技术特征：
1.一种陶瓷餐具加工用均匀上釉装置，包括上釉箱(1)，其特征在于，所述上釉箱(1)的内部设置有上釉室(2)和釉料室(3)，所述上釉室(2)的内部设置有釉料箱(4)，所述釉料箱(4)的侧壁设置有贯穿上釉室(2)延伸至釉料室(3)内的输料管(5)，所述输料管(5)上设置有泵体(6)，所述输料管(5)的底端连接有喷头管(10)，所述喷头管(10)的外部设置有防溅组件，所述上釉室(2)的内部设置有侧架(12)，所述侧架(12)的顶部设置有限位板(13)，所述侧架(12)的内部设置有旋转顶升机构，所述旋转顶升机构的顶部设置有放置板(20)。2.根据权利要求1所述的一种陶瓷餐具加工用均匀上釉装置，其特征在于，所述防溅组件包括防溅罩(11)、弹簧(8)、固定杆(7)，所述固定杆(7)贯穿防溅罩(11)，一端与上釉室(2)的底壁连接，另一端与所述喷头管(10)固定连接，所述弹簧(8)套设在固定杆(7)的外部，且位于防溅罩(11)的上方。3.根据权利要求2所述的一种陶瓷餐具加工用均匀上釉装置，其特征在于，所述防溅罩(11)的底部设置有移动轮(21)，所述放置板(20)上具有与移动轮(21)适配的环道(24)。4.根据权利要求1所述的一种陶瓷餐具加工用均匀上釉装置，其特征在于，所述旋转顶升机构包括旋转组件和升降组件，所述旋转组件包括驱动电机一(14)、旋转杆部，所述驱动电机一(14)的输出轴与旋转杆部连接，所述旋转杆部的顶端贯穿限位板(13)与放置板(20)固定连接，所述升降组件包括驱动电机二(18)、齿轮(17)、齿牙(19)，所述驱动电机二(18)通过电机座安装在侧架(12)上，所述齿轮(17)与驱动电机二(18)的输出轴连接，所述齿牙(19)均匀分布在旋转杆部的外壁。5.根据权利要求4所述的一种陶瓷餐具加工用均匀上釉装置，其特征在于，所述旋转杆部包括内杆(15)和外套杆(16)，所述内杆(15)的顶端贯穿外套杆(16)并与其滑动配合，所述内杆(15)和外套杆(16)之间还设置有防滑结构。6.根据权利要求5所述的一种陶瓷餐具加工用均匀上釉装置，其特征在于，所述防滑结构包括限位凸块(22)、防滑槽(23)，所述限位凸块(22)对称设置在内杆(15)的两侧，所述防滑槽(23)设置在外套杆(16)的内壁两侧，且与限位凸块(22)相适配。7.根据权利要求6所述的一种陶瓷餐具加工用均匀上釉装置，其特征在于，所述齿牙(19)分布在外套杆(16)的中部位置，且与齿轮(17)啮合连接。8.根据权利要求1所述的一种陶瓷餐具加工用均匀上釉装置，其特征在于，所述输料管(5)的外部设置有与上釉室(2)底壁连接的固定套(9)。
技术总结
本实用新型公开了一种陶瓷餐具加工用均匀上釉装置，包括上釉箱，所述上釉箱的内部设置有上釉室和釉料室，所述上釉室的内部设置有釉料箱，所述釉料箱的侧壁设置有贯穿上釉室延伸至釉料室内的输料管，所述输料管上设置有泵体，所述输料管的底端连接有喷头管。本实用新型中，通过驱动电机二带动齿轮转动，齿轮通过齿牙带动外套杆上移，外套杆带动放置板上移，使得陶瓷餐具移动至喷头管下方合适距离，启动驱动电机一，驱动电机一带动内杆转动，内杆通过防滑结构带动外套杆同步转动，从而使得外套杆带动放置板转动，然后启动泵体，泵体将釉料箱内的釉料通过输料管从喷头管均匀喷涂在陶瓷餐具，有利于提高陶瓷餐具的上釉均匀度。有利于提高陶瓷餐具的上釉均匀度。有利于提高陶瓷餐具的上釉均匀度。
技术研发人员：詹振坤 吴兵
受保护的技术使用者：深圳市裕琦源实业有限公司
技术研发日：2022.09.30
技术公布日：2023/3/16