本发明涉及一种煎药器，特别是涉及一种自动加水煎药装置。
背景技术：
中药因其具有有效成分不易散失且对身体副作用小的优点，越来越受广大病患的青睐，通常人们在熬制药液的时候，会时刻关注这药液熬制的情况，观察煎药器熬制药液的情况，特别是在长时间的熬制情况下，往往会因为排出大量的水蒸汽，使水量减少，很容易将药液熬干，同时排出大量的具有一定药效的水蒸汽也会影响到药液的品质。
技术实现要素：
本发明所要解决的技术问题是提供一种自动加水煎药装置，能够在煎药过程中对煎药室内损耗的水量进行及时的补充，避免将药液熬干，同时也可以避免排出大量具有药效的水蒸汽，降低了药液的品质。
为了解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案：
一种自动加水煎药装置，包括煎药器本体，设置在煎药器本体上的煎药器盖体，以及水壶，所述煎药器本体内设置有煎药室，所述煎药室内上部设置有上水位传感器，下部设置有下水位传感器，所述煎药器盖体底部上上设置有排气罩，所述排气罩连接有排气管，所述排气管的出气端穿过煎药器盖体伸入到水壶中的水内，所述水壶内设置有潜水泵，所述潜水泵连接有水管，所述水管的出水端穿过煎药器盖体伸入到煎药室内，所述水管上设置有电磁阀，所述煎药器本体上设置有控制装置，所述上水位传感器、下水位传感器、潜水泵以及电磁阀分别与控制装置电连接。
本发明一种自动加水煎药装置，通过在煎药器盖体底部设置有排气罩，并在排气罩上连接有排气管，将排气管的出气端伸入到水壶中的水内，这样可以将熬制药液过程中产生的大量水蒸汽排入至水壶内，并通过水壶中的水对水蒸汽进行回收收集；从而可以将排出的具有一定药效的水蒸汽收集到水壶中；通过在水壶内设置有潜水泵，并在潜水泵上连接有水管，将水管的出水端伸入到煎药室内，同时在煎药室内设置有上水位传感器和下水位传感器，这样能够在煎药室内的水位达到最低值时，对煎药室内加水，并且加入的是回收了具有一定药效的水蒸汽的水，避免药效的大量损失，同时在煎药室内的水位达到最高值时，停止加水，能够让煎药器继续熬制药液。
作为优选，所述煎药器盖体和减压器本体接触的部分上设置有密封垫，避免水蒸汽溢出，便于回收收集熬制药液时产生的大量水蒸汽。
作为优选，所述上水位传感器设置在煎药室的四分之三水位处，可以监测煎药室内的高水位，便于停止向煎药室内加水，同时也可以避免在熬制药液时，药液从煎药室内溢出。
作为优选，所述下水位传感器设置在煎药室的四分之一水位处，可以监测煎药室内的低水位，便于向煎药室内加水，同时也可以避免将药液熬干，使药材被煎熬发糊，影响药液的品质和药效。
作为优选，所述水壶中的水量不超过水壶容积的三分之二，避免向水壶中排气时使水溢出，同时也能够有容积回收收集水蒸汽。
与现有技术相比，本发明一种自动加水煎药装置的有益效果：通过设置有水壶，并将煎药室内产生的水蒸汽排放至水壶内，同时在煎药室内水位较低时将水壶内的水向煎药室内加入，能够在煎药过程中对煎药室内损耗的水量进行及时的补充，避免将药液熬干，同时也可以避免排出大量具有药效的水蒸汽，降低了药液的品质。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细说明。
图1是本发明一种自动加水煎药装置的结构示意图。
其中，附图标记：1为煎药器本体，2为煎药器盖体，3为水壶，4为煎药室，5为上水位传感器，6为下水位传感器，7为排气罩，8为排气管，9为潜水泵，10为水管，11为电磁阀，12为控制装置，13为密封垫。
具体实施方式
本说明书中公开的所有特征，或公开的所有方法或过程中的步骤，除了互相排斥的特征和/或步骤以外，均可以以任何方式组合。
本说明书中公开的任一特征，除非特别叙述，均可被其他等效或具有类似目的的替代特征加以替换。即，除非特别叙述，每个特征只是一系列等效或类似特征中的一个例子而已。
如图1所示，本发明一种自动加水煎药装置，包括煎药器本体1，设置在煎药器本体1上的煎药器盖体2，以及水壶3，所述煎药器本体1内设置有煎药室4，所述煎药室4内上部设置有上水位传感器5，下部设置有下水位传感器6，所述煎药器盖体2底部上上设置有排气罩7，所述排气罩7连接有排气管8，所述排气管8的出气端穿过煎药器盖体2伸入到水壶3中的水内，所述水壶3内设置有潜水泵9，所述潜水泵9连接有水管10，所述水管10的出水端穿过煎药器盖体2伸入到煎药室4内，所述水管10上设置有电磁阀11，所述煎药器本体1上设置有控制装置12，所述上水位传感器5、下水位传感器6、潜水泵9以及电磁阀11分别与控制装置12电连接。
如图1所示，本发明一种自动加水煎药装置中，煎药器盖体2和减压器本体1接触的部分上设置有密封垫13。上水位传感器5设置在煎药室4的四分之三水位处。下水位传感器6设置在煎药室4的四分之一水位处。水壶3中的水量不超过水壶3容积的三分之二。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡是在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。