薄膜的作用，因而，中间层本身能够提高结合强度。另一方面，本发明在现有的镁合金
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tio2薄膜之间增加了多孔薄膜，使得后续的tio2薄膜的部分粒子能够镶嵌于mgo薄膜的孔状结构中，形成了机械咬合效应，进而提高了衬底与薄膜的结合强度。也就是说，结合强度的提高是孔隙数量与mgo粒子含量的综合结果。进一步的，发明人通过研究发现，mgo
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聚四氟乙烯复合靶材中聚四氟乙烯的含量需在18%
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45%之间才能使结合强度获得较好的提升。其原因在于过低含量的聚四氟乙烯将导致孔洞数量降低，过高含量的聚四氟乙烯将导致中间层mgo粒子含量过低，这都不利于结合强度的提高。
具体实施方式
14.下面通过具体实施例来验证本发明的技术效果，但是本发明的实施方式不局限于此。
15.实施例1一种血管支架复合薄膜的制备方法，包括以下步骤：a. 衬底预处理：以mg
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zn
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y
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nd医用镁合金为衬底材料，先后经脱脂处理、砂纸打磨、无水乙醇超声清洗并烘干待用，其中脱脂处理选用浓度为15%的naoh溶液，超声清洗时间15min。
16.b.制备mgo
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聚四氟乙烯复合薄膜：将烘干的医用镁合金放入溅射镀膜设备中，以mgo
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聚四氟乙烯复合靶材为溅射源（复合靶材中聚四氟乙烯的体积分数为20%），在氩气气氛下制备mgo
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聚四氟乙烯复合薄膜，其中电源功率为50w，氩气流量50sccm，衬底温度120℃，溅射时间15min。
17.c.制备mgo多孔薄膜：将mgo
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聚四氟乙烯复合薄膜放入真空退火炉中，在450℃下保温20min，得到mgo多孔薄膜。
18.d. 制备tio2薄膜：将mgo多孔薄膜放入溅射镀膜设备中，以纯度为99.99%的钛靶作为溅射源，在氧气和氩气的混合气氛下制备tio2薄膜，其中，溅射气压1pa，氩气流量40sccm，氧气流量10sccm，溅射时间60min，衬底温度150℃。
19.通过上述方法得到的复合薄膜的结合强度比对照组提高了16.9%，其中对照组为直接在mg
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zn
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y
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nd医用镁合金表面溅射形成tio2薄膜，对照组的结合强度为27.4mpa。
20.实施例2一种血管支架复合薄膜的制备方法，包括以下步骤：a.衬底预处理：以mg
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zn
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y
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nd医用镁合金为衬底材料，先后经脱脂处理、砂纸打磨、无水乙醇超声清洗并烘干待用，其中脱脂处理选用浓度为15%的naoh溶液，超声清洗时间15min。
21.b.制备mgo
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聚四氟乙烯复合薄膜：将烘干的医用镁合金放入溅射镀膜设备中，以mgo
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聚四氟乙烯复合靶材为溅射源（复合靶材中聚四氟乙烯的体积分数为27%），在氩气气氛下制备mgo
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聚四氟乙烯复合薄膜，其中电源功率为50w，氩气流量50sccm，衬底温度120℃，溅射时间15min。
22.c.制备mgo多孔薄膜：将mgo
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聚四氟乙烯复合薄膜放入真空退火炉中，在450℃下保温20min，得到mgo多孔薄膜。
23.d.制备tio2薄膜：将mgo多孔薄膜放入溅射镀膜设备中，以纯度为99.99%的钛靶作
为溅射源，在氧气和氩气的混合气氛下制备tio2薄膜，其中，溅射气压1pa，氩气流量40sccm，氧气流量10sccm，溅射时间60min，衬底温度150℃。
24.通过上述方法得到的复合薄膜的结合强度比对照组提高了19.1%，其中对照组为直接在mg
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zn
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y
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nd医用镁合金表面溅射形成tio2薄膜。
25.实施例3一种血管支架复合薄膜的制备方法，包括以下步骤：a.衬底预处理：以mg
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zn
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y
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nd医用镁合金为衬底材料，先后经脱脂处理、砂纸打磨、无水乙醇超声清洗并烘干待用，其中脱脂处理选用浓度为15%的naoh溶液，超声清洗时间15min。
26.b.制备mgo
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聚四氟乙烯复合薄膜：将烘干的医用镁合金放入溅射镀膜设备中，以mgo
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聚四氟乙烯复合靶材为溅射源（复合靶材中聚四氟乙烯的体积分数为35%），在氩气气氛下制备mgo
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聚四氟乙烯复合薄膜，其中电源功率为50w，氩气流量50sccm，衬底温度120℃，溅射时间15min。
27.c.制备mgo多孔薄膜：将mgo
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聚四氟乙烯复合薄膜放入真空退火炉中，在450℃下保温20min，得到mgo多孔薄膜。
28.d.制备tio2薄膜：将mgo多孔薄膜放入溅射镀膜设备中，以纯度为99.99%的钛靶作为溅射源，在氧气和氩气的混合气氛下制备tio2薄膜，其中，溅射气压1pa，氩气流量40sccm，氧气流量10sccm，溅射时间60min，衬底温度150℃。
29.通过上述方法得到的复合薄膜的结合强度比对照组提高了26.4%，其中对照组为直接在mg
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zn
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y
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nd医用镁合金表面溅射形成tio2薄膜。
30.实施例4一种血管支架复合薄膜的制备方法，包括以下步骤：a.衬底预处理：以mg
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zn
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y
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nd医用镁合金为衬底材料，先后经脱脂处理、砂纸打磨、无水乙醇超声清洗并烘干待用，其中脱脂处理选用浓度为15%的naoh溶液，超声清洗时间15min。
31.b.制备mgo
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聚四氟乙烯复合薄膜：将烘干的医用镁合金放入溅射镀膜设备中，以mgo
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聚四氟乙烯复合靶材为溅射源（复合靶材中聚四氟乙烯的体积分数为40%），在氩气气氛下制备mgo
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聚四氟乙烯复合薄膜，其中电源功率为50w，氩气流量50sccm，衬底温度120℃，溅射时间15min。
32.c.制备mgo多孔薄膜：将mgo
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聚四氟乙烯复合薄膜放入真空退火炉中，在450℃下保温20min，得到mgo多孔薄膜。
33.d.制备tio2薄膜：将mgo多孔薄膜放入溅射镀膜设备中，以纯度为99.99%的钛靶作为溅射源，在氧气和氩气的混合气氛下制备tio2薄膜，其中，溅射气压1pa，氩气流量40sccm，氧气流量10sccm，溅射时间60min，衬底温度150℃。
34.通过上述方法得到的复合薄膜的结合强度比对照组提高了13.7%，其中对照组为直接在mg
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zn
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y
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nd医用镁合金表面溅射形成tio2薄膜。