足部缓冲装置的制作方法

本发明涉及足部保护，尤其涉及一种足部缓冲装置。

背景技术：

1、人类脚掌的骨骼是由多个骨头组成，这些骨骼之间则以关节、韧带和肌腱来完成连接、维持稳定性与提供推进力。所以当人类脚掌的骨骼、肌腱和韧带若产生协同运作上的异常，便可能导致多种问题和疾病，例如时常被诊断出的扁平足、高足弓、跟腱炎以及足底筋膜炎等各式足部缺陷与疾病。而市面上已有许多鞋款与鞋垫被设计出来，宣称可以用来改善高弓足和扁平足的问题，用以提供对足弓的适当支撑，希望能减少高弓足或扁平足对足部的不良影响与不适感。但此类的鞋款与鞋垫的设计，多是从外显的足弓静态模型来进行矫正，并未能考虑到动态行走时的足部变化的根本问题。

2、根据研究(例如https://sa.ylib.com/magarticle.aspx？id＝1486)指出，走路时足底的施力点与足弓结构有关。正常的足弓结构(俗称正中足，neutral pronation)在行走过程中，最大压力点的移动路线901如图1a之所示，其最大压力点是从跟骨外侧沿该路线移动到大拇趾。

3、图1b则是表示出内旋足(overpronation)在行走过程中，最大压力点的移动路线902。内旋足因前脚掌内旋幅度大，走路时重心会向内侧偏移，致使最大压力点的移动路线产生内偏，使得靠近第2、3个趾头的前脚掌区域91及大拇趾内侧区域92容易长足茧，往往也是鞋底磨损严重之处。

4、而图1c则是表示出外旋足(supination)在行走过程中，最大压力点的移动路线903示意图。外旋足主要是因足弓下塌幅度小，外旋足压力偏向外侧前脚掌区域93及跟骨处区域94，使得该处易长足茧以及鞋底磨损严重。而如何改善上述技术问题，提供更佳的足部缓冲装置的解决方案，则为提出本案的主要动机。

技术实现思路

1、本发明实施例为改善上述现有技术或解决上述现有技术存在的上述技术问题，提供了一种足部缓冲装置，用于设置在用户的足部与地面之间，所述足部缓冲装置至少包含有：缓冲主体，位于所述用户的足部与地面之间，所述缓冲主体的硬度范围在肖氏00硬度指数范围30至90之间，所述缓冲主体具有后足部位，所述后足部位的材料具有第一抗压缩形变能力；以及，抗压缩形变能力降低结构，设置于所述后足部位的内侧，以同一材料所完成的所述抗压缩形变能力降低结构所具有的第二抗压缩形变能力小于所述第一抗压缩形变能力；所述第二抗压缩形变能力用于使所述用户于静态站立时不会在所述抗压缩形变能力降低结构的设置处产生异物感，且用于当所述用户行走时，加强引导后足落地后产生内旋的倾向。

2、在本发明的一个实施例中，所述抗压缩形变能力降低结构包含有凹槽结构以及所述凹槽结构外围的至少一侧壁与底部，所述侧壁与所述底部的材料与所述后足部位的材料相同，所述凹槽结构的长边与所述用户的足部横弓延伸方向平行，所述凹槽结构的短边与所述用户的足部纵弓延伸方向平行；所述凹槽结构的深度则随其长边的延伸方向逐渐变浅，使所述缓冲主体的边缘区域中的所述凹槽结构的深度，大于所述缓冲主体的中央区域中所述凹槽结构的深度。

3、本发明实施例提供的一种足部缓冲装置，用于设置在用户的足部与地面之间，所述足部缓冲装置至少包含有：缓冲主体，位于所述用户的足部与地面之间，所述缓冲主体的硬度范围在肖氏00硬度指数范围30至90之间，所述缓冲主体具有后足部位，所述后足部位的材料具有第一抗压缩形变能力；以及，抗压缩形变能力降低结构，设置于所述后足部位的外侧，以同一材料所完成的该抗压缩形变能力降低结构所具有的第二抗压缩形变能力小于所述第一抗压缩形变能力，所述第二抗压缩形变能力用于使所述用户于静态站立时不会在所述抗压缩形变能力降低结构的设置处产生异物感，且用于所述用户行走时，加强引导后足落地后抑制过度内旋的倾向。

4、在本发明的一个实施例中，所述抗压缩形变能力降低结构包含有凹槽结构以及所述凹槽结构外围的至少一侧壁与底部，所述侧壁与所述底部的材料与所述后足部位的材料相同，所述凹槽结构的长边与所述用户的足部横弓延伸方向平行，所述凹槽结构的短边与所述用户的足部纵弓延伸方向平行；所述凹槽结构的深度则随其长边的延伸方向逐渐变浅，使所述缓冲主体边缘区域中的所述凹槽结构的深度，大于所述缓冲主体中央区域中所述凹槽结构的深度。

5、本发明实施例提供的一种足部缓冲装置，用于设置在用户的足部与地面之间，所述足部缓冲装置至少包含有：缓冲主体，位于所述用户的足部与地面之间，所述缓冲主体的硬度范围在肖氏00硬度指数范围30至90之间，所述缓冲主体具有前足部位，所述前足部位的材料具有第一抗压缩形变能力；以及，抗压缩形变能力降低结构，设置于所述前足部位的内侧，以同一材料所完成的所述抗压缩形变能力降低结构所具有的第二抗压缩形变能力小于所述第一抗压缩形变能力；所述第二抗压缩形变能力用于使所述用户于静态站立时不会在所述抗压缩形变能力降低结构的设置处产生异物感，并用于当用户行走时，加强引导前足高档推进的倾向。

6、在本发明的一个实施例中，所述抗压缩形变能力降低结构的位置，相对至所述用户足部的第一跖骨头部的下方，所述抗压缩形变能力降低结构包含有凹槽结构以及所述凹槽结构外围的至少一侧壁与底部，所述侧壁与所述底部的材料与所述前足部位的材料相同，所述凹槽结构的长边与所述用户的足部纵弓延伸方向平行，所述凹槽结构的短边与所述用户的足部横弓延伸方向平行；所述凹槽结构的深度则随其长边的延伸方向逐渐产生变化，使所述凹槽结构随其长边的延伸方向的中央区域的深度最大。

7、本发明实施例提供的一种足部缓冲装置，用于设置在用户的足部与地面之间，所述足部缓冲装置至少包含有：缓冲主体，位于所述用户的足部与地面之间，该缓冲主体的硬度范围大于肖氏00硬度指数90，所述缓冲主体具有后足部位；以及倾斜导引结构，设置于所述后足部位的外侧区域，所述倾斜导引结构包含有落足稳定倾斜底部；当所述用户在行走时，所述落足稳定倾斜底部用于加强后足落地时的稳定度，并用于产生引导所述用户的足部产生内旋的倾向。

8、在本发明的一个实施例中，所述落足稳定倾斜底部包含有第一斜面底部与第二斜面底部，所述第一斜面底部提供所述后足落地时的稳定接触表面，所述第二斜面底部则用于加强引导所述用户的足部产生内旋的倾向。

9、本发明实施例提供的一种足部缓冲装置，用于设置在用户的足部与地面之间，所述足部缓冲装置至少包含有：缓冲主体，位于所述用户的足部与地面之间，所述缓冲主体的硬度范围大于肖氏00硬度指数90，所述缓冲主体具有后足部位；以及倾斜导引结构，设置于所述后足部位的内侧区域，所述倾斜导引结构包含有落足稳定倾斜底部；当所述用户在行走时，所述落足稳定倾斜底部用于加强后足落地时的稳定度，并用于产生引导所述用户的足部产生外旋的倾向。

10、在本发明的一个实施例中，所述落足稳定倾斜底部包含有第一斜面底部与第二斜面底部，所述第一斜面底部提供该后足落地时的稳定接触表面，所述第二斜面底部则用于加强引导所述用户的足部产生外旋的倾向。

11、本发明实施例提供的一种足部缓冲装置，用于设置在用户的足部与地面之间，所述足部缓冲装置至少包含有：缓冲主体，位于所述用户的足部与地面之间，所述缓冲主体的硬度范围大于肖氏00硬度指数90，所述缓冲主体具有前足部位；以及，倾斜导引结构，设置于所述前足部位的内侧区域，所述倾斜导引结构包含有落足稳定倾斜底部；当所述用户在行走时，所述落足稳定倾斜底部用于加强前足落地时的稳定度，和用于加强引导前足高档推进的倾向。

12、在本发明的一个实施例中，所述落足稳定倾斜底部包含有第一斜面底部与第二斜面底部，所述第一斜面底部用于提供所述前足落地时的稳定接触表面，所述第二斜面底部则用于加强引导前足高档推进的倾向。

13、本发明实施例提供的一种足部缓冲装置，用于设置在用户的足部与地面之间，所述足部缓冲装置至少包含有：缓冲主体，位于所述用户的足部与地面之间，所述缓冲主体的硬度范围大于肖氏00硬度指数90，所述缓冲主体具有前足部位；以及，倾斜导引结构，设置于所述前足部位的外侧区域，所述倾斜导引结构包含有落足稳定倾斜底部；所述用户于行走时，所述落足稳定倾斜底部用于加强前足落地时的稳定度，并用于产生加强引导前足低档推进的倾向。

14、在本发明的一个实施例中，所述落足稳定倾斜底部包含有第一斜面底部与第二斜面底部，所述第一斜面底部提供所述前足落地时的稳定接触表面，所述第二斜面底部则用于加强引导前足低档推进的倾向。

15、本发明提供的上述技术方案至少具有如下有益效果：

16、用户静态站立时，所述抗压缩形变能力降低结构仍保持足够的支撑强度来抵抗体重对该鞋底所造成的压缩形变，使得用户不会于该抗压缩形变能力降低结构的设置处产生异物感；当用户行走时，则可因较易变形而加强引导后足落地后产生内旋的倾向，进而达到对于足部内旋不足(外旋足)者的步态矫正，使其修正成正常的步态。