包括清洁设备、浸渍设备和再填充装置的后处理系统的制作方法

文档序号:27838668发布日期:2021-12-08 00:31阅读:87来源:国知局
包括清洁设备、浸渍设备和再填充装置的后处理系统的制作方法
包括清洁设备、浸渍设备和再填充装置的后处理系统
发明领域
1.本发明涉及一种后处理系统,该后处理系统用于将浸渍处理再次施加到先前处理过的物品上。
2.发明背景
3.为了使鞋、大衣等更耐特别是水而浸渍它们是很常见的,特别是在北方和潮湿的气候中。至少在本发明中,这种类型的浸渍应理解为一种防水过程,其中试剂被施加到表面,以便使表面防水或者改善或重建表面的阻水性能。
4.从us 2016/0000213中已知一种适于从中空的手柄分配液体的设备的示例。待分配的液体储存在中空的手柄中。中空的内部与分配头液体连通,该分配头包括海绵。以这种方式,液体可以被提供在海绵上,并且通过将海绵施加到物体,液体可以被施加到物体。
5.从cn 2045264中已知一种某种程度上类似的设备,其中公开了一种鞋刷。该设备包括与贮存器液体连接的刷头。当刷头被移除时,可以更换刷头并对液体贮存器再填充。在us2013/0047358中公开了一种类似的设备。
6.这是例如通过手动将浸渍剂喷涂到为鞋、手套、手提包或外套的物体上或者通过自动喷涂室来完成的,例如在同一申请人的在先专利ep2964051中公开的。
7.这些处理的一个问题是,这种处理由于磨损和撕裂的作用和/或仅仅由于老化而因此随着时间的推移劣化。在某些情况下,初始处理不足以使被处理的物品/物体具有足够的阻水性或防水性。在这样的情况下,为了达到期望的效果,应更新或完善处理,即重建阻水/防水性能。
8.对于大多数使用者来说,再次施加仅在很少的情况下发生,并因此初始处理在几周或几个月后就变得无用,因为再次施加需要购买额外的浸渍剂或在上述设备中重新处理。
9.发明目的
10.因此,本发明的目的是提供一种后处理系统,该后处理系统鼓励使用者再次施加处理并使得使用者容易再次施加处理,并且进一步确保更新的处理具有与原始处理相同的基本成分,以便获得改进的效果。
11.发明描述
12.本发明通过提供一种后处理系统来解决这个问题,该后处理系统用于向先前处理过的物品(诸如鞋、手套、手提包、外套等)再施加浸渍处理,其中所述后处理系统包括:
13.‑
清洁设备,该清洁设备具有主体,并且集成有容纳清洁液体的贮存器或者能够使用容纳清洁液体的贮存器,所述贮存器与施加表面连接;
14.‑
浸渍设备,该浸渍设备具有主体,该主体集成有容纳浸渍膏的贮存器或者能够使用容纳浸渍膏的贮存器,所述贮存器与施加表面连接,
15.其中两个贮存器包括用于再填充所述贮存器的装置,并且其中施加表面可与另一个施加表面互换,并且清洁设备和浸渍设备的贮存器各自设置有单向阀,并且其中贮存器可以通过将单向阀分别连接到浸渍膏和清洁液体的源而被再填充。
16.包括清洁设备和浸渍设备两者的后处理系统的提供使得进行所需的处理变得方便和容易。自然,清洁设备将包含必要的设备,以便清洁待处理的物品的表面,但是此外,它还将施加适合于该目的的清洁液体。
17.通常,在以正常方式再施加之前,更普通的家用品牌的清洁液体会被使用,并且这些家用清洁液体将通常包含对浸渍剂或待处理的物品的表面有害的化合物。
18.此外,由于最初使用的浸渍剂的相同成分被包含在用于再施加浸渍剂的浸渍膏中,因此确保了实现均匀且有结合力的浸渍过程,因为这两种材料是相容的。
19.为了使后处理系统适于应对浸渍剂的再施加,浸渍剂呈浸渍膏的形状。在这方面,膏应被理解为一种具有如同稠的流动油或霜的稠度或粘度的浸渍剂。
20.提供单向阀是为了能够再填充清洁设备和浸渍设备,使得这些设备可以重复使用。这提供了额外的优点,即可以以更高的标准以及因此更高的成本制造清洁设备和浸渍设备,因为设备的预期寿命可以被设计得比设备仅用于单次使用的情况长得多。这也允许提供一种向使用者提供附加益处的质量。
21.此外,后处理系统的环境影响基本上被最小化,因为所有物品都是可重复使用的,当然,除了清洁液体和浸渍膏之外。
22.在本发明的又一有利实施例中,清洁设备和浸渍设备中的一个或两个的施加表面是可回弹的和/或柔软的海绵。
23.特别是对于某些物品,重要的是清洁设备和浸渍设备不具有任何硬表面或硬边缘,因为硬表面或硬边缘可能会划伤待浸渍的物品,且此外,希望具有非常可回弹的表面,使得该表面可以变形为待浸渍的物品的轮廓。在表面为软海绵形状的情况下,也可以允许浸渍膏在待处理的物品上以相对厚但光滑的层提供。
24.在本发明的又一个有利实施例中,贮存器各自设置有可渗透的且可回弹的表面,使得当抵着可渗透的且可回弹的表面对清洁设备和/或浸渍设备施压时,清洁液体或浸渍膏被转移到相应的施加表面。
25.以这种方式,使用者只需通过将浸渍设备或清洁设备抵着待处理的表面推压,就可完全控制清洁液体或浸渍膏的施加速度和量。随着因抵着表面推压设备所引起的压力的增加,清洁液体或浸渍膏将穿过可渗透的表面被挤出,并因此被转移到待处理的物体。
26.在本发明的又一有利实施例中,清洁设备和/或浸渍设备设置有可回弹的主体部分或按钮设备,使得当可回弹的主体部分变形或按钮设备启动时,贮存器体积受到影响。
27.这是实现参照其中设备设置有可回弹的表面的实施例已在上文提到的目的的替代方式,但是在本实施例中,设备设置有可回弹的主体或底部,使得通过按压底部,例如容纳浸渍膏或清洁液体的体积将处于压力下,由此膏/液体将被压向待处理的物体的表面。
28.在本发明的又一有利实施例中,包含容纳清洗液体的贮存器和容纳浸渍膏的贮存器的再填充站被集成在浸渍器具中,所述浸渍器具包括封闭的处理室,在该室中,一个或更多个喷嘴被设置用于向待处理的物品喷射浸渍液体雾,并且其中用于处理器具中的物品的浸渍剂中的活性成分与浸渍膏中的活性成分相同,并且其中所述浸渍器具的再填充站包括用于直接或间接连接到清洁设备和浸渍设备的对接站。
29.该器具例如可以是上文已经参考申请人的在先欧洲专利ep2964051所提到的器具,在该欧洲专利中另外提供了一种对接站,使得清洁设备和浸渍设备可以例如通过单向
阀或通过其他方式附接到浸渍膏和清洁液体的贮存器。该实施例特别有利,因为可能的是为该器具提供浸渍剂的服务机构和供应源与提供用于根据本发明的后处理系统的浸渍膏的服务机构和供应源相同,使得特别是浸渍剂/膏的主要成分或活性成分是相同的,从而确保后处理浸渍程序与最初执行的浸渍程序兼容。此外,还确保从清洁设备中分配认可的清洁剂。
30.在又一有利实施例中,如上所述的后处理系统(其中包括集成到浸渍器具中的再填充站)可能在另外的有利实施例中有区别,区别在于清洁设备和浸渍设备设置有公共壳体,使得清洁设备和浸渍设备可以从壳体移除并再次插入,其中壳体可选地包括用于储存清洁液体和浸渍膏的贮存器,并且其中设置了用于分别向清洁设备和浸渍设备再填充清洁液体和浸渍膏的装置,以及用于向贮存器分别再填充清洁液体和浸渍膏的装置,其中所述壳体可连接到再填充站,使得壳体中的贮存器可被再次充满。
31.利用这种配置,使用者可以将壳体携带到包括再填充站的浸渍器具所在的位置。这通常会在鞋店或百货公司。这里,将可以把壳体换成新的再填充设备,即其中清洁设备和浸渍设备的贮存器已经被再填充,或者其中壳体中的贮存器已经被再填充,使得将来可以在远离浸渍器具的地方进行多次施加。
32.这种特征的组合确实将本发明及其概念与传统的喷雾罐的使用区分开,因为本发明提供了一种可重复使用的系统,该系统对环境的影响可以忽略不计,并且同时使得使用者在清洁再处理物品(诸如鞋、手提包等)时可以非常方便地确保使用正确的材料。
附图说明
33.现在将参考附图解释本发明,其中:
34.图1图示了清洁设备和浸渍设备;
35.图2图示了设置有两个对接站的再填充站;
36.图3图示了设备,其中该设备的主体设置有柔软部分;
37.图4图示了另外的实施例,其中底部被用于对内部贮存器加压;
38.图5图示了一种器具,例如在同一申请人的在先专利ep2964051中公开的器具;
39.图6图示了壳体。
40.发明的详细描述
41.在图1中示意性地图示了清洁设备1和浸渍设备2。在图示的实施例中,清洁设备和浸渍设备2两者都被图示为矩形封闭盒,每个封闭盒分别具有适于施加清洁液体和浸渍膏的下表面3、4。
42.当然,形状可以有很大的不同,但是为了公开本发明的概念,将参考关于图1所图示的清洁设备和浸渍设备。然而,应该理解的是,该设备可以具有任何合适和期望的形状,诸如椭圆形、正方形、圆形、球形等。设备1、2设置有由虚线指示的内部贮存器5、6。
43.为了再填充贮存器5、6,两个设备1、2设置有用于再填充贮存器5、6的装置,其中在该实施例中,该装置以延伸的连接阀7、8示出。通过将阀7、8连接到容纳清洗液体和浸渍膏的相应贮存器,可以再填充贮存器5、6。
44.两个设备1、2设置有施加表面9、10,其中施加表面通常会有所不同。对于清洁设备1来说,施加表面10应当具有适于从待处理的物体去除灰尘和碎屑的表面,并且同时可渗透
到这样的程度,即容纳在贮存器5中的清洁液体可以渗入施加构件10中,并且从而渗入施加构件的施加表面,该清洁液体的量足以彻底清洁该表面,但是也限制在一定的量,使得清洁液体不会从施加表面10溢出或滴落。由于清洗液体和浸渍膏之间的粘度不同,所以浸渍设备2的施加表面9将具有不同的特性。典型地,浸渍膏将具有比稠的油或乳霜更高的粘度,并因此膏将不太可能从施加表面9滴落和溢出。
45.为此目的,有必要确保膏从贮存器到施加表面的流动是充分的,并且确保膏从施加表面9到待处理的物体的施加使得足够的浸渍剂层将被转移到待处理的物体。
46.在图2中示意性地图示了设置有两个对接站21、22的再填充站20。对接站被设计成接收和容纳设备1、2的阀7、8,使得当阀7、8被插入对接站21、22中时,在设备1、2的贮存器5、6和再填充站中稍大的贮存器23、24之间将可以有液体连通。明显的是,贮存器24应该设置有浸渍膏,使得浸渍设备2的贮存器6被再填充适当的液体,并且对于清洁设备1也是如此,清洁设备1应该能够连接到容纳清洁液体的贮存器23。
47.为了防止这种连接出错,连接阀7、8可以具有不同的尺寸或形状,使得只能将正确的设备1、2插入正确的对接站21、22中。容纳在再填充站20的贮存器23、24中的液体可以处于压力下,使得当阀7、8插入到对接站21、22中时,液体将从对接站20的贮存器23、24分别流入清洁设备1和浸渍设备2的贮存器5、6中。
48.还可以预见的是,贮存器23、24被设定尺寸成使得清洁液体和浸渍膏将以批量提供,使得当清洁设备1和浸渍设备2被插入对接站21、22中时,只有正确量的清洁液体和浸渍剂将分别从再填充站20的贮存器23、24转移到设备1、2中。对于参考图1所图示和描述的设备,可以预见的是,通过将设备1、2推靠在待浸渍的表面上来产生对清洁液体和浸渍膏的施加,由此施加表面9、10将释放足够的清洁液体或浸渍膏,以便充分实施该过程。
49.在其他情况下,该设备可以设置有用于发放确定量的清洁剂或浸渍剂的装置。例如,在图3中图示了设备1’,其中该设备的主体设置有柔软部分30,使得该设备可以变形。在这种情况下,应该提到的是,柔软部分可以具有许多形状和构造,但是为了说明的目的,它仅被图示为位于设备1’、2’的中心部分处的柔软部分。通过使柔软部分30变形,内部贮存器5、6将被挤压,由此清洁液体或浸渍膏被转移到施加表面9、10,从而可以促进正确的清洁和浸渍。
50.在图4中图示了另外的实施例,其中底部31用于对内部贮存器加压,由此清洁液体或浸渍膏可以被转移到施加表面9、10。
51.在图5和图6中示意性地图示了一种系统,其中清洁设备1和浸渍设备2设置有壳体40。设备1、2可以插入壳体40中,并通过对接装置41、42连接到壳体40中包含的贮存器(未图示),或者其中壳体40的外部面上的对接站41、42可以连接到外部贮存器。
52.在图5中图示了一种器具,例如在同一申请人的在先专利ep2964051中公开的。器具50包括处理室,该处理室可通过可打开的门51进入,其中待处理的物品可以放置在处理室中,之后门51关闭。设备50的内部部分包括用于向待浸渍的物品喷射浸渍剂雾的喷嘴,以及用于排空任何多余浸渍雾的排空装置,使得当在处理之后门重新打开时,这样的浸渍雾不会释放到周围环境中。设备50还设置有控制面板52,从而可以选择用于操作设备50的适当的程序。
53.在该实施例中,设备50还设置有对接站53,使得参考图6解释的壳体可以定位并且
连接到阀54、55。以这种方式,如上文所解释的位于壳体40内部的设备1、2将通过阀54、55与设备50内部的由虚线指示的贮存器56、57液体连通。
54.由于通常将是维护器具50的同一个人将向设备50供应正确的浸渍液体,因此可以预见,由于浸渍剂将基于与本发明使用的浸渍膏相同的成分,以便确保后处理将与最初的处理兼容,因此相当保险的是同一个人将更换和再填充贮存器,使得液体和膏从与浸渍液体和浸渍膏相同的源供应,从而确保后处理系统的兼容性。
55.此外,由于将液体输送到设备50的同一分配器也将输送用于后处理系统的清洁液体,因此确保了与浸渍液体和膏相容的清洁液体也将被供应到根据本发明的后处理系统。
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