一种含生物光素材料的脱细胞真皮基质敷料的制作方法

文档序号:13572828阅读:657来源:国知局
一种含生物光素材料的脱细胞真皮基质敷料的制作方法

本实用新型涉及医用耗材技术领域,具体包含一种含生物光素材料的脱细胞真皮基质敷料。



背景技术:

皮肤是人体最大的器官,也是人体与外界环境设置的第一道防线,其对保护机体内环境的稳定,抵御外界环境的刺激和病原菌入侵起到重要的作用。由于各种原因常常容易导致皮肤缺损,如烧伤、烫伤以及外界各种不可抗力等因素等。而随着社会的发展及人口老龄化程度的加剧,越来越多的人正遭受着由褥创、糖尿病足、血运障碍性溃疡等难愈合创面带来的痛苦。据统计,我国每年烧伤与溃疡患者达1500万,其中需要进行皮肤移植的有350万之多。然而,在临床中,经常面临没有完整或足够的自身皮肤来移植的困境。所以,研究者一直在寻找人体皮肤的替代品。

脱细胞真皮基质是一种无细胞成分、免疫活性低、且保留了表皮和真皮间基底膜的材料,可由动物皮肤加工制得,用于移植后可形成真皮面和基底膜面,因而具有广阔的市场应用前景。脱细胞真皮基质虽然在替代受损皮肤、促进有关生长因子表达等方面优势明显,但对于伤口整个愈合过程的护理还存在一些缺陷,如不具备消炎、抑菌、止痛等功能。因此,在对脱细胞真皮基质进行应用时,有必要在现有技术的基础上对其进行改进,满足患者需求。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于克服上述现有技术中的不足,提供一种含生物光素材料的脱细胞真皮基质敷料,其具有消炎、止痛、抑菌功能。

为解决上述技术难题,本实用新型提供的技术方案为:一种含生物光素材料的脱细胞真皮基质敷料,从上到下依次由粘贴层、生物光素层、敷料层与剥离层组成,所述敷料层为经季铵盐改性的脱细胞真皮基质组成,所述生物光素层由生物光素材料经双向拉伸工艺压膜制成。

优选的,所述敷料层与生物光素层通过软组织医用胶紧密粘接。

优选的,所述粘贴层为下表面涂覆有医用压敏胶的聚氨酯薄膜。

优选的,所述剥离层为格拉锌硅油纸。

优选的,所述敷料层的形状大小以可以完全覆盖患者伤口。

优选的,所述生物光素层的形状大小可以完全覆盖敷料层,并且有部分生物光素层可以粘贴在患者伤口周边的皮肤上。

优选的,所述的粘贴层和剥离层为大小相同的方形。

优选的,所述的生物光素层为方形,其边沿不超过粘贴层的边沿。

优选的,所述的敷料层为圆形,其中圆弧不超过生物光素层的边沿。

本实用新型的有益效果:(1)敷料层为季铵盐改性的脱细胞真皮基质,其分子结构中引入了氨基,赋予了该真皮基质敷料持续优异的抗菌功能;(2)生物光素材料是生物医用光量子非晶体等多种技术的结晶产物,其护创的机理为:能发出与人体红外波长相近的5-25微米红外光,能与自身的物理场能量波互动而产生和谐共振,其共振的振荡频率可传递皮下3-5cm。当作用于伤切口,多种治疗因子可渗透皮下组织,达到改善局部的血液循环和组织营养,促进纤维母细胞和纤维细胞再生;同时将产生高活性物质,如组(织)胺、类组胺物质、神经介质、组织激素等,激活郎格罕细胞和淋巴细胞的免疫功能,提高组织细胞的修复及再生能力。(3)通过将脱细胞真皮基质与生物光素材料的完美结合,极大地改善了伤口患处的血液循环和组织营养,促进了组织纤维细胞的再生,消除了炎症反应的发生,在二者有益的协同作用下,可实现高效的消炎、抑菌、止痛、促进有关生长因子的表达,加速伤口的愈合。

附图说明

图1为本实用新型一种含生物光素材料的脱细胞真皮基质敷料的主视图;

图2为本实用新型一种含生物光素材料的脱细胞真皮基质敷料的仰视图(此处省略剥离层4);

附图标记说明:1、粘贴层; 2、生物光素层;3、敷料层;4、剥离层。

具体实施方式

下面结合实施例对本实用新型做进一步描述;以下实施例仅用于更加清楚地说明本实用新型的目的、技术方案及优点,并不能以此来限制本实用新型的保护范围。

实施例1:

如图所示,本实用新型提供的一种含生物光素材料的脱细胞真皮基质敷料,从上到下依次由粘贴层1、生物光素层2、敷料层3与剥离层4组成,所述敷料层3为经季铵盐改性的脱细胞真皮基质组成,所述生物光素层2由生物光素材料经双向拉伸工艺压膜制成;所述敷料层3与生物光素层2通过软组织医用胶紧密粘接;所述粘贴层1为为下表面涂覆有医用压敏胶的聚氨酯薄膜;所述剥离层4为格拉锌硅油纸;所述敷料层3的形状大小以可以完全覆盖患者伤口;所述生物光素层2的形状大小可以完全覆盖敷料层3,并且有部分生物光素层3可以粘贴在患者伤口周边的皮肤上,所述的粘贴层1和剥离层4为大小相同的方形;所述的生物光素层2为方形,其边沿不超过粘贴层1的边沿;所述的敷料层3为圆形,其中圆弧不超过生物光素层2的边沿。

应该注意的是,此说明书的附图及以上对附图及具体实施方式的描述仅是为清楚地说明本实用新型所作的举例,并非是对本实用新型的实施方式的限定。凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型权利要求的保护范围之内。

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