本实用新型涉及一种烤盘,尤其是涉及一种可以在电磁炉中进行加热的、新型的导磁烤盘结构。
背景技术:
现对普通烤盘的加热是采用煤气灶等利用明火进行加热的方式,传统的烤盘也是针对明火加热的方式设计,需要翻转所以要求质轻。随着科技的发展,人们在日常中使用的加热方法,除了传统的采用明火进行加热的方法外,电磁炉、电磁灶也是一种家庭常用加热锅具。而烤盘是利用材料铝加工而成,因此现在会在烤盘的底面上设置一层导磁片,实现电磁加热、明火加热两用。
但现有的烤盘覆底结构是在烤盘底面形成有无数小凸柱,与此相一致地,在导磁片上开有无数小孔,但导磁片上的小孔及其边缘均无翻边。复底时,先将小凸柱套入导磁片上的小孔,然后在大吨位液压机上挤压小凸柱,使其变形,形成柱状铆钉,将导磁片铆在锅底。但上述的烤盘覆底结构的加工工艺复杂;需要设置大量的小凸柱与小孔,加工成本高;加工精度要求高,不然铆钉与导磁片之间容易出现间隙,影响底面的美观性。
此外为了使得导磁片能够与烤盘底面牢牢固定,通常将烤盘外底面设计成平底结构,同时为了保证烤盘整体质量较轻,将烤盘的内底面也设计成平底结构。但这不能满足烹饪者对烹饪器具的需求。
技术实现要素:
本实用新型所要解决的技术问题是提供一种新型导磁烤盘结构,能够将导磁片牢固的固定在锅底上,且加工工艺简单、成本低。
本实用新型解决上述技术问题所采用的技术方案为:新型导磁烤盘结构,包括烤盘本体与导磁片,所述的导磁片附在所述的烤盘本体底面,所述的导磁片上规则排列有多个孔,所述的孔边沿处上方设置有向外弯折的L型结构的翻边,所述的烤盘本体的底面规则排列有与翻边相适应的安装槽,所述的安装槽外围绕有一圈填充环,所述的翻边位于安装槽内,导磁片嵌压固定在烤盘本体上且填充环挤压后填充满翻边与安装槽外侧壁之间的间隙。
本实用新型进一步的优选方案:所述的孔采用圆孔为最佳优选方式,采用三角孔、方孔也能实现。所述的翻边包括连接边与顶边,所述的顶边与安装槽的底面贴合,所述的连接边与安装槽的外侧壁之间存在间隙,所述的间隙与顶边的结构相适应。因为翻边设计成L型结构,为了适应顶边的安装,连接边与外侧壁之间必然存在间隙。
本实用新型进一步的优选方案:所述的导磁片的结构与烤盘本体加热区域的结构相适应。导磁片只需要设置在加热区域,其他区域并不需要,有效节省成本。
本实用新型为解决其技术问题提供一种技术方案,该方案中所述的安装槽为圆环状结构,所述的烤盘本体的外底面为平面结构。
本实用新型为解决其技术问题提供另一种技术方案,该方案中所述的安装槽为圆柱状结构,所述的烤盘本体的内底面设置有多个凸起,所述的安装槽内设置有凹陷,所述的凹陷与凸起一一对应。
本实用新型另一种技术方案的进一步的优选方案:所述的凸起位于烤盘本体的加热区域内,多个凸起规则排列且布满烤盘本体的加热区域,所述的凹陷的底面位于凸起内,所述的凸起为梯形体结构,所述的凹陷为圆台型结构,所述的凹陷的直径不大于孔的直径。凸起为梯形体结构通常被用来制作华夫饼,凸起也可以更改为其他形状,适应制作其他食品。凹陷的结构应该尽量与凸起结构相适应,以达到最少的材料消耗,并且控制整体的重量。
与现有技术相比,本实用新型的优点在于导磁片上设置有翻边,翻边为向外弯折的L型结构。翻边位于安装槽内,而安装槽外围绕有一圈填充环。导磁片嵌压在烤盘本体上,填充环被挤压变形进入翻边与安装槽外侧壁之间,填充环将充满翻边与安装槽之间的间隙。此时导磁片上的翻边嵌入烤盘本体内,且被卡在烤盘本体上,不容易出现脱落的问题。本实用新型通过烤盘本体与导磁板挤压后得到,并不通过其他零部件进行固定连接,锅体与导磁板的连接安全可靠。
通过上述方式来固定导磁片与烤盘本体,安装槽的数量远少于传统铆接所需要的下孔的数量,有效降低生产成本。此外本实用新型挤压过程中所需要的力较小,不需要使用到大吨位液压机。综上,本实用新型实现加工工艺简单。
附图说明
图1为本实用新型的分解结构示意图;
图2为实施例一未安装的结构示意图;
图3为实施例一安装后的局部示意图;
图4为实施例二未安装的局部示意图;
图5为实施例二安装后的局部示意图。
具体实施方式
下面结合附图,对本实用新型作详细的说明。
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
如图1至图3所示为本实用新型的实施例一:新型导磁烤盘结构,包括烤盘本体1与导磁片2,导磁片2附在烤盘本体1底面,导磁片2上规则排列有多个孔3,孔3边沿处上方设置有向外弯折的L型结构的翻边4,烤盘本体1的底面规则排列有与翻边4相适应的安装槽5,安装槽5外围绕有一圈填充环6,翻边4位于安装槽5内,导磁片2嵌压固定在烤盘本体1上且填充环6挤压后填充满翻边4与安装槽5外侧壁之间的间隙。
翻边4包括连接边21与顶边22,顶边22与安装槽5的底面贴合,连接边21与安装槽5的外侧壁之间存在间隙,间隙与顶边22的结构相适应。安装槽5为圆环状结构,烤盘本体1的外底面为平面结构。
导磁片2的结构与烤盘本体1加热区域的结构相适应。
实施例一所示的是常见的平底烤盘,其内底面为平面结构。
如图4至图5所示为本实用新型的实施例二:实施例二的其他部分与实施例一相同,其不同之处在于该方案中安装槽5为圆柱状结构,烤盘本体1的内底面设置有多个凸起31,安装槽5内设置有凹陷32,凹陷32与凸起31一一对应。
凸起31位于烤盘本体1的加热区域内,多个凸起31规则排列且布满烤盘本体1的加热区域,凹陷32的底面位于凸起31内,凸起31为梯形体结构,凹陷32为圆台型结构,凹陷32的直径不大于孔3的直径。
实施例二所示的烤盘本体1上设置凸起31,一则是适应食物本身的烹饪需求,二则是凸起31处于食物接触的加热面积远大于传统的仅仅为平面的烤盘结构,有效加强了本实用新型对食物的导热性能。此外,在凸起31的底面设置凹陷32,凹陷32的底面位于凸起31内。也就是说凸起31内部是空心的,即满足了烹饪需求,又不增加整体重量。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。