掺入离子的等离子喷涂的羟基磷灰石涂层及其制备方法与流程

文档序号:23474153发布日期:2020-12-29 13:25阅读:168来源:国知局
掺入离子的等离子喷涂的羟基磷灰石涂层及其制备方法与流程
本公开整体涉及涂覆的表面,并且更具体地涉及羟基磷灰石涂覆的表面。
背景技术
:骨修复常常涉及在愈合过程期间使用矫形植入物来替换缺失的骨或支撑骨。通常希望用骨传导材料涂覆此类矫形植入物以促进骨生长或生物固定。羟基磷灰石(ha)是在骨头和牙齿中发现的天然存在的矿物。研究表明,ha是骨传导性的,并且出于这一原因而用ha涂覆矫形植入物。用ha涂覆植入物的各种方法是已知的。一种用于涂覆植入物的方法是等离子喷涂。在此方法中,使用载气将ha粉末馈送到高温喷枪中。将ha粉末部分地熔融并随后以高速撞击基底,由此使所述ha粉末快速淬火回室温。还已经报道了将掺杂剂金属掺入羟基磷灰石涂层中。为了将掺杂剂金属掺入羟基磷灰石涂层中,在形成涂层之前将掺杂剂金属与羟基磷灰石混合。虽然通常只有所形成的涂层的表面是活性的,但这样的方法将掺杂剂金属均匀地分布在整个羟基磷灰石涂层中。这样的方法还需要使用者制备用于每个所形成的涂层的特定掺杂剂金属/羟基磷灰石组合物。技术实现要素:涂覆的矫形植入物包括具有面向骨的表面的基底以及位于基底的面向骨的表面上的涂层。在示例性实施方案中,涂层包含羟基磷灰石。在一些实施方案中,涂层为掺杂的涂层。在示例性实施方案中,掺杂的涂层包含钙和掺杂剂金属。在一些实施方案中,掺杂剂金属的浓度在掺杂的涂层中为各向异性的。在一些实施方案中,掺杂的涂层包含至少两种掺杂剂金属。在一些实施方案中,掺杂剂金属选自由以下项组成的组:镁、锶、镓、锌、铜、银、铕、铽以及它们的组合。在一些实施方案中,掺杂的涂层包括掺杂部分以及位于掺杂部分和基底之间的未掺杂部分。在一些实施方案中,掺杂部分包含掺杂剂金属。在一些实施方案中,未掺杂部分不含或基本上不含掺杂剂金属。根据另一个方面,用于形成涂覆的植入物的方法包括接触涂层的步骤和洗涤步骤。在一些实施方案中,接触步骤通过使基底上的羟基磷灰石涂层与包含掺杂剂金属离子的水性溶液接触来执行。在一些实施方案中,洗涤羟基磷灰石涂层的步骤形成包含钙和掺杂剂金属的掺杂的羟基磷灰石涂层。在一些实施方案中,掺杂剂金属的浓度在掺杂的羟基磷灰石涂层中是各向异性的。在一些实施方案中,与羟基磷灰石涂层相比,掺杂的羟基磷灰石涂层具有改善的抗菌特性。在一些实施方案中,改善为至少10倍。在一些实施方案中,改善为至少1,000倍。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层的结晶度百分比高于羟基磷灰石涂层的结晶度百分比。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层的结晶度百分比为至少约93%或至少约95%。根据另一个方面,涂覆的植入物包括基底和基底表面上的涂层。在一些实施方案中,涂层包括掺杂的羟基磷灰石部分和未掺杂的羟基磷灰石部分。示例性地,未掺杂的羟基磷灰石部分位于掺杂的羟基磷灰石部分和基底之间。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石部分包含钙和掺杂剂金属。在一些实施方案中,未掺杂的羟基磷灰石部分不包含掺杂剂金属。附图说明图1为矫形假体的透视图。图2为涂覆有掺杂的羟基磷灰石涂层的图1的矫形假体的面向骨的表面的图解视图。图3示出涂覆有等离子喷涂的羟基磷灰石(psha)的基底试样块。图4示出psha涂覆的基底在用磷酸盐-锌(pizn)溶液处理之后的sem图像。图5示出pizn处理的psha涂层的edx图案。图6示出未处理的psha涂层(表示为psha)、用磷酸盐-镓(piga)溶液处理之后的psha涂层(表示为gaht)以及经pizn处理的psha涂层(表示为znht)的xrd图案。图7示出经piga处理的psha涂层的sem图像。图8示出经piga处理的psha涂层的edx图案。图9示出用铜(cu)溶液处理之后的psha涂层的sem图像。图10示出用cu溶液处理之后的psha涂层的edx图案。图11示出用cu溶液处理之后的psha涂层的edx图案。图12示出未处理的psha涂层(表示为psha)和经cu处理的psha涂层(表示为cu)的xrd图案。图13示出用eu溶液处理之后的psha涂层的edx图案。图14示出用eu溶液处理之后的psha涂层的edx图案。图15示出未处理的psha涂层(表示为psha)和用eu溶液处理的psha涂层(表示为eu)的xrd图案。图16示出用银(ag)溶液处理的psha涂层的edx图案。图17示出用ag溶液处理的psha涂层的edx图案。图18示出用ag溶液处理的psha涂层的edx图案。图19示出未处理的psha涂层(表示为psha)和在不同条件下用ag溶液处理的psha涂层(表示为ag-2、ag-3和ag-4)的xrd图案。图20示出用pizn溶液和cu溶液处理之后的psha涂层的edx图案。图21示出用cu溶液和pizn溶液处理之后的psha涂层的edx图案。图22示出在zn溶液-cu溶液处理之后的psha涂层的sem图像。图23示出用cu溶液和zn溶液处理之后的psha涂层的sem图像。图24示出未处理的psha涂层(表示为psha)以及用zn溶液和cu溶液处理之后的psha涂层(表示为zn-cu)的xrd图案。具体实施方式虽然本公开的概念易于具有各种修改形式和替代形式,但其具体示例性实施方案已在附图中以举例的方式示出,并且将在本文中进行详细描述。然而应当理解,无意将本公开的概念限制为所公开的特定形式,而是相反,意图在于涵盖所附权利要求限定的本发明的实质和范围内的所有修改型式、等同型式和替代型式。本说明书中对“一个实施方案”、“实施方案”、“示例性实施方案”等的引用是指所述实施方案可包括特定特征、结构、或特性,但每个实施方案可不必包括该特定特征、结构、或特性。此外,这些术语未必指同一实施方案。此外,当结合实施方案来描述特定特征、结构、或特性时,无论是否进行明确描述均应认为,结合其他实施方案来实现这种特定特征、结构、或特性在本领域的技术人员的知识范围内。在整篇说明书中,当提及本文所述的矫形植入物或假体以及提及患者的自然解剖结构时,可使用表示解剖学参考的术语,诸如前、后、内侧、外侧、上、下等等。这些术语在解剖学研究和矫形外科领域都具有公知的含义。除非另外说明,否则在书面具体实施方式和权利要求中使用的这些解剖参考术语旨在与其熟知的含义一致。现在参见图1,示出了示例性膝关节假体10。膝关节假体10包括股骨部件12、胫骨托盘部件14和插入部件16。胫骨托盘14包括板或平台18和延伸远离平台18的远侧面向骨的表面22的细长杆20。细长的胫骨杆20被构造为植入患者胫骨的外科准备近侧表面中。应当理解,可使用其他固定构件(诸如一个或多个栓或柱)代替细长杆20。在示例性实施方案中,细长胫骨杆20包括外表面,该外表面具有在3微米至7微米范围内的表面粗糙度(ra)。在示例性实施方案中,插入部件16能够通过按扣配合固定到胫骨托盘14。通过这种方式,插入件16相对于胫骨托盘14固定(即,它不能够在前/后或内侧/外侧方向上旋转或运动)。应当理解,在其他实施方案中,插入件能够相对于胫骨托盘运动。还应当理解,在其他实施方案中,托盘和插入件可组合在单个整体式胫骨部件中。股骨部件12被构造为植入患者股骨的外科准备端部内,并且被构造为仿效患者自然股骨髁的构型。股骨部件12包括骨表面24,该骨表面被构造为在植入时接触股骨。膝关节假体10与自然骨骼接合的部件(诸如股骨部件12和胫骨托盘14)可以由生物相容性金属(诸如钴铬合金)构成,但也可以采用其他材料。这些部件的面向或接合骨的表面,诸如远侧面向骨的表面22和胫骨杆20以及股骨部件12的面向骨的表面24,可被纹理化以有利于将部件粘合到骨,如下文更详细所述。此类面向或接合骨的表面可涂覆有羟基磷灰石涂层或掺杂的羟基磷灰石涂层26,如图1、图2所示。本公开涉及植入物诸如矫形假体10及其制备方法。植入物的部分诸如面向骨的表面可涂覆有羟基磷灰石(ha),如图2所示,其包括掺杂的羟基磷灰石涂层26。在整个本公开中,更详细地描述了包括基底(诸如例如假体10的面向或接合骨表面)和掺杂的羟基磷灰石涂层26的涂覆基底。在示例性实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层26包括掺杂部分28和未掺杂部分30,如图2所示。掺杂部分28被布置成形成掺杂的羟基磷灰石涂层26的外表面32。形成矫形假体10的示例性方法包括锻造用于植入物的材料以形成锻造部件的步骤。然后掩盖锻造部件的部分。在示例性实施方案中,接合骨的表面未被掩盖。然后将未掩盖表面喷砂至3微米至7微米范围内的表面粗糙度(ra)。在一些实施方案中,喷砂的表面涂覆有等离子喷涂的羟基磷灰石(psha)。在一些实施方案中,随后洗涤psha涂覆的部件。如本文所述,psha涂覆的表面可以任选地经历将掺杂剂金属掺入到psha涂覆的表面中的过程。在一些实施方案中,示例性方法制备在矫形假体10的表面上具有掺杂的羟基磷灰石涂层26的矫形假体10,如图1所示。在一些实施方案中,示例性方法制备在接合骨的表面(诸如细长杆20和股骨表面24)上具有掺杂的羟基磷灰石涂层的矫形假体10,如图1和图2所示。虽然图1中示出了膝关节假体,但本文所述的掺杂的羟基磷灰石涂层可同样适用于髋关节假体、肩关节假体、骨板、其他假体关节部件以及用于体内的其他假体植入物的部件。在示例性实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层包含钙和至少一种掺杂剂金属。掺杂剂金属可为涂层提供有利的特性,诸如改善骨整合,提供感染预防,提供抗菌特性或提供荧光。掺杂剂金属可通过离子交换过程引入到羟基磷灰石涂层中,其中羟基磷灰石涂层中的晶格位置被掺杂剂金属替换。在示例性实施方案中,掺入掺杂剂金属不改变羟基磷灰石涂层的晶体结构,如通过xrd所确定的。涂层诸如掺杂的羟基磷灰石涂层26包括外表面32和与外表面32间隔开的内表面34,如图2所示。涂层的外表面32被布置成形成植入物的外表面。内表面34被布置成接触基底的外表面36,诸如面向骨的表面,如图2所示。基底上的涂层诸如掺杂的羟基磷灰石涂层26具有特定厚度t1,如由从涂层的外表面32到涂层的内表面34的距离所测量的。示例性地,涂层的厚度可小于约500微米、小于约300微米或小于约250微米。在一些实施方案中,涂层的厚度为约50微米至约500微米、约50微米至约300微米、约50微米至约200微米、约50微米至约150微米或约80微米至约150微米。掺杂的羟基磷灰石涂层26包括掺杂部分28和未掺杂部分30,如图2所示。未掺杂部分30被布置成在掺杂部分28和面向骨的表面之间延伸并且将该掺杂部分与面向骨的表面互连。掺杂部分被布置为形成涂层的外表面32。在示例性实施方案中,掺杂剂金属的浓度在涂层中为各向异性的。在一些实施方案中,掺杂部分28包含掺杂剂金属。在一些实施方案中,未掺杂部分30不含或基本上不含掺杂剂金属。如本文所述,已经在基底上形成的未掺杂的羟基磷灰石涂层可与掺杂剂金属离子接触以形成掺杂的羟基磷灰石涂层。在一些实施方案中,掺杂剂金属离子在水性溶液中。示例性地,掺杂剂金属离子替换存在于未掺杂的羟基磷灰石涂层中的晶格位置以形成掺杂的羟基磷灰石涂层。这样的交换相对于涂层的内表面在涂层的外表面处提供较高浓度的掺杂剂金属。在一些实施方案中,与涂层的内表面相比,掺杂剂金属在涂层的外表面处的浓度更高,使得掺杂剂金属离子的浓度在涂层中为各向异性的。在一些实施方案中,掺杂剂金属仅存在于掺杂的涂层的掺杂部分中,而不存在于涂层的未掺杂部分中。示例性地,掺杂剂金属的浓度从涂层的外表面朝向基底的表面降低。在一些实施方案中,掺杂部分的厚度t2为约1微米、约5微米或约10微米厚。在一些实施方案中,掺杂部分的厚度为约0.1微米、约0.5微米、约1微米、约2微米、约3微米、约4微米、约5微米、约6微米、约7微米、约8微米、约9微米或约10微米。在一些实施方案中,掺杂部分的厚度为约0.1微米至约10微米、约0.1微米至约6微米、约0.5微米至约6微米、或约0.5微米至约4微米。示例性地,掺杂的涂层的其余部分为未掺杂部分。在一些实施方案中,基底选自天然材料或非天然材料。在一些实施方案中,基底包含天然材料和非天然材料的组合。在一些实施方案中,基底包括选自由以下项组成的组的材料:金属、塑料、骨、橡胶、凝胶、纤维素材料以及它们的组合。在一些实施方案中,金属选自由以下项组成的组:钛、钴、铬、镍、金、银、它们的合金、或它们的组合。在一些实施方案中,基底可包含钴铬合金、由钴铬合金组成或基本上由钴铬合金组成。在一些实施方案中,基底可包含钛、由钛组成或基本上由钛组成。在示例性实施方案中,在掺杂的羟基磷灰石涂层的外表面中钙的量小于在未掺杂的羟基磷灰石涂层与掺杂剂溶液接触之前未掺杂的羟基磷灰石涂层的外表面中钙的量。示例性地,未处理的psha涂层可以包含约33.5%至约37.5%的钙,并且优选地包含约35%的钙。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层的外表面包含按涂层的重量计小于约38%、小于约35%、或小于约33%的钙。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层的外表面在涂层的外表面中包含约33重量%至约38重量%的钙。在一些实施方案中,基底表面上的掺杂的羟基磷灰石涂层包含钙和至少一种掺杂剂金属。在一些实施方案中,掺杂剂金属选自由以下项组成的组:镁、锶、镓、锌、铜、银、铕、铽、它们的合金以及它们的组合。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层包含至少两种掺杂剂金属。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层包含两种金属的组合,诸如锌和铜、锌和镁、锌和锶、锌和镓、锌和银、锌和铕、锌和铽、镁和锶、镁和镓、镁和铜、镁和银、镁和铕、镁和铽、锶和镓、锶和铜、锶和银、锶和铕、锶和铽、镓和铜、镓和银、镓和铕、镓和铽、铜和银、铜和铕、铜和铽、银和铕、银和铽或铕和铽。在一些实施方案中,涂层包含至少三种掺杂剂金属。在一些实施方案中,掺杂剂金属沿着掺杂的羟基磷灰石涂层的外表面分布。在一些实施方案中,掺杂剂金属分布在掺杂的羟基磷灰石涂层的部分外表面上。在一些实施方案中,一种掺杂剂金属沿着掺杂的羟基磷灰石涂层的外表面的一部分分布,并且第二掺杂剂金属沿着羟基磷灰石涂层的外表面的第二部分分布。在一些实施方案中,两种掺杂剂金属一起定位(即,一起分布)在掺杂的羟基磷灰石涂层的相同的整个或部分外表面内。在示例性实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层的掺杂部分包含至少一种掺杂剂金属,该掺杂剂金属以掺杂部分的至少约0.1重量%或掺杂部分的至少0.5重量%的量存在于掺杂的羟基磷灰石的掺杂部分中。在一些实施方案中,掺杂部分包含约0.1重量%、约0.5重量%、约1重量%、约1.5重量%、约2重量%、约2.5重量%、约3重量%、约3.5重量%、约4重量%、约4.5重量%、约5重量%、约5.5重量%、约6重量%、约6.5重量%、约7重量%、约7.5重量%、约8重量%、约8.5重量%、约9重量%、约9.5重量%、约10重量%、约10.5重量%、约11重量%、约11.5重量%、约12重量%、约12.5重量%、约13重量%、约13.5重量%、约14重量%、约14.5重量%、约15重量%、约15.5重量%、约16重量%、约16.5重量%、约17重量%、约17.5重量%、约18重量%、约18.5重量%、约19重量%、约19.5重量%、约20重量%、约20.5重量%、约21重量%、约21.5重量%、约22重量%、约22.5重量%、约23重量%、约23.5重量%、约24重量%、约24.5重量%、约25重量%、约25.5重量%、约26重量%、约27重量%、约28重量%、约29重量%或约30重量%的至少一种掺杂剂金属。在第一组范围内,掺杂部分包含至少一种掺杂剂金属,该掺杂剂金属的量在掺杂部分的约0.1重量%至约30重量%、约0.1重量%至约25重量%、约0.25重量%至约25重量%、约0.5重量%至约25重量%、约1重量%至约25重量%、约1.5重量%至约25重量%、约10重量%至约25重量%、约12重量%至约25重量%、约15重量%至约25重量%、约18重量%至约25重量%或约20重量%至约25重量%的范围内。在第二组范围内,掺杂部分包含至少一种掺杂剂金属,该掺杂剂金属的量在掺杂部分的约0.1重量%至约20重量%、约0.1重量%至约15重量%、约0.5重量%至约15重量%、约1重量%至约15重量%、约1重量%至约10重量%、约2重量%至约10重量%或约2重量%至约10重量%的范围内。在第三组范围内,掺杂部分包含至少一种掺杂剂金属,该掺杂剂金属的存在量在掺杂部分的约2重量%至约5重量%、约3重量%至约6重量%、约7重量%至约18重量%、约7重量%至约11重量%、约0.25重量%至约1重量%、约0.1重量%至约3重量%、约1重量%至约4重量%、约2重量%至约3重量%、约9重量%至约10重量%、约12重量%至约13重量%、约19重量%至约20重量%或约22重量%至约23重量%的范围内。在一些实施方案中,掺杂剂金属以掺杂部分的约0.5重量%的量存在于掺杂部分中。在一些实施方案中,掺杂剂金属以掺杂部分的约1.9重量%的量存在于掺杂的羟基磷灰石涂层的掺杂部分中。在一些实施方案中,掺杂剂金属以掺杂部分的约2.6重量%的量存在于掺杂的羟基磷灰石涂层的掺杂部分中。在一些实施方案中,掺杂剂金属以掺杂部分的约2.7重量%的量存在于掺杂的羟基磷灰石涂层的掺杂部分中。在一些实施方案中,掺杂剂金属以掺杂部分的约3.7重量%的量存在于掺杂的羟基磷灰石涂层的掺杂部分中。在一些实施方案中,掺杂剂金属以掺杂部分的约4.7重量%的量存在于掺杂的羟基磷灰石涂层的掺杂部分中。在一些实施方案中,掺杂剂金属以掺杂部分的约7.8重量%的量存在于掺杂的羟基磷灰石涂层的掺杂部分中。在一些实施方案中,掺杂剂金属以掺杂部分的约9.8重量%的量存在于掺杂的羟基磷灰石涂层的掺杂部分中。在一些实施方案中,掺杂剂金属以掺杂部分的约12.8重量%的量存在于掺杂的羟基磷灰石涂层的掺杂部分中。在一些实施方案中,掺杂剂金属以掺杂部分的约19.8重量%的量存在于掺杂的羟基磷灰石涂层的掺杂部分中。在一些实施方案中,掺杂剂金属以掺杂部分的约22.7重量%的量存在于掺杂的羟基磷灰石涂层的掺杂部分中。在示例性实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层的掺杂部分包含特定原子百分比的至少一种掺杂剂金属。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层的掺杂部分中掺杂剂金属的原子百分比为至少约0.05%或至少约1%。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层的掺杂部分中的至少一种掺杂剂金属离子的原子百分比为约0.05%、约0.1%、约0.15%、约0.2%、约0.25%、约0.3%、约0.35%、约0.4%、约0.45%、约0.5%、约0.55%、约0.6%、约0.65%、约0.7%、约0.75%、约0.8%、约0.85%、约0.9%、约1%、约1.1%、约1.2%、约1.3%、约1.4%、约1.5%、约1.6%、约1.7%、约1.8%、约1.9%、约2%、约2.1%、约2.2%、约2.3%、约2.4%、约2.5%、约2.6%、约2.7%、约2.8%、约2.9%、约3%、约3.1%、约3.2%、约3.3%、约3.4%、约3.5%、约3.6%、约3.7%、约3.8%、约3.9%、约4%、约4.1%、约4.2%、约4.3%、约4.4%、约4.5%、约4.6%、约4.7%、约4.8%、约4.9%、约5%、约5.1%、约5.2%、约5.3%、约5.4%或约5.5%.在第一组范围内,掺杂的羟基磷灰石涂层的掺杂部分中的至少一种掺杂剂金属的原子百分比在约0.05%至约5.5%、约0.05%至约5.2%、约0.5%至约5.2%、约1%至约4%、约0.5%至约2%、约0.1%至约1%、约0.1%至约0.5%、约0.5%至约1%、约1%至约2%、约2%至约4%或约3.5%至约4%的范围内。在第二组范围内,掺杂的羟基磷灰石涂层的掺杂部分中的至少一种掺杂剂金属的原子百分比在约0.05%至约5.5%、约0.2%至约5.5%、约1%至约5.5%、约1.5%至约5.5%、约2.5%至约5.5%或约3%至约5.5%的范围内。在一些实施方案中,至少一种掺杂剂金属的原子百分比在掺杂部分中为约0.2%、约0.6%、约0.7%、约0.9%、约1.4%、约1.8%、约2.1%、约3.6%、约3.7%、约4%或约5.1%。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层包含至少两种掺杂剂金属。至少两种金属可以以第一掺杂剂金属的掺杂部分的至少0.1重量%的量和第二掺杂剂金属的掺杂部分的至少0.1重量%的量存在于掺杂的羟基磷灰石涂层的掺杂部分中。在一些实施方案中,第一掺杂剂以掺杂部分的约0.1重量%、约0.5重量%、约1重量%、约1.5重量%、约2重量%、约2.5重量%、约3重量%、约3.5重量%、约4重量%、约4.5重量%、约5重量%、约5.5重量%、约6重量%、约6.5重量%、约7重量%、约7.5重量%、约8重量%、约8.5重量%、约9重量%、约9.5重量%、约10重量%、约10.5重量%、约11重量%、约11.5重量%、约12重量%、约12.5重量%、约13重量%、约13.5重量%、约14重量%、约14.5重量%、约15重量%、约15.5重量%、约16重量%、约16.5重量%、约17重量%、约17.5重量%、约18重量%、约18.5重量%、约19重量%、约19.5重量%、约20重量%、约20.5重量%、约21重量%、约21.5重量%、约22重量%、约22.5重量%、约23重量%、约23.5重量%、约24重量%、约24.5重量%、约25重量%、约25.5重量%、约26重量%、约27重量%、约28重量%、约29重量%或约30重量%的量存在于掺杂部分中。在一些实施方案中,第二掺杂剂金属以掺杂部分的约0.1重量%、约0.5重量%、约1重量%、约1.5重量%、约2重量%、约2.5重量%、约3重量%、约3.5重量%、约4重量%、约4.5重量%、约5重量%、约5.5重量%、约6重量%、约6.5重量%、约7重量%、约7.5重量%、约8重量%、约8.5重量%、约9重量%、约9.5重量%、约10重量%、约10.5重量%、约11重量%、约11.5重量%、约12重量%、约12.5重量%、约13重量%、约13.5重量%、约14重量%、约14.5重量%、约15重量%、约15.5重量%、约16重量%、约16.5重量%、约17重量%、约17.5重量%、约18重量%、约18.5重量%、约19重量%、约19.5重量%、约20重量%、约20.5重量%、约21重量%、约21.5重量%、约22重量%、约22.5重量%、约23重量%、约23.5重量%、约24重量%、约24.5重量%、约25重量%、约25.5重量%、约26重量%、约27重量%、约28重量%、约29重量%或约30重量%的量存在于掺杂部分中。在一些实施方案中,掺杂部分包含至少两种掺杂剂金属,第一掺杂剂金属在掺杂部分的约0.5重量%至约30重量%的范围内,第二掺杂剂金属在约0.5重量%至约30重量%的范围内。在一些实施方案中,第一掺杂剂金属以如下量存在于掺杂部分中:涂层的约2重量%至约6重量%、掺杂部分的约3重量%至约5重量%、涂层的约3重量%至约4重量%、掺杂部分的约3.5重量%至约4.5重量%、或约3.5重量%至约4重量%;并且第二掺杂剂金属以如下量存在于掺杂部分中:掺杂部分的约2重量%至约6重量%、掺杂部分的约3重量%至约5重量%、掺杂部分的约4.5重量%至约5.5重量%、或掺杂部分的约4.5重量%至约5重量%。在一些实施方案中,第一掺杂剂以掺杂部分的约3.7重量%的量存在于掺杂部分中,并且第二掺杂剂以掺杂部分的约4.7重量%的量存在于掺杂部分中。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层包含以特定原子百分比存在的至少两种掺杂剂金属。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层的掺杂部分中的第一掺杂剂金属的原子百分比在约0.05%至约5.5%、约0.05%至约5.2%、约0.5%至约5.2%、约1%至约4%、约0.5%至约2%、约0.10%至约1%、约0.1%至约0.5%、约0.5%至约1%、约1%至约2%、约2%至约4%或约3.5%至约4%的范围内。在一些实施方案中,掺杂部分中的第二掺杂剂金属的原子百分比在约0.05%至约5.5%、约0.05%至约5.2%、约0.5%至约5.2%、约1%至约4%、约0.5%至约2%、约0.1%至约1%、约0.1%至约0.5%、约0.5%至约1%、约1%至约2%、约2%至约4%或约3.5%至约4%的范围内。在一些实施方案中,第一掺杂剂金属的原子百分比为约1.4%,并且第二掺杂剂金属的原子百分比为约3.7%。掺杂的羟基磷灰石涂层的晶体结构可使用x射线光谱(诸如x射线粉末衍射光谱)来表征。当通过x射线粉末衍射来表征时,掺杂的羟基磷灰石涂层表现出若干特征2θ衍射角。括号中示出的数字是与每个峰相关的米勒指数。米勒指数是晶体学中的符号系统。米勒指数描述了格式“(hkl)”的晶面,其中h、k和1中的每一者分别与单元格中的x轴、y轴和z轴相关。作为示例,“(002)”值表示晶体结构的特定平面,特别是将平行于x轴(“0”)、平行于y轴(“0”)并且在特定点(0,0,1/2)处与z轴相交的平面,在这种情况下导致值为2,从而提供米勒指数(002)。使用掺杂的羟基磷灰石涂层的cukα辐射的x射线图案可表现出2θ衍射角,包括约26±2°(002)、约28±2°(102)、约32±2°(112)、约50±2°(213)和约53±2°(004)或约26±0.5°(002)、约28±0.5°(102)、约32±0.5°(112)、约50±0.5°(213)和约53±0.5°(004)。掺杂的羟基磷灰石涂层的x射线图案可表现出2θ衍射角,包括约26±1°(002)、约28±1°(102)、约32±1°(112)、约50±1°(213)、和约53±1°(004)。掺杂的羟基磷灰石涂层的x射线图案可表现出2θ衍射角,包括约25.58±0.1°、约28.13±0.1°、约31.75±0.1°、32.17±0.1°、约49±0.1°和约53±0.1°。应当理解,本文所述的衍射角由于仪器的不同可系统地偏移。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层在经受xrd时产生(002)xrd峰和(112)xrd峰。在示例性实施方案中,(002)xrd峰和(112)xrd峰基本上类似于不包含掺杂剂金属的羟基磷灰石涂层的xrd峰。在示例性实施方案中,掺入掺杂剂金属的过程可增加涂层的结晶度百分比。在一些实施方案中,羟基磷灰石涂层的结晶度百分比可小于约85%或约83%。在一些实施方案中,羟基磷灰石涂层的结晶度百分比为约50%至约85%。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层的结晶度百分比可为至少约85%、至少约90%或至少约95%。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层的结晶度百分比为约85%至约99%、约90%至约99%、或约95%至约99%。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层的结晶度百分比为约85%、约86%、约87%、约88%、约89%、约90%、约91%、约92%、约93%、约94%、约95%、约96%、约97%、约98%或约99%。在示例性实施方案中,由于掺入掺杂剂金属的过程,结晶度提高了至少约5%、至少约15%或至少约25%。在一些实施方案中,结晶度的提高在约5%至约100%、约5%至约80%、约5%至约75%、约10%至约75%、约10%至约50%、或约15%至约50%的范围内。示例性地,结晶度从约83%至约97%的提高表示约17%的提高百分比。在一些实施方案中,当与未掺杂的羟基磷灰石涂层相比时,如上所述的掺杂的羟基磷灰石涂层提供功能优点。在一些实施方案中,当与未掺杂的羟基磷灰石涂层相比时,掺杂剂金属改善骨整合,提供感染预防,抗菌,发荧光,或它们的组合。示例性地,例如,与未掺杂的羟基磷灰石涂层相比,包含锌的掺杂的羟基磷灰石涂层可表现出改善的抗菌特性。在一些实施方案中,与未掺杂的羟基磷灰石涂层相比,在存在掺杂的羟基磷灰石涂层的情况下,在溶液中生长的细菌少约10倍、约100倍或约1,000倍。在一些实施方案中,相对于未掺杂的羟基磷灰石涂层,改善为至少约10倍、至少约100倍或至少约1,000倍。在一些实施方案中,描述了用于形成如本文所述的涂层的方法。该方法包括使经羟基磷灰石涂覆的基底与包含掺杂剂金属离子的水性溶液接触,并且洗涤掺杂的羟基磷灰石涂覆的基底以形成掺杂的羟基磷灰石涂层。在示例性实施方案中,接触步骤之前的羟基磷灰石涂层的xrd图案与洗涤步骤之后的xrd图案基本上相同,使得不会识别新的结晶相。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层在暴露于xrd时产生(002)xrd峰和(112)xrd峰。在一些实施方案中,该方法制备掺杂的羟基磷灰石涂层,其中掺杂剂金属的浓度在掺杂的羟基磷灰石涂层中是各向异性的。在一些实施方案中,通过等离子喷涂将羟基磷灰石涂层施加到基底上。在一些实施方案中,使用等离子喷涂的羟基磷灰石用羟基磷灰石涂覆钛基底。在示例性实施方案中,该方法包括接触步骤。在一些实施方案中,接触步骤包括使羟基磷灰石涂覆的基底与包含掺杂剂金属的水性溶液接触。在一些实施方案中,当羟基磷灰石涂层暴露于包含掺杂剂金属的水性溶液时,发生接触步骤。在一些实施方案中,将羟基磷灰石涂覆的基底定位在容器中,并且将水性溶液添加到容器中。在一些实施方案中,水性溶液覆盖经羟基磷灰石涂覆的基底的一部分或全部。示例性地,可将经羟基磷灰石涂覆的基底浸没在水性溶液中。在一些实施方案中,水性溶液包含通过将金属盐溶解于水中而形成的至少一种掺杂剂金属离子。在一些实施方案中,水性溶液包含金属盐或金属盐的混合物。在一些实施方案中,金属盐包含锌、镓、铜、铕、银或它们的组合。在一些实施方案中,水性溶液包含至少一种掺杂剂金属离子。至少一种掺杂剂金属离子以至少约0.01mm的量存在于水性溶液中。在一些实施方案中,至少一种掺杂剂金属离子以约0.01mm至约50mm、约0.01mm至约30mm、或约0.01mm至约20mm的浓度存在于水性溶液中。在一些实施方案中,接触步骤用至少一种水性溶液和经羟基磷灰石涂覆的基底执行。在一些实施方案中,接触步骤包括与第一水性溶液的第一接触步骤和与第二水性溶液的第二接触步骤。在一些实施方案中,在接触经羟基磷灰石涂覆的基底的第一水性溶液和接触经羟基磷灰石涂覆的基底的第二水性溶液之间进行洗涤步骤。在一些实施方案中,第一水性溶液和第二水性溶液连续地或同时地接触经羟基磷灰石涂覆的基底。在一些实施方案中,第一水性溶液和第二水性溶液各自包含不同的金属离子。在一些实施方案中,第一水性溶液和第二水性溶液包含至少一种常见的金属离子。在一些实施方案中,交换步骤通过使经羟基磷灰石涂覆的基底与包含掺杂剂金属离子的水性溶液接触来执行。示例性地,交换步骤用掺杂剂金属替换羟基磷灰石涂层中晶格位置。在一些实施方案中,形成涂层的方法包括使经羟基磷灰石涂覆的基底与包含第一掺杂剂金属的第一水性溶液接触,洗涤掺杂的羟基磷灰石涂覆的基底,使掺杂的羟基磷灰石涂覆的基底与第二水性溶液接触,以及洗涤第二水性溶液的掺杂的羟基磷灰石涂覆的基底。在一些实施方案中,在第一洗涤步骤和与第二水性溶液的第二接触步骤之间包括干燥步骤。在一些实施方案中,干燥步骤在约60℃下执行约2小时。在一些实施方案中,水性溶液具有特定ph。在一些实施方案中,水性溶液具有约5至约9的ph。在一些实施方案中,水性溶液具有约5、约5.5、约6、约6.5、约7、约7.5、约8或约8.5的ph。示例性地,溶液的ph可有助于局部溶解的羟基磷灰石重结晶到基底表面上的能力。在一些示例性实施方案中,掺杂剂金属之间的ph可不同。在一些实施方案中,接触步骤在至少25℃或至少60℃的温度下执行。在一些实施方案中,接触步骤在约20℃、约21℃、约22℃、约23℃、约24℃、约25℃、约26℃、约27℃、约28℃、约50℃、约51℃、约52℃、约53℃、约54℃、约55℃、约56℃、约57℃、约58℃、约59℃、约60℃、约61℃、约62℃、约63℃、约64℃、约65℃、约66℃、约67℃、约68℃、约69℃、约70℃、约71℃、约72℃、约73℃、约74℃、约75℃、约85℃、约90℃、约95℃、约100℃、约105℃、约110℃、约115℃、约116℃、约117℃、约118℃、约119℃、约120℃、约121℃、约122℃、约123℃、约124℃、约125℃、约130℃、约135℃、约140℃、约145℃、约146℃、约147℃、约148℃、约149℃、约150℃、约151℃、约152℃、约153℃、约154℃、约155℃、约160℃、约165℃、约170℃或约175℃的温度下执行。在一些实施方案中,接触步骤在约25℃至约175℃、约25℃至约60℃、约60℃至约120℃、约120℃至约150℃、约150℃至约175℃、约23℃至约27℃、约57℃至约62℃、约117℃至约123℃、约147℃至约152℃或约172℃至约177℃的温度下执行。在一些实施方案中,第一接触步骤在约第一温度下发生,并且第二接触步骤在约第二温度下发生。第一温度和第二温度可为约相同的温度,或者第一温度和第二温度可为不同的温度。第一温度和第二温度之间的差异可为轻微的或可为显著的。在一些实施方案中,第一接触步骤在约150℃的温度下执行,并且第二接触步骤在约120℃的温度下执行。在一些实施方案中,第一接触步骤在约120℃的温度下执行,并且第二接触步骤在约150℃的温度下执行。在一些实施方案中,执行接触步骤持续至少25分钟的时间。在一些实施方案中,执行接触步骤持续约0.5小时、约1小时、约1.5小时、约2小时、约2.5小时、约3小时、约3.5小时、约4小时、约4.5小时、约5小时、约5.5小时、约6小时、约6.5小时、约7小时、约8小时、约9小时、约10小时、约11小时、约12小时、约13小时、约14小时、约15小时、约16小时、约17小时、约18小时、约19小时、约20小时、约21小时、约22小时、约23小时、约23.5小时、约24小时、约24.5小时、约25小时、约26小时、约27小时、约28小时、约29小时、约30小时、约36小时、约42小时、约48小时、约54小时、约60小时、约66小时、约72小时、约78小时或约80小时的时间。在一些实施方案中,执行接触步骤持续约30分钟(即,约0.5小时)至约72小时的时间。在一些实施方案中,执行接触步骤持续约0.5小时至约1小时、约1小时至约2小时、约2小时至约4小时、约2小时至约3小时、约3小时至约4小时、约4小时至约6小时、约5小时至约6小时、约6小时至约24小时、约23小时至约24小时、约24小时至约72小时或约71小时至约72小时的时间。在一些实施方案中,执行接触步骤持续约1小时的时间。在一些实施方案中,执行接触步骤持续约2小时的时间。在一些实施方案中,执行接触步骤持续约4小时。在一些实施方案中,执行接触步骤持续约6小时的时间。在一些实施方案中,执行接触步骤持续约24小时的时间。在一些实施方案中,执行接触步骤持续约48小时。在一些实施方案中,执行接触步骤持续约72小时。在一些实施方案中,执行第一接触步骤持续约0.5小时至约72小时的时间,并且执行第二接触步骤持续约0.5小时至约72小时的时间。在一些实施方案中,执行第一接触步骤和第二接触步骤持续类似的时间量。在一些实施方案中,执行第一接触步骤的时间比执行第二接触步骤的时间长。在一些实施方案中,执行第一接触步骤的时间比执行第二接触步骤的时间短。在一些实施方案中,执行第一接触步骤持续约24小时,并且执行第二接触步骤持续约4小时。在一些实施方案中,执行第一接触步骤持续约4小时,并且执行第二接触步骤持续约24小时。在一些实施方案中,接触步骤用经羟基磷灰石涂覆的基底和密封在容器中的水性溶液执行。在一些实施方案中,该容器是紧密密封的。在一些实施方案中,接触步骤在温控烘箱中执行。在一些实施方案中,使用xrd分析掺杂的羟基磷灰石涂覆的基底。在一些实施方案中,接触步骤之前的羟基磷灰石涂层的xrd图案与洗涤步骤之后的xrd图案基本上相同。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层在暴露于xrd时产生(002)xrd峰和(112)xrd峰。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层在掺杂部分中包含约7重量%至约11重量%的量的锌。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层在掺杂部分中包含约9重量%至约10重量%的量的锌。在一些实施方案中,用于将锌掺入到掺杂部分中的水性溶液具有约7至约7.6,优选地约7.1至约7.5的ph。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层在掺杂部分中包含约1重量%至约4重量%的量的镓。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层在掺杂部分中包含约2重量%至约3重量%的量的镓。在一些实施方案中,用于将镓掺入到掺杂部分中的水性溶液具有约8至约8.5,优选地约8.2至约8.4的ph。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层在掺杂部分中包含约0.1重量%至约3重量%的量的铜。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层在掺杂部分中包含约0.25重量%至约1重量%的量的铜。在一些实施方案中,用于将铜掺入到掺杂部分中的水性溶液具有约5.5至约6,优选地约5.6至约5.8的ph。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层在掺杂部分中包含约10重量%至约25重量%的量的铕。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层在掺杂部分中包含约12重量%至约13重量%的量的铕。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层在掺杂部分中包含约22重量%至约23重量%的量的铕。在一些实施方案中,用于将铕掺入到掺杂部分中的水性溶液具有约6至约7.5,优选地约6.5至约7的ph。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层在掺杂部分中包含约1.5重量%至约25重量%的量的银。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层在掺杂部分中包含约7重量%至约18重量%的量的银。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层在掺杂部分中包含约19重量%至约20重量%的量的银。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层在掺杂部分中包含约2重量%至约3重量%的量的银。在一些实施方案中,用于将银掺入到掺杂部分中的水性溶液具有约5至约6,优选地约5.4至约5.9的ph。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层包含锌和铜,其量对于掺杂部分中的铜为约3重量%至约6重量%,并且对于锌为约2重量%至约5重量%。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层包含锌和铜,其量对于掺杂部分中的铜为约4重量%至约5重量%,并且对于锌为约3重量%至约4重量%。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层包含在掺杂部分中具有约2%至约5%原子百分比的锌。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层包含在掺杂部分中具有约3%至约4%原子百分比的锌。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层包含在掺杂部分中原子百分比为约0.1%至约3%的镓。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层包含在掺杂部分中具有约0.75%至约1%原子百分比的镓。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层包含在掺杂部分中具有约0.05%至约1%原子百分比的铜。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层包含在掺杂部分中具有约0.6%至约0.1%原子百分比的铜。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层包含在掺杂部分中具有约0.15%至约0.2%原子百分比的铜。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层包含在掺杂部分中具有约1.5%至约5%原子百分比的铕。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层包含在掺杂部分中具有约2%至约3%原子百分比的铕。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层包含在掺杂部分中具有约3%至约4%原子百分比的铕。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层包含在掺杂部分中具有约0.1%至约6.5%原子百分比的银。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层包含在掺杂部分中具有约1.5%至约2%原子百分比的银。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层包含在掺杂部分中具有约5%至约6%原子百分比的银。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层包含在掺杂部分中具有约0.5%至约0.7%原子百分比的银。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层包含至少两种掺杂剂金属,其中第一掺杂剂以约0.5%至约5%的原子百分比存在于掺杂部分中,并且第二掺杂剂以约0.5%的原子百分比存在于掺杂部分中。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层包含在掺杂部分中具有约1%至约2%原子百分比的锌和具有约3%至约4%原子百分比的铜。在一些实施方案中,掺杂的羟基磷灰石涂层包含在掺杂部分中具有约1.3%至约1.4%原子百分比的锌和具有约3.7%至约3.8%原子百分比的铜。在一些实施方案中,通过使经羟基磷灰石涂覆的基底与锌溶液接触来形成掺入锌的经羟基磷灰石涂覆的基底。在一些实施方案中,接触步骤在约150℃下执行约72小时。在一些实施方案中,接触步骤在紧密密封的容器中执行。在一些实施方案中,在接触步骤之后形成掺入锌的经羟基磷灰石涂覆的基底。在一些实施方案中,用水性溶液对掺入锌的经羟基磷灰石涂覆的基底执行洗涤步骤。在一些实施方案中,水性溶液为去离子水。在一些实施方案中,对掺入锌的经羟基磷灰石涂覆的基底执行干燥步骤。在一些实施方案中,干燥步骤在约60℃的温度下执行约2小时。在一些实施方案中,使用提供图案的edx和xrd分析掺入锌的经羟基磷灰石涂覆的基底。在一些实施方案中,经羟基磷灰石涂覆的基底和掺入锌的经羟基磷灰石涂覆的基底的xrd图案基本上类似。在一些实施方案中,通过使经羟基磷灰石涂覆的基底与镓溶液接触来形成掺入镓的经羟基磷灰石涂覆的基底。在一些实施方案中,接触步骤在约150℃下执行约72小时。在一些实施方案中,接触步骤在紧密密封的容器中执行。在一些实施方案中,在接触步骤之后形成掺入镓的经羟基磷灰石涂覆的基底。在一些实施方案中,用水性溶液对掺入镓的经羟基磷灰石涂覆的基底执行洗涤步骤。在一些实施方案中,水性溶液为去离子水。在一些实施方案中,对掺入镓的经羟基磷灰石涂覆的基底执行干燥步骤。在一些实施方案中,干燥步骤在约60℃的温度下执行约2小时。在一些实施方案中,使用提供图案的edx和xrd分析掺入镓的经羟基磷灰石涂覆的基底。在一些实施方案中,经羟基磷灰石涂覆的基底和掺入镓的经羟基磷灰石涂覆的基底的xrd图案基本上类似。在一些实施方案中,镓处理的涂层中钙的重量百分比小于未处理的涂层中钙的重量百分比。在一些实施方案中,通过使经羟基磷灰石涂覆的基底与铜溶液接触来形成掺入铜的经羟基磷灰石涂覆的基底。在一些实施方案中,接触步骤在约120℃下执行约4小时。在一些实施方案中,接触步骤在约60℃下执行约24小时。在一些实施方案中,接触步骤在紧密密封的容器中执行。在一些实施方案中,在接触步骤之后形成掺入铜的经羟基磷灰石涂覆的基底。在一些实施方案中,用水性溶液对掺入铜的经羟基磷灰石涂覆的基底执行洗涤步骤。在一些实施方案中,水性溶液为去离子水。在一些实施方案中,对掺入铜的经羟基磷灰石涂覆的基底执行干燥步骤。在一些实施方案中,干燥步骤在约60℃的温度下执行约2小时。在一些实施方案中,使用提供图案的edx和xrd分析掺入铜的经羟基磷灰石涂覆的基底。在一些实施方案中,经羟基磷灰石涂覆的基底和掺入铜的经羟基磷灰石涂覆的基底的xrd图案基本上类似。在一些实施方案中,铜处理的涂层中钙的重量百分比小于未处理的涂层中钙的重量百分比。在一些实施方案中,通过使经羟基磷灰石涂覆的基底与铕溶液接触来形成掺入铕的经羟基磷灰石涂覆的基底。在一些实施方案中,接触步骤在约120℃下执行约2小时。在一些实施方案中,接触步骤在约60℃下执行约24小时。在一些实施方案中,接触步骤在紧密密封的容器中执行。在一些实施方案中,在接触步骤之后形成掺入铕的经羟基磷灰石涂覆的基底。在一些实施方案中,用水性溶液对掺入铕的经羟基磷灰石涂覆的基底执行洗涤步骤。在一些实施方案中,水性溶液为去离子水。在一些实施方案中,对掺入铕的经羟基磷灰石涂覆的基底执行干燥步骤。在一些实施方案中,干燥步骤在约60℃的温度下执行约2小时。在一些实施方案中,使用提供图案的edx和xrd分析掺入铕的经羟基磷灰石涂覆的基底。在一些实施方案中,经羟基磷灰石涂覆的基底和掺入铕的经羟基磷灰石涂覆的基底的xrd图案基本上类似。在一些实施方案中,铕处理的涂层中钙的重量百分比小于未处理的涂层中钙的重量百分比。在一些实施方案中,通过使经羟基磷灰石涂覆的基底与银溶液接触来形成掺入银的经羟基磷灰石涂覆的基底。在一些实施方案中,接触步骤在约60℃下执行约24小时。在一些实施方案中,接触步骤在约120℃下执行约4小时。在一些实施方案中,接触步骤在约25℃下执行约24小时。在一些实施方案中,接触步骤在紧密密封的容器中执行。在一些实施方案中,在接触步骤之后形成掺入银的经羟基磷灰石涂覆的基底。在一些实施方案中,用水性溶液对掺入银的经羟基磷灰石涂覆的基底执行洗涤步骤。在一些实施方案中,水性溶液为去离子水。在一些实施方案中,对掺入银的经羟基磷灰石涂覆的基底执行干燥步骤。在一些实施方案中,干燥步骤在约60℃的温度下执行约2小时。在一些实施方案中,使用提供图案的edx和xrd分析掺入银的经羟基磷灰石涂覆的基底。在一些实施方案中,经羟基磷灰石涂覆的基底和掺入银的经羟基磷灰石涂覆的基底的xrd图案基本上类似。在一些实施方案中,银处理的涂层中钙的重量百分比小于未处理的涂层中钙的重量百分比。在一些实施方案中,通过首先使经羟基磷灰石涂覆的基底与锌溶液接触来形成掺入锌-铜的经羟基磷灰石涂覆的基底。在一些实施方案中,接触步骤在约150℃下执行约24小时。在一些实施方案中,第一接触步骤在紧密密封的容器中执行。在一些实施方案中,在第一接触步骤之后形成掺入锌的经羟基磷灰石涂覆的基底。在一些实施方案中,执行洗涤步骤以除去锌溶液。在一些实施方案中,用去离子水执行洗涤步骤。在一些实施方案中,第一干燥步骤在约60℃下执行约2小时。在一些实施方案中,不执行第一干燥步骤。在一些实施方案中,使用铜溶液执行第二接触步骤。在一些实施方案中,第二接触步骤在约120℃下执行约4小时。在一些实施方案中,第二接触步骤在紧密密封的容器中执行。在一些实施方案中,在第二接触步骤之后形成掺入锌-铜的经羟基磷灰石涂覆的基底。在一些实施方案中,用水性溶液对掺入锌-铜的经羟基磷灰石涂覆的基底执行第二洗涤步骤。在一些实施方案中,水性溶液为去离子水。在一些实施方案中,对掺入锌-铜的经羟基磷灰石涂覆的基底执行干燥步骤。在一些实施方案中,这是第二干燥步骤。在一些实施方案中,干燥步骤在约60℃的温度下执行约2小时。在一些实施方案中,使用提供图案的edx和xrd分析掺入锌-铜的经羟基磷灰石涂覆的基底。在一些实施方案中,经羟基磷灰石涂覆的基底和掺入锌-铜的经羟基磷灰石涂覆的基底的xrd图案基本上类似。在一些实施方案中,锌-铜处理的涂层中钙的重量百分比小于未处理的涂层中钙的重量百分比。在一些实施方案中,提供了用于形成涂层的方法。在一些实施方案中,该方法包括与掺杂剂金属交换经羟基磷灰石涂覆的基底的晶格位置以形成掺杂的羟基磷灰石涂层,并且洗涤掺杂的羟基磷灰石涂层。在一些实施方案中,使用edx和xrd分析掺杂的羟基磷灰石涂层。在一些实施方案中,接触步骤之前的羟基磷灰石涂层的xrd图案与洗涤步骤之后的xrd图案基本上相同。在一些实施方案中,经羟基磷灰石涂覆的基底和掺杂的羟基磷灰石涂层的xrd图案基本上类似。实施例1:制备等离子喷涂的羟基磷灰石(psha)涂层用ha等离子喷涂钛试样块。简而言之,采用等离子炬将原料ha粉末部分熔融并加速到试样块上。这些半熔融颗粒在接触试样块时聚结成涂层。经psha涂覆的试样块的sem图像示于图3中。表1:未处理涂层的重量百分比p(重量%)ca(重量%)o(重量%)14.833.047.2表2:经处理涂层的原子百分比p(原子%)ca(原子%)o(原子%)10.3717.8363.33实施例2:将锌(zn)掺入psha涂层中。通过将9ml的1mm无机磷酸盐(pi)与0.275ml的6n氢氧化钠(naoh)混合来制备无机磷酸盐-锌(pizn)溶液。然后向混合物中添加1ml的100mmzn(no3)2。pizn溶液中的最终锌浓度为10mm。水性溶液的ph为约7.3。将如实施例1中所述制备的经psha涂覆的试样块(直径1.0英寸,厚度0.25英寸)放置在钛合金容器(长度1.0英寸,内径1.125英寸)的底部处,其中psha涂层面朝上。随后加入8ml的pizn溶液以浸没经psha涂覆的试样块。溶液体积为容器的内容积的大约70%。然后用钛合金螺帽密封容器。使用特氟隆胶带和o形环来形成紧密的密封。将密封的容器置于150℃的烘箱中持续约72小时。从烘箱中取出容器,并且冷却至室温。用去离子(di)水洗涤经pizn处理的psha试样块。然后将经pizn处理的试样块在60℃下干燥约2小时,之后用能量色散x射线光谱(edx)和x射线粉末衍射(xrd)进行分析。图4示出经pizn处理的psha涂层的sem。图5示出经pizn处理的psha涂层的edx图案。图6示出未处理的psha涂层(表示为psha)和经pizn处理的psha涂层(表示为znht)的xrd图案。xrd显示经pizn处理的psha涂层与未处理的psha涂层相比结晶度更高,并且经处理的涂层中无法检测到cao和其他磷酸钙相。另外,在处理后未检测到新的含锌相。表3示出经pizn处理的psha涂层的化学组成。表4示出了经pizn处理的psha涂层中化学组分的原子百分比。表3:经处理涂层的重量百分比溶液p(重量%)ca(重量%)o(重量%)zn(重量%)pizn14.832.343.19.8表4:经处理涂层的原子百分比溶液p(原子%)ca(原子%)o(原子%)zn(原子%)pizn11.5819.5065.283.64实施例3:将镓(ga)掺入psha涂层中。通过将ga(no3)3混合到500ml的2.51mm磷酸盐原液中以得到0.39mmga3+来制备无机磷酸盐-镓(piga)溶液。充分混合并溶解后,加入微升6nnaoh,将ph调节至8.3。将一英寸的经psha涂覆的试样块(长度1.0英寸,内径1.125英寸)放置在钛合金容器的底部处,其中涂层面朝上。随后加入8ml的piga溶液以浸没经psha涂覆的试样块。溶液体积为容器的内容积的大约70%。然后用钛合金螺帽密封容器。使用特氟隆胶带和o形环来形成紧密的密封。将密封的容器置于150℃的烘箱中持续约72小时。从烘箱中取出容器,并且冷却至室温。用di水洗涤经piga处理的psha涂层。然后将经piga处理的psha涂层在60℃下干燥约2小时,之后用edx和xrd进行分析。图7示出经piga处理的psha涂层的sem。图8示出经piga处理的psha涂层的edx图案。先前在实施例2中提及的图6示出未处理的psha涂层(表示为psha)和经piga处理的psha涂层(表示为gaht)的xrd图案。xrd显示经piga处理的psha涂层比处理前结晶度更高,并且经处理的涂层中无法检测到cao和其他磷酸钙相。另外,在用piga溶液处理后未检测到新的含镓相。表5示出经piga处理的psha涂层的化学组成。表6示出经piga处理的psha涂层的化学组分的原子%。表5:经处理涂层的重量百分比溶液p(重量%)ca(重量%)o(重量%)ga(重量%)piga16.136.145.12.6表6:经处理涂层的原子百分比溶液p(原子%)ca(原子%)o(原子%)ga9原子%)piga12.1736.1465.900.86实施例4:将铜(cu)掺入psha涂层中。通过将0.0138克氯化铜与100mldi水混合来制备0.081mm氯化铜溶液。通过将四水合物颗粒状硝酸钙与di水混合来制备0.1mm硝酸钙溶液。最后,通过在100mlnalgene广口瓶中将4ml氯化铜溶液与4ml硝酸钙溶液、32mldi水混合来制备cu溶液。然后,使用ph探针测量ph。一旦制备了cu溶液,就将如实施例1所述制备的经psha涂覆的试样块放置在nalgene广口瓶的底部处,其中psha涂层面朝上。溶液体积为大约40ml。用适当的nalgene广口瓶封盖密封容器。如以上在该实施例中所述来制备两个nalgene广口瓶(有时称为“容器”)以进行两次试验(参见表5)。将第一容器置于120℃的烘箱中持续4小时。将第二容器置于60℃的烘箱中持续24小时。从烘箱中取出容器,并且冷却至室温。用di水洗涤经cu处理的psha涂层。然后将经cu处理的psha涂层在60℃下干燥2小时,之后称重并用edx和xrd进行分析。图9为在120℃下用cu溶液处理4小时的psha涂层的sem图像,示出了掺入cu的psha涂层。图10为在120℃下周cu溶液处理4小时的psha涂层的edx图案。图11为在60℃下用cu溶液处理24小时的psha涂层的edx图案。图12示出未处理的psha涂层(表示为psha)和经cu-1处理的psha涂层(表示为cu)的xrd图案。xrd显示经cu处理的psha涂层比处理前结晶度更高。另外,在处理后未检测到新的结晶相。表7列出了每个试验条件。表7:处理条件试样块初始ph条件初始重量最终重量cu-15.714在120℃下持续4小时7.0657g7.0655gcu-45.707在60℃下持续24小时7.0664g7.0664g表8示出经cu处理的psha试样块的化学组成。表9示出处理后由edx分析的试样块cu-1和cu-4中化学组分的原子百分比(处理条件参见表7)。表8:经处理涂层的重量百分比试样块p(重量%)ca(重量%)o(重量%)cu(重量%)cu-115.634.048.51.9cu-415.634.749.20.5表9:经处理涂层的原子百分比溶液p(原子%)ca(原子%)o(原子%)cu(原子%)cu-111.4219.2068.710.68cu-411.3119.4669.040.19实施例5:将铕(eu)掺入psha涂层中。在100mlnalgene广口瓶中制备38ml氯化铕(0.001n)和2mlpi原液的溶液以产生eu溶液。一旦测得的ph值大约为6,便用大约125μlnaoh来滴定溶液。最终ph稳定在7左右。一旦制备了eu溶液,就将经psha涂覆的试样块放置在nalgene广口瓶的底部处,其中psha涂层面朝上。eu溶液体积为约40ml。容器各自用适当的nalgene广口瓶封盖来密封。如以上在该实施例5中所述来制备两个容器以进行两次试验(参见表10)。将第一容器置于120℃的烘箱中持续2小时。将第二容器置于60℃的烘箱中持续24小时。从烘箱中取出每个容器,并且冷却至室温。周di水洗涤经eu处理的psha涂层。然后将经eu处理的psha涂层在60℃下干燥2小时,之后称重并用edx和xrd进行分析。图13为在示出120℃下用eu溶液处理2小时的psha涂层的edx图案的图像。图14为在60℃下用eu溶液处理24小时的psha涂层的edx图案的图像。图15为示出未处理的psha涂层(表示为psha)和用eu溶液在60℃下处理24小时的psha涂层(表示为eu-psha)的xrd图案的曲线图。图15中的xrd图案显示经eu处理的psha涂层比处理前结晶度更高,并且涂层中无法检测到新的磷酸钙相。另外,在处理后未检测到铕结晶相。表10列出了每个试验条件。表11示出经eu处理的psha涂层的化学组成。表12示出每个经eu处理的psha涂层内化学组分的原子百分比(参见表10)。表11和表12的信息由edx分析生成。表10:处理条件表11:经处理涂层的重量百分比试样块p(重量%)ca(重量%)o(重量%)eu(重量%)eu-314.728.244.312.8eu-413.721.542.122.7表12:经处理涂层的原子百分比溶液p(原子%)ca(原子%)o(原子%)eu(原子%)eu-311.7517.4768.702.08eu-411.8014.2869.963.96实施例6:将银(ag)掺入psha涂层中。通过将约0.0236克四水合物颗粒状硝酸钙与100mldi水混合来制备0.1mm硝酸钙溶液。然后为了制备最终的银溶液,在nalgene广口瓶中将2ml的0.1mm硝酸钙溶液、6ml的0.1m硝酸银和32ml的di水混合在一起。然后使用ph探针测量ph。一旦制备了ag溶液,就将经psha涂覆的试样块放置在100mlnalgene广口瓶的底部处,其中psha涂层面朝上。在添加经psha涂覆的试样块之前,溶液体积大致为约40ml。然后用适当的nalgene广口瓶盖密封容器。按照上述方案制备三个容器用于三次试验(参见表13)。将第一容器置于60℃的烘箱中24小时(以下表示为ag-2)。将第二容器置于120℃的烘箱中4小时(以下表示为ag-3)。将第三容器在室温下放置24小时(以下表示为ag-4)。接下来,将容器从烘箱中取出,并且冷却至室温。用di水洗涤经ag处理的psha试样块。然后将经ag处理的试样块在60℃下干燥2小时,之后用edx和xrd进行分析。图16为ag-2涂层的edx图案。图17为ag-3涂层的edx图案。图18为ag-4涂层的edx图案。图19为未处理的psha涂层(表示为psha)和经ag处理的psha涂层(表示为ag-2、ag-3和ag-4)的xrd图案。xrd显示对于ag-4和ag-2,在离子掺入之后未检测到新的相。表13提供了三次试验中每一次试验的实验条件。表14示出在不同条件下用银溶液处理的psha试样块的化学组成。表15示出在如表13所示的各种条件下用银溶液处理的三个psha试样块中化学组分的edx分析结果和原子百分比。表13:处理条件试样块初始ph条件初始重量最终重量ag-25.707在60℃下持续24小时7.0481g7.0492gag-35.500在120℃下持续4小时7.0601g7.0626gag-45.845在25℃下持续24小时7.0610g7.0614g表14:经处理涂层的重量百分比试样块p(重量%)ca(重量%)o(重量%)ag(重量%)ag-216.636.239.47.8ag-315.230.534.519.8ag-418.940.438.12.7表15:经处理涂层的原子百分比溶液p(原子%)ca(原子%)o(原子%)ag(原子%)ag-213.5022.7161.961.83ag-313.6421.2360.005.13ag-415.1625.0559.170.63实施例7:将zn和cu掺入psha涂层中。为了制备pizn溶液,将9mlpi浓缩物与0.275ml6nnaoh混合。然后添加1ml100mmzn(no3)2。pizn溶液的最终锌浓度为10mm。为了制备0.081mm氯化铜溶液,将约0.0138克氯化铜与100mldi水混合。为了制备0.1mm硝酸钙溶液,将约0.0236克硝酸钙与100mldi水混合。为了制备铜溶液,将约4ml的0.081mm氯化铜溶液和4ml的0.1mm硝酸钙溶液与32ml的di水混合。准备了两次试验,指示为双离子1和双离子2(参见表16)。对于第一处理,将一英寸乘四分之一英寸的经psha涂覆的试样块放置在钛合金容器的底部处,其中psha涂层面朝上。然后加入10ml的pizn溶液以浸没经psha涂覆的试样块。溶液体积为容器的内容积的大约70%。然后用钛合金螺帽密封容器。使用o形环来形成紧密的密封。将密封的容器置于150℃的烘箱中持续24小时。从烘箱中取出容器,并且冷却至室温。用di水洗涤经pizn处理的psha涂层。然后在第二次处理之前,将经pizn处理的psha涂层在60℃下干燥2小时。然后,对于第二次处理,使经pizn处理的psha涂层(双离子1)经受铜处理。将经pizn处理的psha涂层置于nalgene广口瓶底部的cu溶液中,其中经pizn处理的psha涂层面朝上。最终cu溶液体积为约40ml。用适当的nalgene广口瓶封盖密封容器。将密封的nalgene广口瓶置于120℃的烘箱中持续4小时。将cu溶液的容器从烘箱中取出,并且使其冷却至室温。用di水洗涤经zn-cu处理的psha涂层。然后将经zn-cu处理的psha涂层在60℃下干燥2小时,之后用edx和xrd进行分析。重复第二试验“双离子2”,但反应顺序相反(即,首先执行cu溶液处理,然后执行pizn溶液处理)。表16示出双离子1和双离子2的实验设计,并且表17示出掺入经psha涂覆的试样块中的zn和cu的每种样品溶液的化学组成。表18示出由edx分析提供的经zn和cu处理的psha涂层(即,双离子1和双离子2)中化学组分的原子%。图20为双离子1psha涂层的edx图案。图21为双离子2psha涂层的edx图案。双离子2的edx未检测到铜(参见表16)。图22和图23分别为双离子1psha涂层和双离子2psha涂层在1000倍放大率下的sem图像。图24为未处理的psha涂层(表示为psha)和zn-cupsha涂层(双离子1)(表示为zn-cu)的xrd图案。表16:处理条件表17:经处理涂层的重量百分比试样块p(重量%)ca(重量%)o(重量%)cu(重量%)zn(重量%)双离子114.832.044.84.73.7双离子215.834.146.25.2表18:经处理涂层的原子百分比溶液p(原子%)ca(原子%)o(原子%)zn(原子%)cu(原子%)双离子111.3518.9866.581.353.72双离子211.8519.7567.021.84实施例8:psha-zn的抗菌特性使金黄色葡萄球菌(s.aureus)的过夜培养物在定轨振荡器中在36.5℃下在100%tsb培养基中生长。然后将细菌用pbs稀释100倍以达到107cfu/ml。使用1%tsb(胰蛋白酶大豆肉汤)测试杀菌实验。将掺杂部分中具有9.82重量%锌的经psha-zn涂覆的试样块或经psha涂覆的试样块放入50mlfalcon管中。然后将10ml1%tbs添加到falcon管中。将0.1ml的107cfu/ml金黄色葡萄球菌添加到falcon管中,使得接种量为105cfu/ml。将具有经psha涂覆的试样块(对照物)或经psha-zn涂覆的试样块(psha-zn)的管在36.5℃下温育24小时。在36.5℃下24小时后,收集0.1ml悬浮液,通过在pbs中连续稀释来进行适当稀释。将细菌铺板并用3mpetrifilm有氧计数板进行计数:将0.75ml细菌悬浮液吸移到petrifilm的中心,并且将petrifilm在36.5℃下温育24小时。对照物和psha-zn涂层中的每一者的三个样品的平均值示于表19中。表19:细菌计数时间对照物(cfu/ml)psha-zn(cfu/ml)24小时5.5×1063.7×103实施例9:结晶度定量采用cukα过滤辐射和石墨二次单色仪的panalyticalx’pertprox射线衍射仪用于悬浮液(离心并干燥)和膜(干燥并压碎)中颗粒的x射线衍射(xrd)研究。xrd扫描速率固定在1°/min,并且步长为0.02°。所使用的加速电压和电流分别为45kv和40ma。xrd数据的定量分析通过rietveld全轮廓拟合,使用maud晶体学计算程序(2.04版本)进行。其细节在别处报道(kumar等人,2004年;kumar等人,2005年;mccusker等人,1999年)。ha晶体模型使用来自用于ha的国际晶体结构数据库(icsd)的信息来构建。ha晶体学模型的细节列于表18中。使用伪voigt函数对峰形进行建模,并且对两个不对称性参数进行精修。在每种情况下,对四个背景参数、缩放系数、五个峰形参数、2θ偏移(零点校正)、样品位移、晶胞参数和原子位置进行精修。在参数精修之后,对各种原子种类的原子位置占有率和热振动因子进行精修,直到达到收敛。使用由knowles等人(1994年)给出的相同推理,将与-oh基团相关联的氧原子和氢原子的占有率精修为基团(即,oh-占有率)。表20.用于rietveld精修的晶体参数的总结根据实施例1制备psha试样块。如上所述,使用xrd分析经psha涂覆的试样块。所得的结晶度百分比示于表21中。根据实施例7制备psha试样块。如上所述,使用xrd分析经处理的psha试样块。所得的结晶度百分比示于表22中。表21:处理前的结晶度百分比表22:处理后的结晶度百分比提供了非限制性条款列表。条款1.一种涂覆的植入物,包括:基底,所述基底具有面向骨的表面,和掺杂的涂层,所述掺杂的涂层位于所述基底的所述面向骨的表面上,其中所述掺杂的涂层包含钙和掺杂剂金属,并且其中所述掺杂剂金属的浓度在所述掺杂的涂层中为各向异性的。条款2.根据条款1所述的涂覆的植入物,其中,所述掺杂剂金属选自由以下项组成的组:镁、锶、镓、锌、铜、银、铕、铽以及它们的组合。条款3.根据条款2或3所述的涂覆的植入物,包含至少两种掺杂剂金属。条款4.根据前述条款中任一项所述的涂覆的植入物,其中,所述掺杂剂金属包括锌。条款5.根据前述条款中任一项所述的涂覆的植入物,其中,所述掺杂的涂层包含羟基磷灰石。条款6.根据前述条款中任一项所述的涂覆的植入物,其中,所述掺杂的涂层包括掺杂部分以及位于所述掺杂部分和所述基底之间的未掺杂部分。条款7.根据条款6所述的涂覆的植入物,其中,所述掺杂剂金属为所述掺杂的涂层的所述掺杂部分的至少0.5重量%。条款8.根据条款6或7所述的涂覆的植入物,其中,所述掺杂剂金属为所述掺杂的涂层的所述掺杂部分的至少0.1原子%。条款9.根据条款6-8中任一项所述的涂覆的植入物,其中,所述掺杂剂金属为所述掺杂的涂层的所述掺杂部分的约0.1原子%至约6原子%。条款10.根据条款6-9中任一项所述的涂覆的植入物,其中,所述掺杂的涂层的所述掺杂部分包含小于约40重量%的钙。条款11.根据条款6-10中任一项所述的涂覆的植入物,其中,所述掺杂的涂层的所述掺杂部分包含小于约35重量%的钙。条款12.根据条款6-11中任一项所述的涂覆的植入物,其中,所述掺杂剂金属为所述掺杂的涂层的所述掺杂部分的至少0.5重量%。条款13.根据条款6-12中任一项所述的涂覆的植入物,其中,所述掺杂剂金属为所述掺杂的涂层的所述掺杂部分的至少2重量%。条款14.根据条款6-13中任一项所述的涂覆的植入物,其中,所述无掺杂部分中的钙浓度高于所述掺杂部分中的钙浓度。条款15.根据前述条款中任一项所述的涂覆的植入物,其中,所述掺杂的涂层为至少约95%结晶的。条款16.一种用于形成涂覆的植入物的方法,所述方法包括:使基底上的羟基磷灰石涂层与包含掺杂剂金属离子的水性溶液接触,以及在接触步骤之后洗涤所述羟基磷灰石涂层以形成包含钙和掺杂剂金属的掺杂的羟基磷灰石涂层,其中所述掺杂剂金属的浓度在所述掺杂的羟基磷灰石涂层中为各向异性的。条款17.根据条款16所述的方法,其中,所述接触步骤在约25℃至约175℃的温度下执行。条款18.根据条款16或17所述的方法,其中执行所述接触步骤持续约30分钟至约80小时的时间。条款19.根据条款16-18中任一项所述的方法,其中执行所述接触步骤持续约1.5小时至约72小时的时间。条款20.根据条款16-19中任一项所述的方法,其中,所述接触步骤在约25℃下执行约24小时。条款21.根据条款16-19中任一项所述的方法,其中,所述水性溶液具有在约5.5至约8.0范围内的ph。条款22.根据条款16-20中任一项所述的方法,其中,所述接触步骤在约25℃至约60℃的温度下执行。条款23.根据条款16-20中任一项所述的方法,其中,所述接触步骤在约60℃至约150℃的温度下执行。条款24.根据条款16-20中任一项所述的方法,其中,所述接触步骤在约60℃至约120℃的温度下执行。条款25.根据条款16-24中任一项所述的方法,其中,所述掺杂剂金属离子选自由以下项组成的组:镁、锶、镓、锌、铜、银、铕、铽以及它们的组合。条款26.根据条款16-25中任一项所述的方法,其中,所述水性溶液包含至少两种掺杂剂金属离子。条款27.根据条款16-26中任一项所述的方法,其中,所述掺杂的羟基磷灰石涂层中钙的重量百分比小于所述接触步骤之前钙的重量百分比。条款28.根据条款16-27中任一项所述的方法,其中与所述羟基磷灰石涂层相比,所述掺杂的羟基磷灰石涂层具有改善的抗菌特性。条款29.根据条款28所述的方法,其中,所述改善为至少10倍。条款30.根据条款29所述的方法,其中,所述改善为至少100倍。条款31.根据条款30所述的方法,其中,所述改善为至少1,000倍。条款32.根据条款16-31中任一项所述的方法,其中,所述掺杂的羟基磷灰石涂层的结晶度百分比高于所述羟基磷灰石涂层的结晶度百分比。条款33.根据条款32所述的方法,其中,所述接触步骤之后的结晶度百分比为至少约95%结晶的。条款34.一种用于在植入物上形成掺杂的涂层的方法,所述方法包括:与掺杂剂金属交换从羟基磷灰石涂层起的晶格位置,以形成包含掺杂的羟基磷灰石部分和未掺杂的羟基磷灰石部分的掺杂的羟基磷灰石涂层,以及洗涤所述掺杂的羟基磷灰石涂层,其中所述掺杂剂金属的浓度在所述掺杂的羟基磷灰石涂层中为各向异性的。条款35.根据条款34所述的方法,其中,所述交换步骤通过使经羟基磷灰石涂覆的基底与包含掺杂剂金属离子的水性溶液接触来执行。条款36.根据条款34或35所述的方法,其中,所述掺杂的羟基磷灰石涂层的结晶度百分比大于所述羟基磷灰石涂层的结晶度百分比。条款37.根据条款34-36中任一项所述的方法,其中,所述接触步骤之后的结晶度百分比为至少约95%结晶的。条款38.一种涂覆的植入物,包括:基底;和涂层,所述涂层位于所述基底的表面上,其中所述涂层包括掺杂的羟基磷灰石部分以及位于所述掺杂的羟基磷灰石部分和所述基底之间的未掺杂的羟基磷灰石部分,并且其中所述掺杂的羟基磷灰石部分包含钙和掺杂剂金属。条款39.根据条款38所述的涂覆的植入物,其中,所述掺杂剂金属选自由以下项组成的组:镁、锶、镓、锌、铜、银、铕、铽以及它们的组合。条款40.根据条款38或39所述的涂覆的植入物,其中,所述未掺杂的羟基磷灰石部分不包含所述掺杂剂金属。条款41.根据条款38-40中任一项所述的涂覆的植入物,其中,所述涂层包含钙和锌。条款42.根据条款38-40中任一项所述的涂覆的植入物,其中,所述未掺杂的羟基磷灰石部分中不存在锌。条款43.一种涂覆的植入物,包括:基底,所述基底具有面向骨的表面,和涂层,所述涂层位于所述基底的所述面向骨的表面上,所述涂层具有与所述基底相对的外表面,其中所述涂层包含钙和掺杂剂金属,并且所述掺杂剂金属的浓度从所述涂层的所述外表面朝向所述基底的所述表面降低。条款44.根据条款43所述的涂覆的植入物,其中,所述掺杂剂金属选自由以下项组成的组:镁、锶、镓、锌、铜、银、铕、铽以及它们的组合。条款45.根据条款43或44所述的涂覆的植入物,其中,所述掺杂剂金属为锌。当前第1页12
当前第1页1 2 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1