一种用于涤纶面料生产的等离子处理装置的制作方法

文档序号:11470783阅读:580来源:国知局
一种用于涤纶面料生产的等离子处理装置的制造方法

本发明涉及面料处理装置技术领域,尤其涉及一种用于涤纶面料生产的等离子处理装置。



背景技术:

涤纶是合成纤维中的一个重要品种,是我国聚酯纤维的商品名称。它是以精对苯二甲酸(pta)或对苯二甲酸二甲酯(dmt)和乙二醇(eg)为原料经酯化或酯交换和缩聚反应而制得的成纤高聚物——聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet),经纺丝和后处理制成的纤维。由涤纶组成的涤纶面料是日常生活中用的非常多的一种化纤服装面料。其最大的优点是抗皱性和保形性很好,因此,适合做外套服装、各类箱包和帐篷等户外用品。现有的涤纶面料在生产时需要对面料进行表面清洁处理。

授权公告号:cn201538919u,授权公告日:2010.08.01,名为“各种纺织面料及无纺布后整理等离子处理技术设备”,公开了一种纺织面料的等离子处理设备,虽然解决的纺织面料的通过等离子处理后印花牢固、涂层时无污无尘、不易脱胶和不易气泡等优点,但是装置的进料口和出料口分别位于装置的两侧,需要额外的装置改变加工后原料的运输方向,不利于处理后原料的收集,适用范围窄,不能满足人们的使用需求。



技术实现要素:

本发明的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种用于涤纶面料生产的等离子处理装置。

为了实现上述目的,本发明采用了如下技术方案:

一种用于涤纶面料生产的等离子处理装置,包括装置壳体,所述装置壳体的内部设有储物腔,所述装置壳体的顶部设有与储物腔连通的第一连接通道,所述第一连接通道的两侧均设有固定接于装置壳体顶部的第一限位辊组,所述第一连接通道的下方设有两个固定连接于储物腔内壁上的第二限位辊组,所述第二限位辊组的一侧设有竖直设置的第三限位辊组,所述第三限位辊组位于储物腔内壁中部,所述第三限位辊组的下方两侧设有结构相同且平行设置的第一处理辊组和第二处理辊组,所述第一处理辊组包括等离子放点通道和转动电极,所述第一处理辊组和第二处理辊组的两侧均设有位于储物腔内壁上的传送辊组,两个传送辊组的两侧均设有位于装置壳体外壁上的第二连接通道,所述第二连接通道的一侧设有滑动连接于装置壳体外壁上的导向辊组。

优选的,所述第一限位辊组之间设有原料,所述原料穿过第一限位辊组的一端依次穿过第二限位辊组、离子放点通道和转动电极之间、第三限位辊组之间、传送辊组之间以及第二连接通道并由导向辊组穿出。

优选的,所述装置壳体的顶部设有抽风管道,所述抽风管道的顶部所处水平面位于第一限位辊组顶部所处水平面的下方。

优选的,所述装置壳体的外壁上设有两个竖直设置的滑槽,所述导向辊组包括水平设置的滑杆和位于滑杆上的导向辊,所述滑杆远离导向辊的一端滑动连接于滑槽内,两个导向辊分别位于第二连接通道的两侧。

优选的,所述第二连接通道远离储物腔的内壁上卡接有堵帽。

优选的,所述装置壳体的底部设有万向轮,所述万向轮上设有刹车片。

优选的,靠近第二限位辊组的第一处理辊组上等离子放点通道的数量和转动电极的数量比远离第二限位辊组的第一处理辊组上等离子放点通道的数量和转动电极的数量少一个。

本发明中,通过第一限位辊组、第二限位辊组、第三限位辊组、离子放点通道、转动电极、传送辊组、第二连接通道和导向辊组的设计使的原料在装置壳体上进料端口和装置壳体上出料端口的位置可以调节,便于加工后原料的收集处理,节约成本,装置占地面积小,便于移动,适用范围广,满足了人们的使用需求。

附图说明

图1为本发明提出的一种用于涤纶面料生产的等离子处理装置的结构示意图;

图2为本发明提出的一种用于涤纶面料生产的等离子处理装置的侧视图。

图中:1装置壳体、2储物腔、3第一连接通道、4第一限位辊组、5第二限位辊组、6第三限位辊组、7离子放点通道、8转动电极、9传送辊组、10第二连接通道、11导向辊组、12抽风管道、13堵帽、14万向轮、15原料。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。

参照图1-2,一种用于涤纶面料生产的等离子处理装置,包括装置壳体1,装置壳体1的内部设有储物腔2,装置壳体1的顶部设有与储物腔2连通的第一连接通道3,第一连接通道3的两侧均设有固定接于装置壳体1顶部的第一限位辊组4,第一连接通道3的下方设有两个固定连接于储物腔2内壁上的第二限位辊组5,第二限位辊组5的一侧设有竖直设置的第三限位辊组6,第三限位辊组6位于储物腔2内壁中部,第三限位辊组6的下方两侧设有结构相同且平行设置的第一处理辊组和第二处理辊组,第一处理辊组包括等离子放点通道7和转动电极8,第一处理辊组和第二处理辊组的两侧均设有位于储物腔2内壁上的传送辊组9,两个传送辊组9的两侧均设有位于装置壳体1外壁上的第二连接通道10,第二连接通道10的一侧设有滑动连接于装置壳体1外壁上的导向辊组11,第一限位辊组4之间设有原料15,原料15穿过第一限位辊组4的一端依次穿过第二限位辊组5、离子放点通道7和转动电极8之间、第三限位辊组6之间、传送辊组9之间以及第二连接通道10并由导向辊组11穿出,装置壳体1的顶部设有抽风管道12,抽风管道12的顶部所处水平面位于第一限位辊组4顶部所处水平面的下方,装置壳体1的外壁上设有两个竖直设置的滑槽,导向辊组11包括水平设置的滑杆和位于滑杆上的导向辊,滑杆远离导向辊的一端滑动连接于滑槽内,两个导向辊分别位于第二连接通道10的两侧,第二连接通道10远离储物腔2的内壁上卡接有堵帽13,装置壳体1的底部设有万向轮14,万向轮14上设有刹车片,靠近第二限位辊组5的第一处理辊组上等离子放点通道7的数量和转动电极8的数量比远离第二限位辊组5的第一处理辊组上等离子放点通道7的数量和转动电极8的数量少一个。

实施例一:使用时,将原料15穿过第一限位辊组4的一端依次穿过第二限位辊组5、离子放点通道7和转动电极8之间、第三限位辊组6和传送辊组9,并由位于靠近第二限位辊组5的第二连接通道10和导向辊组11穿出,或者与上述步骤相反的原料走料顺序,随后,离子放点通道7和转动电极8工作对原料15进行等离子处理。

实施例二:使用时,将原料15穿过第一限位辊组4的一端依次穿过第二限位辊组5、离子放点通道7和转动电极8之间、第三限位辊组6和传送辊组9,并由位于远离第二限位辊组5的第二连接通道10和导向辊组11穿出,或者与上述步骤相反的原料走料顺序,随后,离子放点通道7和转动电极8工作对原料15进行等离子处理。

实施例三:使用时,将原料的一端依次穿过导向辊组11、第二连接通道10、传送辊组9、离子放点通道7和转动电极8之间,并由与导向辊组11位于装置壳体1同一侧的另一个第二连接通道10和另一个导向辊组11穿出,随后,离子放点通道7和转动电极8工作对原料15进行等离子处理。

实施例4:使用时,将原料的一端依次穿过导向辊组11、第二连接通道10、传送辊组9、离子放点通道7和转动电极8之间,并由与导向辊组11位于装置壳体1另一侧的另一个第二连接通道10和另一个导向辊组11穿出,随后,离子放点通道7和转动电极8工作对原料15进行等离子处理。

以上所述,仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本发明的保护范围之内。

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