一种基于电子束辐射的纺织印染后整理装置及方法与流程

文档序号:34482159发布日期:2023-06-15 16:02阅读:来源:国知局

技术特征:
1.一种基于电子束辐射的纺织印染后整理装置,包括储布装置,用于连续进布;和浸轧辊装置,用于对布料进行浸液和轧平;其特征在于:还包括电子束发生装置和束下传动装置,所述电子束发生装置和所述束下传动装置均设于混凝土机架,所述混凝土机架内设有辐照室和膜房,所述束下传动装置位于所述辐照室内,印染后的布料经所述储布装置和所述浸轧辊装置进入所述辐照室内,通过所述电子束发生装置对所述布料进行电子束辐照,形成共价键附着于布料表面。2.根据权利要求1所述的一种基于电子束辐射的纺织印染后整理装置,其特征在于:所述电子束发生装置包括钢筒、分子泵、离子泵、扫描室和扫描盒,所述钢筒固定于所述混凝土机架上,所述分子泵和所述离子泵均连接所述钢筒,所述钢筒通过所述扫描室连接所述扫描盒,所述扫描盒延伸至所述束下传动装置。3.根据权利要求2所述的一种基于电子束辐射的纺织印染后整理装置,其特征在于:所述电子束发生装置还包括冷水组件,所述冷水组件包括扫描盒冷水外壳和冷水机组,所述扫描盒冷水外壳设于所述扫描盒上,所述冷水机组设于所述混凝土机架,所述冷水机组连通所述扫描盒冷水外壳。4.根据权利要求2所述的一种基于电子束辐射的纺织印染后整理装置,其特征在于:所述电子束发生装置通过真空屏蔽室连接所述混凝土机架,所述真空屏蔽室连通所述辐照室,所述分子泵、所述离子泵和所述扫描室均设于所述真空屏蔽室内,所述扫描盒贯穿所述混凝土机架并延伸至所述辐照室。5.根据权利要求1所述的一种基于电子束辐射的纺织印染后整理装置,其特征在于:所述束下传动装置包括支撑座、罩壳、压辊和第二辊筒电机,所述罩壳设于所述支撑座上,所述压辊分布于所述罩壳和所述支撑座之间,所述第二辊筒电机连接所述压辊。6.根据权利要求1所述的一种基于电子束辐射的纺织印染后整理装置,其特征在于:所述混凝土机架上设有臭氧散热机构,所述臭氧散热机构包括钛窗散热吹嘴、钛窗散热预埋管、排臭氧预埋管、臭氧排风烟管和臭氧风机,所述钛窗散热吹嘴经所述钛窗散热预埋管连接所述臭氧风机,所述臭氧风机经所述排臭氧预埋管连通所述辐照室,所述臭氧排风烟管连通所述臭氧风机。7.根据权利要求1~4中任一项所述的一种基于电子束辐射的纺织印染后整理装置,其特征在于:所述储布装置包括第一支撑架、储布槽、摇臂罗拉、第一罗拉、压杆罗拉和挡板,所述储布槽连接于所述第一支撑架,所述挡板固定于所述第一支撑架上,所述摇臂罗拉转动连接于所述第一支撑架,所述摇臂罗拉通过摇臂气缸连接所述第一支撑架的顶端,所述第一罗拉和所述压杆罗拉均设于所述第一支撑架的顶端。8.根据权利要求1~4中任一项所述的一种基于电子束辐射的纺织印染后整理装置,其特征在于:所述浸轧辊装置包括至少一组浸轧辊机构,所述浸轧辊机构包括外框架、料槽、轧辊和变速箱,所述料槽、所述轧辊、所述变速箱均固定于所述外框架上,所述变速箱与所述料槽的入口罗拉和所述轧辊的入口罗拉通过链条连接。9.根据权利要求1~4中任一项所述的一种基于电子束辐射的纺织印染后整理装置,其特征在于:还包括对中装置,所述对中装置包括第二支撑架、双展边罗拉、双展端面固定板、
对中罗拉及马达、第一张力罗拉和第二张力罗拉,所述双展边罗拉通过所述双展端面固定板连接在所述第二支撑架上,所述对中罗拉及马达、所述第一张力罗拉和所述第二张力罗拉均设于所述第二支撑架上。10.如权利要求1~9中任一项所述的一种基于电子束辐射的纺织印染后整理装置的整理方法,其特征在于包括以下步骤:s1、首先将针织布或梭织布输送至储布装置进行储存,再送入展边对中装置;s2、然后将布料通过展边对中装置进行展边对中,使布料居中,并对布料卷边部分展开,使布料在展开和居中的状态下进入浸轧辊环节;s3、接着将平整的布料输送至浸轧辊装置,布料经罗拉过渡后进入料槽,使布料充分浸泡,经展边和轧辊,将助剂均匀的压入布料织物内;s4、在将浸轧后的布料经混凝土机架的膜房送入辐照室的束下传动装置上,同时启动电子束发生装置,在布料上进行加成聚合反应,将助剂通过共价键附着在织物表面;s5、反应结束后,通过a字架打卷或通过出布架放入方布车,完成落布。

技术总结
本发明公开了一种基于电子束辐射的纺织印染后整理装置及方法,包括储布装置和浸轧辊装置,还包括电子束发生装置和束下传动装置,电子束发生装置和束下传动装置均设于混凝土机架,混凝土机架内设有辐照室和膜房,束下传动装置位于辐照室内,印染后的布料经储布装置和浸轧辊装置进入辐照室内,通过电子束发生装置对布料进行电子束辐照,形成共价键附着于布料表面。其方法包括:布料经储布装置输送至展边对中装置对中,再输送至浸轧辊装置进行浸泡和轧辊,接着通过电子束进行辐照,形成共价键附着于织物表面。本发明可以使抗菌剂不发生脱落,有效避免了抗菌剂脱落后附着在皮肤表面对正常菌落造成破坏,辐照时间短,能耗低,效率高。高。高。


技术研发人员:刘建薪 彭坤 刘永强 何颖雪
受保护的技术使用者:嵊州盛泰新材料研究院有限公司
技术研发日:2023.02.15
技术公布日:2023/6/14
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