1.本发明涉及缝纫机技术领域,具体讲是一种自动圆下摆缝纫机导布装置。
背景技术:2.因为服装尺码大小不一,目前的缝纫机在加工圆下摆时,其撑开装置只能靠手动调节撑开位置,因为服装的面料在厚薄、弹性等方面各有不同,环状布料撑开的力度和弹性的把握都是不可控的。
技术实现要素:3.鉴于上述现有技术的缺陷,本发明的目的在于:提供一种自动圆下摆缝纫机导布装置。
4.本发明的技术解决方案是:一种自动圆下摆缝纫机导布装置,包括支架和导布轮,支架的后端固定有电机,电机通过传动机构连接导布轮,它还包括一直线滑轨,直线滑轨的顶端滑动设置有一滑台,支架上滑动设置有一固定座,固定座外侧与滑台一侧固定,电机外固定有一连接块,连接块连接有用于检测导布轮被布料绷紧无法转动状态的检测装置,该检测检测装置与固定座外侧固定。
5.进一步地,所述支架的内侧固定有第一滑轨,固定座的内侧设有与第一滑轨配合的第一滑块。
6.进一步地,所述支架的顶端内固定有第二滑轨,固定座的顶端设有与第二滑轨配合的第二滑块。
7.进一步地,所述检测装置包括固定在固定座外侧的气缸、与气缸外侧的出气口连接的压力传感器以及与气缸的活塞杆端部连接的拉板,拉板与连接块固定。
8.进一步地,所述压力传感器固定在滑台顶部。
9.进一步地,所述检测装置包括固定在固定座外侧的固定块、与连接块外侧固定的拉力传感器以及设置在拉力传感器和固定块之间的拉簧。
10.应用本发明所提供的一种自动圆下摆缝纫机导布装置,其有益效果是:把布料套到导布轮和支架上后,滑台开始移动,通过滑台控制布料的撑开距离,当布料将要被绷紧时,导布轮会被布料限制住,但此时因为滑台保持移动,检测装置检测到布料被绷紧后,滑台停止移动,此刻布料被撑开绷紧,布料可以进行下一步的加工,布料的撑开可控性好。
附图说明
11.图1为本发明实施例一的整体结构示意图;
12.图2为本发明实施例一的俯视示意图;
13.图3为本发明实施例一的局部分解示意图;
14.图4为本发明实施例二的整体结构示意图;
15.图5为本发明实施例二的俯视示意图。
16.图中所示:1—支架,2—导布轮,3—电机,4—直线滑轨,5—滑台,6—固定座,7—连接块,8—第一滑轨,9—第一滑块,10—第二滑轨,11—第二滑块,12—气缸,13—压力传感器,14—拉板,15—固定块,16—拉力传感器,17—拉簧,18—主动轮,19—从动轮,20—传送带。
具体实施方式
17.为比较直观、完整地理解本发明的技术方案,现就结合本发明附图进行非限制性的特征说明如下:
18.实施例一:
19.如图1—图3所示,一种自动圆下摆缝纫机导布装置,通过plc控制,包括支架1和导布轮2,支架1的后端固定有电机3,电机3通过传动机构连接导布轮2,传动机构包括与电机3的输出轴连接的主动轮18、与导布轮2端部连接的从动轮19以及用于连接主动轮18和从动轮19的传送带20;它还包括一直线滑轨4,直线滑轨4的顶端滑动设置有一滑台5,支架1上滑动设置有一固定座6,固定座6外侧与滑台5一侧固定,电机3外固定有一连接块7,连接块7连接有用于检测导布轮2被布料绷紧无法转动状态的检测装置,该检测检测装置与固定座6外侧固定。
20.支架1呈l形,支架1的内侧固定有第一滑轨8,固定座6的内侧设有与第一滑轨8配合的第一滑块9,支架1的顶端内固定有第二滑轨10,固定座6的顶端设有与第二滑轨10配合的第二滑块11。
21.检测装置包括固定在固定座6外侧的气缸12、通过气管与气缸12外侧的出气口连接的压力传感器13以及与气缸12的活塞杆端部连接的拉板14,拉板14与连接块7固定,压力传感器13固定在滑台5顶部。
22.把布料套到导布轮2和支架1上后,plc控制直线滑轨4工作,滑台5开始移动,通过滑台5控制布料的撑开距离,当布料将要被绷紧时,导布轮2会被布料限制住,但此时因为滑台5未接收到到停止信号,滑台5保持移动,而此时气缸12的活塞杆被拉板14强制拉伸,此刻压力传感器13中的压力数值开始产生变化,当气缸12的活塞杆被拉伸到一定长度范围时,气缸12的压力数值处于设定范围内,plc发出停止信号,滑台5停止移动,此刻布料被撑开绷紧,布料可以进行下一步的加工。
23.实施例二:
24.如图4和图5所示,实施例二与实施例一的区别在于:检测装置包括固定在固定座6外侧的固定块15、与连接块7外侧固定的拉力传感器16以及设置在拉力传感器16和固定块15之间的拉簧17。当布料将要被绷紧时,导布轮2会被布料限制住,但此时因为滑台5未接收到到停止信号,滑台5保持移动,而此时拉簧17被连接块强制拉伸,此刻拉力传感器16中的拉力数值开始产生变化,当拉簧17被拉伸到某个长度范围时,拉力传感器16的数值处于设定范围内,plc发出停止信号,滑台5停止移动。
25.当然,以上仅为本发明的较佳实施例而已,非因此即局限本发明的专利范围,凡运用本发明说明书及图式内容所为之简易修饰及等效结构变化,均应同理包含于本发明的专利保护范围之内。