一种中央厨房清洁系统及其运行方法

文档序号:25360670发布日期:2021-06-08 15:34阅读:351来源:国知局
一种中央厨房清洁系统及其运行方法

1.本发明属于消毒技术领域,具体涉及一种餐具、蔬菜的清洗及消毒的系统和方法。


背景技术:

2.中央厨房是一种集约化的餐饮制造模式,中央厨房将菜品用冷藏车配送,对直营店实行统一采购和配送。除能节约人力成本外,由于统一采购,还能大规模降低采购成本。因其规模很大、对餐具的清洁程度更高,中央厨房在清洗时需要用到大量清洗剂,不仅清洁剂成本高,而且大量排放餐具洗涤水也对环境造成较大的污染。
3.现有技术中,申请号为zl01246856.8的专利公开了一种虹吸式添加电解液的高氧化电位消毒水生成器,包括过滤器、水流传感器、流量计、电源水冷、电器控制部分及带有电极、进水咀、两出水咀的活化槽和具有出液咀的nacl溶液罐,以及一个装有进水咀的虹吸器。其将管网自来水与少量食盐混合,通过特殊隔膜电解装置处理后,分别产生的具有特殊功能的酸性离子水和碱性离子水。该装置提供高氧化电位水,用于医用或家用消毒。
4.紫外线杀菌消毒是利用适当波长的紫外线能够破坏微生物机体细胞中的dna(脱氧核糖核酸)或rna(核糖核酸)的分子结构,造成生长性细胞死亡和(或)再生性细胞死亡,达到杀菌消毒的效果。在长时间紫外照射情况下,空气中的氧气生成臭氧,而臭氧能起到净化空气,同时对空气杀菌消毒的作用。
5.对于中央厨房这种制造模式,对餐具、蔬菜的清洁要求还要包括杀毒、杀菌、包装等,而且在大规模生产食物的同时要尽量减少清洗废水的排放污染,这是中央厨房技术领域面临的新问题。


技术实现要素:

6.针对现有技术的存在的问题,本发明提供了一种中央厨房清洁系统。
7.本发明还提出所述中央厨房清洁系统的运行方法。
8.实现本发明上述目的的技术方案为:
9.一种中央厨房清洁系统,包括氧化电位生成水清理系统;
10.所述氧化电位生成水清理系统包括电解水生成装置、水储存罐、超声清洗装置、水洗设备和输送装置;
11.所述电解水生成装置包括阳极室和阴极室,阳极室和阴极室用离子选择性透过膜隔开,所述水储存罐包括酸性水储存罐和碱性水储存罐,所述阳极室连接所述酸性水储罐,所述阴极室连接所述碱性水储罐;所述酸性水储存罐和碱性水储存罐的出口分别通过管路连接于所述超声清洗装置;
12.所述超声清洗装置通过输送装置连接所述水洗设备,所述水洗设备为洗碗机和/或气泡清洗机。
13.进一步地,所述超声清洗装置下部设置有排水口,所述排水口连接于废水储罐。
14.其中,所述超声清洗装置底部设置有超声波换能器。
15.本发明的一种优选技术方案为,所述中央厨房清洁系统还包括无菌化生产车间、紫外光杀菌系统和无菌包装系统中的一个或多个;
16.所述紫外光杀菌系统包括设置在系统顶部的紫外光辐照灯;
17.所述无菌包装系统由无菌包装机构成。
18.所述中央厨房清洁系统的运行方法,包括操作:
19.在所述电解水生成装置中放入水,添加微量电解质,用直流电电解,分别在阳极室和阴极室获得酸性水和碱性水,
20.先用酸性水在超声清洗装置内进行清洗,再用碱性水在超声清洗装置内清洗,
21.清洁后的餐具再用洗碗机洗涤(洗碗机内不用再放洗涤剂),然后经紫外线杀菌后包装。或清洁后的蔬菜再用气泡清洗机洗涤,然后经紫外线杀菌。
22.优选地,所述电解质为nacl,添加的质量浓度为0.05%~0.2%;电解水生成装置的槽电压为18v~24v,电解时间为6~10分钟。
23.基于上述限定的电解质投加量,使电解槽中发生恒流电解反应,生成氧化还原电位≧1100mv,酸性水ph≦2.7,碱性水ph大于11,有效氯低于80mg/l的电解功能水。
24.本发明的一种优选技术方案为,先用酸性水进行清洗,清洗5~30s,再由碱性水进行清洗,清洗5~30s。,再由碱性功能水进行清洗。
25.其中,所述超声波换能器的功率为1~2kw。
26.不锈钢餐具刀叉等使用后很容易沾染油污、剩菜等,用餐具超声波清洗机,利用超声波在水中激荡,通过空化作用,反映到餐具上。在底部的换能器发出强烈的超声波,穿透钢板,形成分散气泡,扩散到整个槽体内,使餐具表面均匀收到超声波轰击,清洁餐具。通过超声波清洗后的餐盘进入洗碗机多次冲洗,彻底清洗干净餐盘和餐具。
27.其中,紫外光辐照灯的功率为100w~150w。紫外辐照的时间为10~30min。在食品表面进行高强度紫外光照射能有效杀灭空气中和食品表面的微生物,而长时间紫外照射情况下,空气中产生臭氧,能起到空气清新的作用。
28.优选地,将所述超声清洗装置排出的酸性和碱性的洗涤水均放入废水储罐内。酸性电解水清洗后所产生的废水和碱性电解水清洗后所产生的的废水中和后ph为中性,对环境污染小,且废水中不含洗涤剂。
29.本发明的有益效果在于:
30.本发明提出的一种中央厨房清洁系统,集成了电解水生成装置、超声清洗装置、洗碗机和紫外杀菌装置,一体化地实现了清洗、杀毒、包装的生产,节约了人力物力;
31.本发明提出的中央厨房清洁方法,通过设置电解条件,获得兼具清洁、消毒功能的酸性水和碱性水,又称电生功能水。,酸性水杀菌彻底,快速无毒性,无刺激性,使用方便,无残留,无毒副作用。碱性水海可以降解农药残留及去污洗涤,且造价低廉。该电生功能水既可以清洗餐具,也可以清洗蔬菜。
附图说明
32.图1为本发明中央厨房清洁系统的氧化电位生成水清理系统结构简图。
33.图中,1为电解水生成装置,2为酸性水储存罐,3为碱性水储存罐,4为废水储罐,5为超声清洗装置,6为传送带,7为洗碗机,8为气泡清洗机。
具体实施方式
34.以下实施例用于说明本发明,但不用来限制本发明的范围。
35.在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明保护范围的限制。
36.实施例1
37.一种中央厨房清洁系统,包括氧化电位生成水清理系统,参见图1:所述氧化电位生成水清理系统包括电解水生成装置1、水储存罐、超声清洗装置5、洗碗机7、气泡清洗机8和传送带6;
38.所述电解水生成装置1包括阳极室和阴极室,阳极室和阴极室用离子选择性透过膜隔开,所述水储存罐包括酸性水储存罐2和碱性水储存罐3,所述阳极室连接所述酸性水储罐2,所述阴极室连接所述碱性水储罐3;所述酸性水储存罐和碱性水储存罐的出口分别通过管路连接于所述超声清洗装置5;
39.所述超声清洗装置5通过传送带6连接所述洗碗机和气泡清洗机,可根据需求把物品传送至洗碗机或气泡清洗机。
40.所述超声清洗装置5下部设置有排水口,所述排水口连接于废水储罐4。
41.所述超声清洗装置5底部设置有超声波换能器。
42.本中央厨房清洁系统还包括无菌化生产车间、紫外光杀菌系统和无菌包装系统;
43.所述紫外光杀菌系统包括设置在系统顶部的紫外光辐照灯;
44.所述无菌包装系统由无菌包装机构成。
45.实施例2
46.实施例1的中央厨房清洁系统的运行方法,本实施例是对餐具进行清洗,包括操作:
47.在所述电解水生成装置中放入水,添加微量电解质,用直流电电解,分别在阳极室和阴极室获得酸性水和碱性水,
48.先用酸性水在超声清洗装置内进行清洗,再用碱性水在超声清洗装置内清洗,利用超声波在水中激荡,通过空化作用,反映到餐具上。在底部的换能器发出强烈的超声波,穿透钢板,形成分散气泡,扩散到整个槽体内,使餐具表面均匀收到超声波轰击,清洁餐具。
49.清洁后的餐具再用洗碗机洗涤,然后经紫外线杀菌后包装。
50.具体本实施例中,所述电解质为nacl,添加的质量浓度为0.2%;控制电解水生成装置的槽电压为18v~24v,恒流电解,电解时间为10分钟。电解槽中介质生成氧化还原电位1100mv,酸性水ph 2.7,碱性水ph12,有效氯约80mg/l的电解功能水。
51.先用酸性水进行清洗10s,再由碱性功能水进行清洗10s。
52.本实施例中,所述超声波换能器的功率1kw。
53.紫外光辐照灯的功率为150w。紫外辐照的时间为10min。
54.将所述超声清洗装置排出的酸性和碱性的洗涤水均放入废水储罐内。
55.实施例3
56.实施例1的中央厨房清洁系统的运行方法,本实施例是对蔬菜进行清洗,包括操作:
57.在所述电解水生成装置中放入水,添加微量电解质,用直流电电解,分别在阳极室和阴极室获得酸性水和碱性水,
58.先用酸性水在超声清洗装置内进行清洗,再用碱性水在超声清洗装置内清洗,利用超声波在水中激荡,通过空化作用,反映到餐具上。在底部的换能器发出强烈的超声波,穿透钢板,形成分散气泡,扩散到整个槽体内,使餐具表面均匀收到超声波轰击,清洁餐具。
59.清洁后的蔬菜再用气泡清洗机洗涤,然后经紫外线杀菌后包装。
60.具体本实施例中,所述电解质为nacl,具体本实施例中,所述电解质为nacl,添加的质量浓度为0.1%;控制电解水生成装置的槽电压为18v~24v,恒流电解时间为10分钟。电解槽中介质生成氧化还原电位1100mv,酸性水ph 3,碱性水ph11,有效氯约70mg/l的电解功能水。
61.先用酸性水进行清洗5s,再由碱性功能水进行清洗5s。
62.本实施例中,所述超声波换能器的功率为1kw。
63.紫外光辐照灯的功率为100w~150w。紫外辐照的时间为15min。
64.将所述超声清洗装置排出的酸性和碱性的洗涤水均放入废水储罐内。
65.虽然,以上通过实施例对本发明进行了说明,但本领域技术人员应了解,在不偏离本发明精神和实质的前提下,对本发明所做的改进和变型,均应属于本发明的保护范围内。
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