料理杯与料理机的制作方法

本申请涉及食物处理领域，尤其涉及料理杯与料理机。

背景技术：

用于处理食材的料理机上通常设置有防溢探头。在液面达到防溢探头所在高度时，控制器自动关闭料理机的电源系统，以避免在液面过高时对食材的加工威胁到用户的使用安全。

为适用对多种食材的加工，料理机上的该防溢探头通常被设置得较低。这导致在很多安全场景下，料理机被不正常地自动关机，严重影响用户的使用体验。

技术实现要素：

本实用新型提供一种料理杯与料理机，其既具有可靠的防溢效果，也可避免或大幅度减少由于液面探测所引起的不必要的自动关机。

为实现上述目的，本实用新型实施例提供一种料理杯。所述料理杯包括杯体与杯盖，所述杯体与杯盖共同围成一用于容纳食材的空间，在所述料理杯上设置有用于探测所述空间内的液面是否达到第一液面高度的第一液面探测件，以及用于探测所述空间内的液面是否达到第二液面高度的第二液面探测件，其中，所述第二液面的高度大于所述第一液面的高度。

可选的，所述第二液面探测件设置在所述杯盖上，包括接触部与导通部；

所述接触部外露，使得所述空间内的液体在达到第二液面高度时可接触到所述接触部，所述导通部用于导通所述接触部与位于所述接触部下方的所述第一液面探测件，所述导通部被遮挡，使得所述空间内的液体无法接触所述导通部。

可选的，所述导通部与所述接触部一体形成，所述导通部的上端与所述接触部相连，所述导通部的下端形成有安装孔，通过插入所述安装孔的一螺钉实现与所述第一液面探测件的导通。

可选的，所述杯盖上设置有沿竖向延伸的、呈环形的防溢挡墙，所述防溢挡墙位于可用于蒸汽排出的通道的末端，影响料理杯溢出液面的高度；

第二液面探测件的所述接触部安装在所述防溢挡墙的内表面上。

可选的，用于蒸汽排出的通道的内壁上开设有安装孔，第二液面探测件的所述导通部设置在所述安装孔内，一绝缘塞封堵所述安装孔，以使所述通道内的液体无法接触所述导通部。

可选的，所述防溢挡墙的内表面凹陷形成有用于容纳所述接触部的凹坑，所述凹坑与所述接触部均呈环形或均呈片块状。

可选的，所述第一液面的高度不超过所述杯盖的下表面的高度。

可选的，所述第一液面探测件设置在所述杯体或杯盖上。

为实现上述目的，本实用新型还提供一种料理机。所述料理机包括：

如前面所述的料理杯。

可选的，所述料理机还包括控制器，所述控制器加载有特定程序以使其可自动执行以下操作：

在所述空间内的液面达到第一液面时，改变所述料理机的工作状态，以减缓液面上升的速度；

在所述空间内的液面达到第二液面时，终止料理机的工作进程。

上述实施例的料理杯与料理机，具有用于探测不同液面高度的第一液面探测件与第二液面探测件。通过对这两个液面高度的探测和获知，使得控制器有可能采取关机外的其它措施来避免液体溢出。比如，可在液面刚达到较低的第一液面时，立即启动减缓液面升高速度的措施，例如，降低工作功率，又如，切换为间歇工作模式等。在液面达到较高的第二液面时，控制器可立即关闭料理机。以上使得，料理机有可能在液面超过第一液面高度的情况下完成对食材的加工，而无溢出风险。

附图说明

图1至图4是一示例性实施例料理机的结构视图，其中，图1是料理机的整体图，图2是料理机中的料理杯的一个剖视图，图3是图2的局部放大图，图4是料理杯的立体分解图；

图5至图11是上述实施例中一些结构的可替换实施方式的结构视图。

具体实施方式

这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本申请相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本申请的一些方面相一致的装置的例子。

在本申请使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本申请。除非另作定义，本申请使用的技术术语或者科学术语应当为本实用新型所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本申请说明书以及权利要求书中使用的“一个”或者“一”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。“包括”或者“包含”等类似词语意指出现在“包括”或者“包含”前面的元件或者物件涵盖出现在“包括”或者“包含”后面列举的元件或者物件及其等同，并不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而且可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“多个”包括两个，相当于至少两个。在本申请说明书和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。还应当理解，本文中使用的术语“和/或”是指并包含一个或多个相关联的列出项目的任何或所有可能组合。

图1至图4是一示例性实施例料理机的结构视图。其中，图1是料理机的整体图，图2是料理机中的料理杯的一个剖视图，图3是图2的局部放大图，图4是料理杯的立体分解图。

这里所说的料理机可以是破壁机、榨汁机、豆浆机，也可以是其它具有加热功能和/或搅打功能的食物处理器具。

在本实施例中，料理机100设置有搅打装置与加热装置，同时具有搅打食材与加热食材的功能。不仅如此，料理机100还设置有控制器，用于对搅打装置与加热装置以及其它部件的运作进行整体控制。所述控制器可以是设置在 PCB上的主控制芯片。

如图1至图4，料理机100可包括机座50与料理杯40。在工作时，料理杯 40放置在机座50上方。

料理杯40的下端面与机座50的上端面可设置相互配接的导电触点。导电触点可以是常用的电连接器。在料理杯40放置于机座50上后，它们的导电触点相接，从而使料理杯40与机座50电性连接，进而设置在机座50内的电机52、电源(或电源适配器)、控制器等可分别为设置在料理杯40内的刀具54、发热电阻丝等提供动力、电源以及信号控制等方面的支持。这里所说的刀具应作宽泛的理解，可以是粉碎刀片、磨轮、破壁螺杆等。

在其它实施例中，料理杯40与机座50也可以是一个不可分割地整体。比如，料理杯40可作为机座50不可拆分的一部分而存在。

料理杯40可由杯体41与杯盖44组装而成。杯盖44可包括以可转动方式安装在杯体41上的基盖43。基盖43上设置有两个卡钩432，杯体41上的对应位置处设置有两个凸块412。在基盖43转动至闭合杯体41的位置时，可将卡钩 432与凸块412锁扣，从而锁定杯体41与基盖43的该闭合状态。杯盖44与杯体41共同围成一用于容纳、加工食材的空间410。基盖43上方的中央处形成一个较大的开口434，开口434在需要时可以作为进料口来使用。杯体41内加热所产生的蒸汽可通过开口434向上排出。

除基盖43外，杯盖44还可设置中心盖45。中心盖45安装在基盖43中央的开口434处，并遮盖开口434的主要部分。中心盖45与基盖43之间仍存在较小的间隙，以作为蒸汽排出的通道P。在其它实施例中，可不设置中心盖45，或者，中心盖45可与基盖43一体形成。

在料理机100的所述空间410内还可设置第一液面探测件60与第二液面探测件80。其中，第一液面探测件60用于探测料理杯40内液体的液面是否达到第一液面S1的高度。第二液面探测件80用于探测料理杯40内的液面是否达到第二液面S2的高度。第二液面S2的高度明显大于第一液面S1的高度。

第一液面探测件60可通过一侦测电路与控制器相连。当料理杯40内液面较低、未达到第一液面S1时，整个侦测电路处于断路状态。当液面达到第一液面S1时，整个侦测电路被所述液面自动导通，产生稳定的电流。通过检测该电流，控制器可判断料理杯40内的液面是否达到第一液面S1的高度。

第二液面探测件80的工作原理可与此基本相同。

进一步地，料理机100的控制器可加载特定程序，以使其可根据液面的高度状况自动执行相应的操作。

比如，在料理杯40内的液面达到第一液面S1而未达到第二液面S2时，控制器可改变料理机100的工作状态(比如，可降低其工作功率，使其以较低的加热功率或搅打功率继续工作；又比如，中止工作一小段时间后，重新以之前的功率工作一段时间，重复上述中止、重新工作操作，直至液面低于第一液面 S1或达到第二液面S2)，以减缓液面上升的速度。

在料理杯40内的液面达到第二液面S2时，控制器终止料理机100的整个工作进程(关机)，直至用户移除多余的液体和食材、使液面重新低于第二液面S2，并重新启动料理机100。控制器还可加载断电记忆程序，具有断电记忆功能。在非正常关机后重新启动时，料理机100可继续执行之前的程序。

与第一液面探测件60相对应的第一液面S1，其高度通常可被设置得较低，比如，不超过杯盖44的下表面SL的高度。与第二液面探测件80相对应的第二液面S2，其高度通常可被设置得较高，比如，略低于料理杯40的溢出液面S溢。

第二液面探测件80可设置在杯盖44上，可由金属等导电材料制成。第二液面探测件80包括接触部802与导通部804。其中，接触部802外露，使得料理杯40内的液体在达到第二液面S2高度时可接触到接触部802。导通部804 用于导通接触部802与位于接触部802下方的第一液面探测件60。导通部804 被遮挡(比如，掩埋)，使得料理杯40内的液体无法接触导通部804。

通过设置导通部804与第一液面探测件60相连，使得第二液面探测件80 可与第一液面探测件60共用一个侦测电路与控制器相连通，极大地简化了它们的整体结构。当液面达到第一液面S1高度而未达到第二液面S2高度时，仅第一液面探测件60被导通，侦测电路中有电流I1产生。当液面达到第二液面S2 高度时，第一液面探测件60、第二液面探测件80均被导通，此时侦测电路中所产生的电流I2是第一液面探测件60、第二液面探测件80两处电流的叠加，明显大于电流I1。因而，通过检测侦测电路中有无电流产生以及电流的大小，可容易判断出料理杯40内的液面是否达到第二液面S2、第一液面S1。

导通部804可与接触部802一体形成。导通部804的上端与接触部802相连，导通部804的下端形成有第一安装孔806，通过插入在第一安装孔806内的一螺钉82实现与第一液面探测件60的导通。

杯盖44上可设置有沿竖向延伸的、呈环形的防溢挡墙436。该防溢挡墙436 位于可用于蒸汽排出的通道P的末端，并直接影响(或决定)料理杯40溢出液面S溢的高度。第二液面探测件80的接触部802可安装在防溢挡墙436的内表面上。比如，可在防溢挡墙436的内表面凹陷形成用于容纳所述接触部802的凹坑4368。所述凹坑4368与所述接触部802可均呈片块状，如图4中所示。在其它实施例中，所述凹坑4368与所述接触部802也可为其它形状，例如，均呈圆环形，如图5中所示。图5是另一实施例料理杯的立体分解图，其与图4实施例的主要区别在于凹坑4368与接触部802的形状。

用于蒸汽排出的通道P的内壁上开设有第二安装孔438。第二液面探测件 80的导通部804设置在所述第二安装孔438内。一绝缘塞84封堵所述第二安装孔438，以使所述通道P内的液体(包括蒸汽)无法接触导通部804。在一个实施例中，绝缘塞84可以由软胶制成。

第一液面探测件60可由金属等导电材料制成，并可为常用的金属探头。如图6与图7所示，用于安装第一液面探测件60于杯盖上的结构可包括：金属连接片62、金属导头64、弹簧65、卡扣66与密封圈68等。金属连接片62沿横向自料理杯的中部区域延伸至边缘区域。第一液面探测件60固定在金属连接片 62的内端。金属导头64安装在金属连接片62的外端。弹簧65嵌套在金属导头 64的上部。金属导头64的上端插入金属连接片62内的安装孔并自金属连接片 62的上表面露出，该露出的金属导头64上端部分被卡扣66固定。金属导头64 的下端部未进入金属连接片62内，密封圈68夹持在金属导头64的该下端部与金属连接片62的下表面之间。金属导头64的该下端部还与设置在其下方的金属导通片69接触，以实现第一液面探测件60与侦测电路及控制器等的导通。

另一种用于安装第一液面探测件60于杯盖上的结构，可如图8与图9所示，可包括：金属连接片72、金属导片74与螺钉76。金属连接片72沿横向自料理杯的中部区域延伸至边缘区域。第一液面探测件60固定在金属连接片72的内端。金属导片74可通过螺钉76安装在金属连接片72的外端。金属导片74整体呈L型，包括水平板部742与竖直板部744。其中，水平板部742贴附于金属连接片72的下表面。竖直板部744接触设置在其下方的金属导通片69，以实现第一液面探测件60与侦测电路及控制器等的导通。

前面各实施例中，第一液面探测件60均设置在杯盖上。在其它实施例中，第一液面探测件60也可设置在杯体41上，如图10中所示。不仅如此，第一液面探测件60、第二液面探测件80既可以可拆卸的方式设置在杯体或杯盖上，也可以不可拆卸的方式(比如，一体成型)设置。

前面各实施例中，第一液面探测件60均为柱状的探头。在其它实施例中，第一液面探测件60也可以是金属片状，如图11中所示。该片状的第一液面探测件60既覆盖杯盖的下表面，还覆盖了杯盖的内表面。杯盖内表面处的第一液面探测件60极为靠近第二液面探测件80，使得两者的导通极为容易。如图11，仅通过螺钉82，第二液面探测件80即可接触到内表面处的第一液面探测件60。

以上所述仅为本申请的较佳实施例而已，并不用以限制本申请，凡在本申请的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请保护的范围之内。