾、液流和基质联合栽培装置，涉及气雾栽培设备技术领域，包括气雾栽培通道，气雾栽培通道上设置有多个基质栽培钵体，基质栽培钵体用于栽培植株，基质栽培钵体底部穿入气雾栽培通道，基质栽培钵体内部上方设置有基质栽培层，基质栽培钵体下方中空并且外壁开设有网洞阵列；其中，栽培通道内部上方设置有气雾栽培层，栽培通道内部下方设置有液流层，气雾栽培层用于填充栽培气雾，液流层用于填充栽培流体；基质栽培钵体底部穿过气雾栽培层并延伸至液流层中。本实用新型具有提高植株生长效果、降低植株生长风险和提高植株生长速率的优点。险和提高植株生长速率的优点。险和提高植株生长速率的优点。
技术研发人员：陈保青 董雯怡 严昌荣
受保护的技术使用者：中国农业科学院农业环境与可持续发展研究所
技术研发日：2022.08.02
技术公布日：2023/3/13