1.本发明涉及生物医药、生物医学、纳米技术、化学梯度沉降技术领域，特别涉及一种化学梯度沉降纳米银包膜在干细胞培养隔层支架的形成方式。
背景技术：
2.纳米(nm)是物理学界在继微米之后，最小的计量单位，随着纳米技术的开发。大量的纳米材料被发现具有反物理现象。以及特殊功能质效，纳米银，也是在金属纳米材料被广泛开发后。形成的一个新兴研究领域。银在纳米状态下，生物医学利用的杀菌能力产生了质的飞跃。极少的纳米银可产生过去无法想象的强大的杀菌作用，纳米银可在数分钟内杀死650多种细菌，同时具有广谱杀菌，无任何的组织耐药性，研究还表明，纳米银能够促进细胞的生长及受损细胞的修复、伤口的愈合，无任何表面皮肤接触毒性反应，这使广泛应用纳米银技术赋予了，极大地生物医学利用的前景，是目前先进的天然抗菌剂。
3.现有技术中的干细胞培养隔层支架为普通高分子材料，其在发挥干细胞被培养的过程中，不能有效的保护不被被外界微生物侵蚀，尤其是细菌的侵蚀性的生长。
4.且普通的高分子培养隔层支架不能改善创伤周围组织的微循环，同时不能有效的促进伤口愈合急促进受损细胞的修复和再生，起不到消除炎性的反应。不能有效地激活并促进受损组织细胞的生长，减少疤痕的生成，加速伤口的愈合。
5.而纳米银颗粒能够直接进入菌体，纳米银颗粒与病原菌的细胞壁/膜结合后，迅速与氧代谢酶的巯基(
‑
sh)结合，使巯基(
‑
sh)结合酶失活，阻断微生物的有氧代谢以及三羧酸循环。促使其代谢异常而窒息而死的独特作用机制，可杀死与其接触的目前医学界所知的大多数细菌、真菌、霉菌、支原体、衣原体、孢子等微生物。经我们中国国内的八大权威机构研究发现：纳米银对耐药病原体。效果尤其显著。如耐药金葡萄球菌、耐药大肠杆菌、耐药厌氧菌、耐药化脓链球菌、耐药绿脓杆菌等有全面的抗菌活性；对表面创伤常见的细菌如绿脓杆菌、金黄色葡萄球菌、大肠杆菌、真菌(如霉菌、白色念珠菌)以及其它的革兰氏阳性、革兰氏阴性致病菌都有杀菌作用；对支原体、衣原体，引起性传播性疾病的乳头瘤病毒、淋球菌、梅毒螺旋体也有强大的杀菌作用。纳米银形成保护膜后，在人体内被逐渐吸收，所以抗菌效果持久，已成为目前发展的方向。
6.基于以上因素，本申请人经过多年的临床实践经验，特别研发了一种化学梯度沉降纳米银包膜在干细胞培养隔层支架的形成方式，临床使用具有杀灭细菌，真菌，支原体，衣原体，螺旋体，甚至滴虫，并且不产生耐药性。
技术实现要素：
7.本发明的目的在于提供一种化学梯度沉降纳米银包膜在干细胞培养隔层支架的形成方式。纳米银在干细胞培养隔层支架包膜后有比较强大的抗菌隔离作用以及抗菌屏蔽作用，在发挥干细胞在被培养的过程中，有效的保护不被外界微生物，尤其是细菌的侵蚀性
的生长。
8.本发明的目的是通过下述技术方案予以实现：一种化学梯度沉降纳米银包膜在干细胞培养隔层支架的形成方式，包括以下步骤，
9.a、干细胞培养隔层支架，消毒处理，经高频振荡清洗；
10.b、取离心容器放置于搅拌机内，打开搅拌机，20转/min，缓慢导入极性惰性分散液，进行化学稳定和溶解，形成第一溶液；
11.c、向步骤b的第一溶液导入纳米银胶浆，搅拌均匀，形成第二溶液备用；
12.d、将步骤a中的干细胞培养隔层支架放置于离心容器内，打开离心机进行旋涂；
13.e、取出(干细胞培养隔层支架)，抽真空干燥1
‑
4h，在0
‑
5℃条件下保存，制备细胞备用。
14.进一步地，所述极性惰性分散液采用n
‑
n二甲基乙酰胺和n
‑
n二甲基甲酰胺一种或是二者按照0.5：2进行混合。
15.进一步地，所述极性惰性分散液的参数控制，沸点153℃，相对密度0.95，相对蒸气密度2.51，临界温度374℃，折射率(25℃)：1.42817，黏度(,25℃)0.802mpa
·
s，比旋光度0.94
°
，电导率6
×
10
‑
8s/m，热导率c0.1657w/(m
·
k),20
°
。
16.进一步地，所述极性惰性分散液拓扑分子极性表面积(tpsa)为15
‑
22。
17.进一步地，所述纳米银胶浆占总质量比0.05
‑
0.2％的纳米银含量。
18.进一步地，所述纳米银胶浆占总质量比0.18％的纳米银含量。
19.进一步地，所述旋涂为速度5000
‑
10000rpm，时间为1
‑
5min下进行操作实现纳米银的负载。
20.进一步地，所述步骤d中旋涂过程重复1
‑
4次，制得占总质量0.18％的含纳米银基体纳米膜，抽出dmf分散液。
21.进一步地，所述步骤d中旋涂过程重复3次。
22.进一步地，所述步骤e中抽真空干燥时间控制3h，在4℃条件下保存，制备细胞备用。
23.与现有技术相比，本发明的有益效果是：
24.1、现有技术没有纳米银在干细胞培养隔层支架的内外镀层分离概念。
25.2、现有技术没有本发明的内靶体ag全包容分散液的概念与技术。
26.3、现有技术没有本发明的内涂层化学梯度沉降辅助胶体。生长稳定附着其中，内镀层最终是接触干细胞培养液及干细胞贴壁生长关键部位,是含有纳米银的复合材料，附着性良好。
27.4、现有技术没有本发明的外镀层区有比较强大的抗菌隔离作用以及抗菌屏蔽作用。在发挥干细胞在被培养的过程中，有效的保护不被外界微生物，尤其是细菌的侵蚀性的生长。
28.5、本发明采用的纳米银可高效杀灭数百种致病微生物。改善创伤周围组织的微循环，有效的促进伤口愈合，促进受损细胞的修复和再生，消除炎性反应。有效地激活并促进受损组织细胞的生长，减少疤痕的生成，加速伤口的愈合。具有超强的渗透性，属于非抗菌素杀菌剂，克服了抗菌素杀菌的很多弊病。
29.6、现有技术没有本发明的化学沉降制备目标体的纳米银薄膜形成技术。
具体实施方式
30.下面将结合本发明实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例，基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
31.一种化学梯度沉降纳米银包膜在干细胞培养隔层支架的形成方式，包括以下步骤，
32.a、干细胞培养隔层支架，消毒处理，经高频振荡清洗；
33.b、取离心容器放置于搅拌机内，打开搅拌机，20转/min，缓慢导入极性惰性分散液，进行化学稳定和溶解，形成第一溶液；
34.c、向步骤b的第一溶液导入纳米银胶浆，搅拌均匀，形成第二溶液备用；
35.d、将步骤a中的干细胞培养隔层支架放置于离心容器内，打开离心机进行旋涂；
36.e、取出(干细胞培养隔层支架)，抽真空干燥1
‑
4h，在0
‑
5℃条件下保存，制备细胞备用。
37.在本实施例中，所述极性惰性分散液采用n
‑
n二甲基乙酰胺和n
‑
n二甲基甲酰胺一种或是二者按照0.5：2进行混合。
38.在本实施例中，所述极性惰性分散液的参数控制，沸点153℃，相对密度0.95，相对蒸气密度2.51，临界温度374℃，折射率(25℃)：1.42817，黏度(,25℃)0.802mpa
·
s，比旋光度0.94
°
，电导率6
×
10
‑
8s/m，热导率c0.1657w/(m
·
k),20
°
。
39.在本实施例中，所述极性惰性分散液拓扑分子极性表面积(tpsa)为15
‑
22。
40.在本实施例中，所述纳米银胶浆占总质量比0.05
‑
0.2％的纳米银含量。
41.在本实施例中，所述纳米银胶浆占总质量比0.18％的纳米银含量。
42.在本实施例中，所述旋涂为速度5000
‑
10000rpm，时间为1
‑
5min下进行操作实现纳米银的负载。
43.在本实施例中，所述步骤d中旋涂过程重复1
‑
4次，制得占总质量0.18％的含纳米银基体纳米膜，抽出dmf分散液。
44.在本实施例中，所述步骤d中旋涂过程重复3次.
45.在本实施例中，所述步骤e中抽真空干燥时间控制3h，在4℃条件下保存，制备细胞备用。
46.实施例1
47.聚乙烯氧peo材料培养隔层支架，高频振荡清洗。取离心容器放置于搅拌机，打开搅拌机，20转/min，缓慢导入dmf分散液，(dmf分散液使用n,n
‑
二甲基甲酰胺(n,n
‑
dimethylformamide)，dmf分散液作为极性惰性溶剂，为无色透明液体，沸点153℃，相对密度(水＝1)0.95，相对蒸气密度(空气＝1)2.51，临界温度374℃，折射率(25℃)：1.42817，黏度(,25℃)0.802mpa
·
s，比旋光度0.94
°
，电导率6
×
10
‑
8s/m，热导率c0.1657w/(m
·
k),20
°
，拓扑分子极性表面积(tpsa)：20.3。全过程避免紫外线环境，导入纳米银胶浆，占总质量比0.18％的纳米银，搅拌均匀备用。培养隔层支架放置与离心容器内，打开离心，旋转速度为5000rpm，时间为3min下进行旋涂，实现纳米银的负载。以上过程重复3次，制得占总质量0.18％的含纳米银基体纳米膜，抽出dmf分散液。取出基底材料(培养隔层支架)，抽真空
干燥3h。在4℃保存，制备细胞备用。
48.实施例2
49.聚乙烯氧peo培养隔层支架，高频振荡清洗。取离心容器放置于搅拌机，打开搅拌机，20转/min，缓慢导入dmf分散液，(dmf分散液使用n
‑
n二甲基乙酰胺和n
‑
n二甲基甲酰胺二者按照0.5：2进行混合)，dmf分散液作为极性惰性溶剂，拓扑分子极性表面积(tpsa)：20。全过程避免紫外线环境，导入纳米银胶浆。占总质量比0.19％的纳米银，搅拌均匀备用。将培养隔层支架放置于离心容器内，打开离心，旋转速度为6500rpm，时间为1min下进行旋涂，实现纳米银的负载。以上过程重复2次，制得占总质量0.18％的含纳米银基体纳米膜，抽出dmf分散液。取出基底材料(培养隔层支架)，抽真空干燥1.5h。在2℃保存，制备细胞备用。
50.实施例3
51.类peo聚合物培养隔层支架，高频振荡清洗。取离心容器放置于搅拌机，打开搅拌机，20转/min，缓慢导入dmf分散液，(dmf分散液使用n,n
‑
二甲基甲酰胺(n,n
‑
dimethylformamide)，dmf分散液作为极性惰性溶剂，为无色透明液体，沸点153℃，相对密度(水＝1)0.95，相对蒸气密度(空气＝1)2.51，临界温度374℃，折射率(25℃)：1.42817，黏度(,25℃)0.802mpa
·
s，比旋光度0.94
°
，电导率6
×
10
‑
8s/m，热导率c0.1657w/(m
·
k),20
°
，拓扑分子极性表面积(tpsa)：20.3。全过程避免紫外线环境。导入纳米银胶浆，占总质量比0.18％的纳米银，搅拌均匀备用。将培养隔层支架放置于离心容器内，打开离心，旋转速度为6000rpm，时间为2min下进行旋涂，实现纳米银的负载。以上过程重复3次，制得占总质量0.18％的含纳米银基体纳米膜，抽出dmf分散液。取出基底材料(培养隔层支架)，抽真空干燥3h。在4℃保存，制备细胞备用。
52.实施例4
53.类peo聚合物培养隔层支架，高频振荡清洗。取离心容器放置于搅拌机，打开搅拌机，20转/min，缓慢导入dmf分散液，(dmf分散液使用n,n
‑
二甲基甲酰胺(n,n
‑
dimethylformamide)，dmf分散液作为极性惰性溶剂，分散液拓扑分子极性表面积(tpsa)：21，全过程避免紫外线环境，导入纳米银胶浆，占总质量比0.2％的纳米银，搅拌均匀备用。将培养隔层支架放置于离心容器内，打开离心，旋转速度为6500rpm，时间为3min下进行旋涂，实现纳米银的负载。以上过程重复4次，制得占总质量0.18％的含纳米银基体纳米膜，抽出dmf分散液。取出基底材料(培养隔层支架)，抽真空干燥4h。在5℃保存，制备细胞备用。
54.实施例5
55.聚乙烯氧peo培养隔层支架，高频振荡清洗。取离心容器放置于搅拌机，打开搅拌机，20转/min，缓慢导入dmf分散液，(dmf分散液使用n,n
‑
二甲基甲酰胺(n,n
‑
dimethylformamide)，dmf分散液作为极性惰性溶剂，为无色透明液体，沸点153℃，相对密度(水＝1)0.95，相对蒸气密度(空气＝1)2.51，临界温度374℃，折射率(25℃)：1.42817，黏度(,25℃)0.802mpa
·
s，比旋光度0.94
°
，电导率6
×
10
‑
8s/m，热导率c0.1657w/(m
·
k)，20
°
，拓扑分子极性表面积(tpsa)：20.3。全过程避免紫外线环境，导入纳米银胶浆。占总质量比0.18％的纳米银，搅拌均匀备用。将培养隔层支架放置于离心容器内，打开离心，旋转速度为7000rpm，时间为1min下进行旋涂，实现纳米银的负载。以上过程重复3次，制得占总质量0.18％的含纳米银基体纳米膜，抽出dmf分散液。取出基底材料(培养隔层支架)，抽真空干燥3h。在4℃保存，制备细胞备用。
56.实施例6
57.聚乙烯氧peo培养隔层支架，高频振荡清洗。取离心容器放置于搅拌机，打开搅拌机，20转/min，缓慢导入dmf分散液，(dmf分散液使用n，n
‑
二甲基甲酰胺(n，n
‑
dimethyl formamide)，dmf分散液作为极性惰性溶剂，分散液拓扑分子极性表面积(tpsa)：19。全过程避免紫外线环境，导入纳米银胶浆，占总质量比0.18％的纳米银，搅拌均匀备用。将培养隔层支架放置于离心容器内，打开离心，旋转速度为8500rpm，时间为4min下进行旋涂，实现纳米银的负载。以上过程重复4次，制得占总质量0.18％的含纳米银基体纳米膜，抽出dmf分散液。取出基底材料(培养隔层支架)，抽真空干燥2h。在4℃保存，制备细胞备用。
58.通过实施1
‑
实施例6对纳米银培养隔层支架与普通高分子材料的培养隔层支架进行大肠杆菌抑菌及杀菌进行对比，如下表1、表2所示；
59.表1
60.ꢀꢀ
纳米细胞刮刀普通高分子细胞刮刀实施例1大肠杆菌最低抑菌浓度mic(mg/ml)0.05不抑菌，大肠杆菌满视野实施例2大肠杆菌最低抑菌浓度mic(mg/ml)0.09不抑菌，大肠杆菌满视野实施例3大肠杆菌最低抑菌浓度mic(mg/ml)0.04不抑菌，大肠杆菌满视野实施例4大肠杆菌最低抑菌浓度mic(mg/ml)0.13不抑菌，大肠杆菌满视野实施例5大肠杆菌最低抑菌浓度mic(mg/ml)0.04不抑菌，大肠杆菌满视野实施例6大肠杆菌最低抑菌浓度mic(mg/ml)0.12不抑菌，大肠杆菌满视野
61.表2
62.ꢀꢀ
纳米银细胞刮刀普通高分子细胞刮刀实施例1大肠杆菌最低杀菌浓度mbc(mg/ml)0.5不杀菌，大肠杆菌满视野实施例2大肠杆菌最低杀菌浓度mbc(mg/ml)0.9不杀菌，大肠杆菌满视野实施例3大肠杆菌最低杀菌浓度mbc(mg/ml)0.45不杀菌，大肠杆菌满视野实施例4大肠杆菌最低杀菌浓度mbc(mg/ml)0.8不杀菌，大肠杆菌满视野实施例5大肠杆菌最低杀菌浓度mbc(mg/ml)0.56不杀菌，大肠杆菌满视野实施例6大肠杆菌最低杀菌浓度mbc(mg/ml)0.78不杀菌，大肠杆菌满视野
63.通过实施1
‑
实施例6对纳米银培养隔层支架与普通高分子材料的培养隔层支架进行白色念珠菌抑菌及杀菌进行对比，如下表3、表4所示；
64.表3
65.ꢀꢀ
纳米银细胞刮刀普通高分子细胞刮刀实施例1白色念珠菌最低抑菌浓度mic(mg/ml)0.01不抑菌，大肠杆菌满视野实施例2白色念珠菌最低抑菌浓度mic(mg/ml)0.025不抑菌，大肠杆菌满视野实施例3白色念珠菌最低抑菌浓度mic(mg/ml)0.006不抑菌，大肠杆菌满视野实施例4白色念珠菌最低抑菌浓度mic(mg/ml)0.02不抑菌，大肠杆菌满视野实施例5白色念珠菌最低抑菌浓度mic(mg/ml)0.01不抑菌，大肠杆菌满视野实施例6白色念珠菌最低抑菌浓度mic(mg/ml)0.028不抑菌，大肠杆菌满视野
66.表4
67.ꢀꢀ
纳米银细胞刮刀普通高分子细胞刮刀实施例1白色念珠菌最低杀菌浓度mbc(mg/ml)0.1不杀菌，大肠杆菌满视野实施例2白色念珠菌最低杀菌浓度mbc(mg/ml)0.3不杀菌，大肠杆菌满视野
实施例3白色念珠菌最低杀菌浓度mbc(mg/ml)0.18不杀菌，大肠杆菌满视野实施例4白色念珠菌最低杀菌浓度mbc(mg/ml)0.25不杀菌，大肠杆菌满视野实施例5白色念珠菌最低杀菌浓度mbc(mg/ml)0.15不杀菌，大肠杆菌满视野实施例6白色念珠菌最低杀菌浓度mbc(mg/ml)0.45不杀菌，大肠杆菌满视野
68.通过表1、表2能够直观的对比观察出纳米银培养隔层支架，对大肠杆菌具有抑菌及杀菌的作用，而普通的高分子材料的培养隔层支架没有相应的抑菌及杀菌效果。
69.通过表3、表4能够直观的对比观察出纳米银培养隔层支架，对白色念珠菌抑菌具有抑菌及杀菌的作用。
70.对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。
71.此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。