本实用新型涉及鞋材设备技术领域,尤其涉及一种用于鞋类生产制作的高效后踵定型机。
背景技术:
目前,有关鞋材后踵的加工定型设备众多,但是主要都是由固定在操作台上的定型摆模具和油缸或者气缸驱动的定位压模组成;但是,现有技术中的后踵定型机由于鞋子内腔与定型摆模具存在一定的配合间隙,鞋子在被加工过程中容易出现位移,影响定位压模对其定型的准确性;为此,我们提出一种用于鞋类生产制作的高效后踵定型机来解决上述问题。
技术实现要素:
本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种用于鞋类生产制作的高效后踵定型机。
为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:
一种用于鞋类生产制作的高效后踵定型机,包括壳体,所述壳体的上侧设有固定块,且固定块的上表面设有液压缸,所述固定块的靠近壳体的一侧设有开口朝下的凹槽,且凹槽中横向设有滑杆,所述液压缸的输出轴贯穿固定块的侧壁并与滑杆连接,所述滑杆靠近壳体的一侧设有多个垂直于滑杆设置的竖杆,且竖杆远离滑杆的一端贯穿壳体的侧壁并连接有定位压模,所述定位压模中设有开口向下的U型模具腔,且壳体的底部设有与U型模具腔匹配的定型摆模具,所述定型摆模具为中空结构,且定型摆模具的外侧套设有与定型摆模具形状匹配的移动板,所述定型摆模具中横向设有转动杆,所述转动杆的一端与定型摆模具的内壁转动连接,且转动杆的另一端贯穿定型摆模具的侧壁设置,所述转动杆套设有转盘,且转盘的表面环绕设有多个齿槽,所述转盘上设有与齿槽啮合的斜齿轮,且斜齿轮远离转盘的一端连接有竖直设置的螺纹杆,所述螺纹杆远离斜齿轮的一端与定型摆模具的上端内壁抓动连接,且螺纹杆上套设有螺母,所述螺母通过连接杆与移动板连接。
优选地,所述定位压模的侧壁为中空结构,且定位压模中设有加热装置。
优选地,所述加热装置采用电热丝。
本实用新型结构简单,操作方便,当鞋子内腔与定型摆模具存在配合间隙时,可以通过转动转动杆带动转盘转动,由于转盘上设有与齿槽啮合的斜齿轮,因此可以通过斜齿轮带动螺纹杆在竖直方向上转动,螺纹杆在转动的过程中可以使螺母在螺纹杆上进行上下移动,从而可以使定型摆模具外侧的移动板向外移动并对鞋子内腔进行相抵,从而使配合间隙消失,此时由液压缸带动滑杆在凹槽中向下滑动,从而使定位压模与定型摆模具配合进行后踵定型操作。
附图说明
图1为本实用新型提出的一种用于鞋类生产制作的高效后踵定型机的结构示意图;
图2为图1中A处的结构示意图;
图3为本实用新型中转盘与斜齿轮连接关系的结构示意图。
图中:1壳体、2固定块、3凹槽、4滑杆、5液压缸、6竖杆、7定位压模、8 U型模具腔、9加热装置、10定型摆模具、11移动板、12转动杆、13转盘、14斜齿轮、15螺母、16螺纹杆、17连接杆。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。
参照图1-3,一种用于鞋类生产制作的高效后踵定型机,包括壳体1,壳体1的上侧设有固定块2,且固定块2的上表面设有液压缸5,固定块2靠近壳体1的一侧设有开口朝下的凹槽3,且凹槽3中横向设有滑杆4,液压缸5的输出轴贯穿固定块2的侧壁并与滑杆4连接,滑杆4靠近壳体1的一侧设有多个垂直于滑杆4设置的竖杆6,且竖杆6远离滑杆4的一端贯穿壳体1的侧壁并连接有定位压模7,定位压模7的侧壁为中空结构,且定位压模7中设有加热装置9,加热装置9采用电热丝,定位压模7中设有开口向下的U型模具腔8,且壳体1的底部设有与U型模具腔8匹配的定型摆模具10,定型摆模具10为中空结构,且定型摆模具10的外侧套设有与定型摆模具10形状匹配的移动板11,定型摆模具10中横向设有转动杆12,转动杆12的一端与定型摆模具10的内壁转动连接,且转动杆12的另一端贯穿定型摆模具10的侧壁设置,转动杆12套设有转盘13,且转盘13的表面环绕设有多个齿槽,转盘13上设有与齿槽啮合的斜齿轮14,且斜齿轮14远离转盘13的一端连接有竖直设置的螺纹杆16,螺纹杆16远离斜齿轮14的一端与定型摆模具10的上端内壁抓动连接,且螺纹杆16上套设有螺母15,螺母15通过连接杆17与移动板11连接。
本实用新型结构简单,操作方便,当鞋子内腔与定型摆模具10存在配合间隙时,可以通过转动转动杆12带动转盘13转动,由于转盘13上设有与齿槽啮合的斜齿轮14,因此可以通过斜齿轮14带动螺纹杆16在竖直方向上转动,螺纹杆16在转动的过程中可以使螺母15在螺纹杆16上进行上下移动,从而可以使定型摆模具10外侧的移动板11向外移动并与鞋子内腔进行相抵,从而使配合间隙消失,此时由液压缸5带动滑杆4在凹槽3中向下滑动,从而使定位压模7与定型摆模具10配合进行后踵定型操作。
以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。