用于可移除地布置在烹饪装置的烹饪空间中的清洁插件的制作方法

用于可移除地布置在烹饪装置的烹饪空间中的清洁插件
1.本专利申请要求德国专利申请de 10 2020 204 707.3的优先权，其内容通过引用结合于此。
技术领域
2.本发明涉及一种用于可移除地布置在烹饪装置的烹饪空间中的清洁插件。进一步地，本发明涉及一种用于清洁插件的清洁单元。本发明还涉及一种清洁组合件，其包括该清洁插件和该清洁单元。本发明还涉及一种用于清洁烹饪装置的烹饪腔室的方法。


背景技术：

3.根据明显的在先使用，已知蒸汽炉形式的烹饪装置，其烹饪腔室可使用清洁组合物被清洁。为了在烹饪空间中容纳并分配清洁组合物，在一个烹饪腔室壁上配置有需要大量安装空间的设备，该设备在烹饪过程中具有破坏性并且容易受顽固污染物堆积的影响。


技术实现要素：

4.因此，本发明的目的是提出一种改进的清洁插件，该清洁插件尤其能够特别彻底地清洁烹饪空间并且尽可能最小地占用可用的安装空间。
5.该目的通过一种用于可移除地布置在烹饪装置的烹饪空间中的清洁插件来实现，其具有：用于以可逆固定的方式来容纳具有清洁组合物的清洁单元的容纳设备；以及连接到所述容纳设备的支撑体，用于将容纳设备相对于烹饪空间进行定位。已经发现，清洁插件(其包括：容纳设备，用于以可逆固定的方式来容纳包括清洁组合物的清洁单元；以及连接到容纳设备的支撑体，用于将容纳设备相对于烹饪空间进行定位)能够在烹饪空间中可移动地布置，由此在烹饪过程中充分保持了烹饪空间，并且由此可以特别彻底地清洁烹饪腔室。烹饪空间不受用于容纳清洁组合物的设备的限制。可以避免使用在烹饪过程中容易受污染影响的这种设备。尤其是，可以从烹饪空间移除的清洁插件允许附接到容纳设备的清洁单元被定位在烹饪空间的中心区域中。由于清洁插件的可移动性，在清洁过程之后可以再次释放烹饪过程所需的该中心区域。将清洁单元布置在中心区域中确保了清洁组合物在烹饪空间中的特别均匀的分配。因此，清洁过程特别高效且节能。
6.容纳设备被配置为造成与清洁单元的可拆卸连接。尤其是，容纳设备确保清洁单元可以被容纳而不会丢失。例如，容纳设备可以被配置为完全限定清洁单元相对于支撑体的位置和/或定向。容纳设备可以被配置为使得清洁单元相对于支撑体的至少一个自由度，尤其是恰好一个自由度，尤其是恰好一个旋转自由度是开放的，即不受限制的。至少一个开放的自由度可以允许清洁单元被安装在支撑体上和/或通过相对于支撑体移动清洁单元来确保清洁组合物在烹饪空间中特别均匀的分配。
7.根据本发明的一个方面，容纳设备被配置为提供与清洁单元的非形状配合和/或形状配合的连接。支撑体可以被配置为提供与烹饪腔室和/或烹饪腔室门的非正向和/或正向连接。优选地，容纳设备被配置为无需工具即可产生和/或分离与清洁单元的可逆连接。
支撑体可被配置为无需工具即可产生和/或分离与烹饪腔室和/或烹饪腔室门的连接。因此，可以特别容易且高效地使用清洁插件。
8.根据本发明的一个方面，支撑体被配置为以支撑和/或悬挂的方式将容纳设备附接到烹饪腔室和/或烹饪腔室门。悬挂附接被理解为是指清洁插件的重心，尤其是其上容纳有清洁单元的清洁插件的重心，在垂直方向上布置在支撑体与烹饪腔室和/或烹饪腔室门之间的连接点下方。有利地，这确保了清洁组合物可以特别均匀地分布在烹饪空间中，由此可以特别高效地进行清洁。
9.根据本发明的一个方面，容纳设备被布置在用于待烹饪食物的承载件的中心区域中。优选地，在俯视图中，尤其是在将支撑体按预期的方式定位在烹饪空间中的情况下，容纳设备布置在清洁插件的中心区域中，尤其是在支撑体的中心区域中，尤其是在用于待烹饪食物的承载件的中心区域中，和/或烹饪腔室的中心区域中。在俯视图中，容纳设备与支撑体的外部轮廓之间的距离优选为至少50mm，尤其是至少100mm。优选地，在俯视图中，清洁插件的面积几何中心，尤其是支撑体的面积几何中心，和/或烹饪腔室的面积几何中心位于容纳设备的外部轮廓内。有利地，这确保了清洁组合物可以分布在烹饪空间的中心位置处，并且因此特别均匀地分布在整个烹饪空间中。
10.容纳设备可以尤其沿着用于待烹饪食物的承载件的主延伸平面布置在距中心区域一定距离处，特别是距支撑体的面积几何中心一定距离处。例如，支撑体的面积几何中心，尤其是沿着支撑体的主延伸平面的支撑体的面积几何中心，与容纳设备的面积几何中心或容纳设备的轮廓线之间的距离至少为10mm，尤其是至少20mm，尤其是至少50mm，尤其是至少100mm。可以在支撑体的主延伸平面中，尤其是沿着烹饪空间的横向方向和/或深度方向测量该距离。有利地，容纳设备在支撑体上的偏心布置确保了清洁单元可以被定位在能够更高效地进行清洁组合物的均匀分配的烹饪空间的区域中。与烹饪空间的其余部分相比，在该区域中例如增加了空气、蒸汽或水通量。因此，清洁组合物可以以特别高效的方式在烹饪空间中分布和散布。
11.根据本发明的另一方面，烹饪装置被配置为烤炉，尤其是烘焙烤炉和/或蒸汽烹饪烤炉。烹饪装置优选具有用于调节烹饪空间中温度的温度调节设备，尤其通过加热和/或经由自动的水和/或蒸汽供应来调节烹饪空间中的温度。
12.为了以防丢失的方式容纳清洁单元，容纳设备可以具有能反向移动的锁定元件。优选地，在不将锁定元件从锁定位置移动到释放位置的情况下，不能将清洁单元从清洁插件中移除，尤其从容纳设备中移除。例如，锁定元件可以被配置为锁定闩锁。
13.优选地，支撑体具有至少3个，尤其是至少4个可调脚，用于将清洁插件定位在定位表面上，尤其是定位平面上。
14.根据本发明的另一方面，支撑体具有用于待烹饪的食物的承载件。用于待烹饪的食物的承载件可以被配置为容纳烹饪用具，尤其是锅(pot)和/或电烤箱和/或平底锅(pan)。用于待烹饪的食物的承载件也可以配置成用于容纳待加热的食物，尤其是配置成烤肉架。优选地，支撑体具有支持烹饪过程的功能。有利地，这允许清洁插件无论如何都可以替换厨房中所需的器件。因此，可以避免对清洁插件的额外存储空间的需求。
15.根据本发明的另一方面，用于待烹饪的食物的承载件具有烘烤架。优选地，用于待烹饪的食物的承载件是烘烤架。烘烤架可以包括多个架杆。优选地，架杆配置成架框和用于
放置待烹饪的食物的定位表面。无论如何，烘烤架是厨房中通常需要的一种器件。通过将用于待烹饪的食物的承载件配置为烘烤架，在厨房中不需要额外的存储空间来存储清洁插件。
16.可替代地，用于待烹饪的食物的承载件可以被配置为多孔板和/或烘烤盘。
17.根据本发明的另一方面，容纳设备由烘烤架的至少一个杆配置而成。优选地，容纳设备由至少两个架杆，尤其精确地是两个架杆配置而成。至少一个架杆可以被配置为用于紧靠在清洁单元上，尤其以可旋转的方式紧靠在清洁单元上。为此，例如至少一个架杆至少部分地被配置为圆弧。
18.根据本发明的另一方面，支撑体具有轨道接合部，用于连接至烹饪装置的支撑轨道。烹饪装置的支撑轨道优选是用于容纳烘烤架和/或烘烤盘的轨道，尤其是成对布置在烹饪腔室的相对侧壁上的轨道。
19.根据本发明的另一方面，容纳设备具有用于与清洁单元进行形状配合连接的形状配合元件。优选地，容纳设备被配置为与清洁单元形成卡扣锁和/或嵌入连接和/或闩锁连接。这确保了清洁单元和容纳设备之间的特别可靠的连接，尤其是无需工具即可拆卸的连接。
20.优选地，清洁插件是具有容纳设备的烘烤架，该容纳设备用于以可固定的方式来布置清洁单元，尤其是用于形状配合地连接到清洁单元，尤其是以卡扣锁的形式连接到清洁单元。
21.本发明的另一个目的是提供一种改进的清洁单元，该清洁单元尤其特别容易被处理并且确保了清洁组合物在烹饪腔室中的均匀分布。
22.该目的通过如上所述的用于清洁插件的清洁单元来实现。清洁单元可具有清洁组合物、腔室(在其中清洁组合物布置有用于将清洁组合物分配到烹饪空间中的分配开口)以及反向容纳设备(用于可逆地固定地附接到清洁插件)。反向容纳设备可以被配置为用于连接至清洁插件的容纳设备，尤其是可逆地和/或无需工具地连接至清洁插件的容纳设备。
23.腔室优选地包括耐热，尤其是耐高达至少100℃，尤其是耐高达至少150℃，尤其是耐高达至少200℃，尤其是耐高达至少250℃的材料和/或不溶于水的材料。腔室也可以由溶于水的材料和/或可熔化的材料制成，尤其是在至多200℃，尤其是至多150℃，尤其是至多100℃的温度下是可熔化的。腔室也可以由可降解材料制成。优选地，腔室包括以下材料中的至少一种：塑料，尤其是聚丙烯和/或聚碳酸酯和/或聚乙烯和/或丙烯酸丁二烯苯乙烯和/或生物聚合物，尤其是聚乳酸。
24.腔室优选具有精确为一个，尤其是至少一个，尤其是至少两个分配开口。配置有两个分配开口的腔室可以用清洗液体冲洗，以特别高效地分配清洁组合物。为此，可以在至少一个分配开口处布置用于与水管线连接的管线连接件。
25.清洁组合物优选地包括至少一种，尤其是至少两种，尤其是至少三种的清洁成分。清洁成分可以混合在一起或可以单独存在于腔室内。优选地，至少两种清洁成分被至少一个密封层分开。优选地，腔室被至少一个密封层分成彼此分开的至少两个部分腔室。可以在分配开口和清洁组合物之间或在分配开口处布置有其他密封层。有利地是，这确保了清洁组合物在使用之前被牢固地封闭在腔室内。
26.清洁组合物可以包括液体和/或固体，尤其是粉末和/或颗粒状清洁成分。优选地，
清洁组合物包括以下清洁成分中的至少一种：碳酸钠、过碳酸钠、柠檬酸。优选地，清洁组合物包括160g粉末状碳酸钠和60g粉末状柠檬酸。
27.至少一个密封层优选地被配置为熔化层，其熔化温度至多为250℃，尤其是至多200℃，尤其是至多150℃，尤其是至多100℃，和/或被配置为水溶层。特别优选地，多个密封层分别具有不同的熔化温度。例如，第一密封层可以具有65℃的熔化温度，并且第二密封层可以具有95℃的熔化温度。优选地，密封层是塑料层和/或蜡层。因此，清洁组合物的分配可以特别容易地以温度控制的方式和/或通过液体供应来控制。
28.优选地，多个部分腔室串联配置在从分配开口开始的腔室中。密封层优选地具有从分配开口开始而增加的熔化温度。因此，可以以温度控制的方式连续地从清洁单元中排出清洁成分。
29.根据本发明的另一方面，反向容纳设备具有用于与清洁插件进行形状配合连接的反向形状配合锁定元件。反向容纳设备可以具有精确为一个，尤其是至少一个，尤其是至少两个反向形状配合锁定元件。至少一个反向形状配合锁定元件优选是卡扣锁组件和/或嵌入连接组件和/或闩锁连接组件。反向容纳设备可以被配置为连接到由至少一个架杆形成的容纳设备上。尤其是，容纳设备可具有用于容纳至少一个架杆的底切部。因此，清洁单元可以以特别可靠的，尤其是防丢失的方式连接到清洁插件。
30.根据本发明的另一方面，反向容纳设备一体地连接至腔室。例如，反向容纳设备可以材料结合到腔室。反向容纳设备和腔室可以以注模工艺来制造，尤其是在一个单独的工艺步骤中来制造。腔室和反向容纳设备优选地具有相同的材料。因此，可以特别高效且经济地制造清洁单元。
31.本发明的另一个目的是提供一种改进的用于烹饪装置的清洁组合件。
32.该目的通过一种用于烹饪装置的清洁组合件来实现，该清洁组合件具有如上所述的清洁插件和清洁单元。清洁组合件的优点对应于上述清洁插件和清洁单元的优点。尤其是，清洁组合件可以进一步具有上述关于清洁插件和/或清洁单元的特征。清洁组合件可以被配置用于可移动地布置在烹饪装置的烹饪空间中。
33.优选地，清洁单元经由反向容纳设备可逆地附接到清洁插件的容纳设备。清洁单元可以在没有工具的情况下连接到清洁插件上和/或在没有工具的情况下从清洁插件上分离。
34.根据本发明的一个方面，附接到清洁插件的清洁单元穿透支撑体。优选地，附接到清洁插件的清洁单元的主延伸方向被配置成垂直于清洁插件的主延伸平面。容纳设备可以具有容纳开口，清洁单元通过该容纳开口穿透支撑体。优选地，容纳设备由容纳开口的边界配置而成。清洁插件因此可以被配置成是特别紧凑的。
35.根据本发明的另一方面，清洁单元被布置在清洁插件上，使得清洁组合物可以从腔室中借助重力通过分配开口进行分配。因此，清洁组合物优选地布置在烹饪腔室中。分配开口优选地位于清洁单元的底部。尤其是，分配开口向下打开腔室。因此，清洁组合物可以仅借助重力从腔室掉出。尤其是，在插入到烹饪腔室中的位置中的腔室不形成用于吸纳清洗液体的任何液体储存器。因此，进入腔室的清洗液体可以再次完全排出。
36.本发明的另一个目的是提供一种改进的用于清洁烹饪装置的烹饪腔室的方法，该方法特别容易执行并且高效。
37.该目的通过一种用于清洁烹饪装置的烹饪腔室的方法来实现，该方法包括以下步骤：提供如上所述的清洁组合件，通过将所述反向容纳设备附接到所述容纳设备来将所述清洁单元连接到所述清洁插件，将具有所述清洁单元的所述清洁插件定位到所述烹饪空间中，从所述分配开口中将所述清洁组合物分配到所述烹饪空间中，以清洁所述烹饪腔室，以及将具有所述所述腔室的所述清洁插件从所述烹饪空间中移除。该方法的优点对应于上述关于清洁组合件、清洁插件和清洁单元的优点。该方法可以进一步具有上述关于清洁组合件和/或清洁插件和/或清洁单元的特征。
38.优选地，水，尤其是液体和/或蒸汽形式的水循环地通过烹饪空间。尤其是，水循环是经由位于烹饪腔室外部的管道进行的，尤其是通过烹饪腔室的排水开口进行的。排水开口优选地布置在烹饪腔室的底部。由于水循环，清洁过程对环境和资源特别温和。
39.优选地，在分配清洁组合物之前，淡水循环通过烹饪空间。该预清洗阶段优选在5分钟至20分钟之间的时间段内进行，尤其是在10分钟的时间段内进行。脏的淡水可以被抽出。优选地，淡水被多次供给到烹饪空间中，并且作为脏的清洗水被再次抽出。在此过程中，可以将烹饪空间加热到30℃至60℃的温度范围内，尤其是加热到50℃。
40.在清洗阶段中，清洗组合物，尤其是第一清洗成分，尤其是包括碳酸钠的第一清洗成分，可以从腔室排放到烹饪空间中。优选地，淡水被供应到烹饪空间。淡水可以与第一清洁成分混合。优选地，形成清洁液。优选地，清洁液多次循环穿过烹饪腔室。在此过程中，顽固的污垢会从烹饪腔室壁上脱落。优选地，在该过程中，将烹饪空间调节和/或加热到30℃至80℃，尤其是50℃至70℃，尤其是65℃范围内的清洗温度。清洗阶段优选地具有30分钟至120分钟，尤其是40分钟至90分钟，尤其是60分钟范围内的持续时间。
41.根据本发明的一个方面，尤其是在清洗阶段之后，淡水循环通过烹饪空间。该中间的清洗阶段基本上对应于预清洗阶段。优选地，与清洗阶段的温度相比，烹饪空间的温度保持不变。温度也可以低于清洗阶段的温度，尤其是连续降低的温度。优选地，连续执行至少两次，尤其是至少三次的供应淡水、使淡水循环通过烹饪空间并排出脏水的过程。
42.优选地，尤其在清洗阶段之后和/或在中间的清洗阶段之后，将第二清洁成分，尤其是包括柠檬酸的第二清洁成分，分配到烹饪腔室中。优选将烹饪空间加热到至少60℃，尤其是至少80℃，尤其是至少90℃，尤其是95℃的温度。该温度优选高于清洗阶段中的温度。水可以通过烹饪空间得以循环。优选地，当水与第二清洁成分混合时形成除垢溶液。优选地，除垢溶液多次循环通过烹饪空间。之后，可以将除垢溶液抽出。该除垢阶段优选持续10分钟至30分钟，尤其是20分钟。
43.可以将其他清洁成分依次从腔室释放到烹饪空间中。
44.优选在清洗阶段之后，尤其在脱钙阶段之后所执行的后清洗阶段基本上对应于预清洗阶段和中间的清洗阶段。后清洗阶段中的烹饪空间的温度可以对应于脱钙阶段中的烹饪空间的温度。温度也可以更低，尤其是连续降低。
45.烹饪装置可以具有用于自动执行清洁过程的控制器件。
46.根据本发明的另一方面，通过温度打开至少一个密封层以释放清洁组合物。密封层可以在该过程中熔化。替代地，在密封层和腔室之间的结合剂，尤其是黏结剂可以被熔化。优选地，温度诱导地打开清洁单元的两个密封层，以分别在不同的活化温度下释放清洁组合物的两种不同的清洁成分。有利地，这允许不同的清洁成分，尤其是具有不同功能的清
洁成分，尤其是具有不同ph值的清洁成分以自动控制的方式被释放到烹饪空间中。
47.作为温度诱导地打开至少一个密封层的替代方案，密封层或腔室壁可以溶解在水中，尤其是部分地或完全地溶解在水中，并因此具有将清洁组合物释放到烹饪空间中的效果。
48.优选地，清洗水和/或淡水经由用于使空气在烹饪空间中循环的风扇轮，尤其是再循环空气轮被排放到烹饪空间中。优选地，液体被排放到旋转风扇轮上，以均匀地分布在烹饪空间中。
49.根据本发明的另一方面，清洁单元的反向容纳设备可以借助至少一个，优选地借助至少两个紧固设备(例如挂钩、孔眼、凹槽)被布置在烹饪装置的烹饪空间中。清洁单元的反向容纳设备自身也可以具有相应的紧固设备或被设计为相应的紧固设备。
50.根据一种替代方案，清洁单元可以借助适当的紧固设备被布置在烹饪空间中的合适的紧固器件上。
51.本发明的另一个目的是提供一种改进的清洁单元。
52.该目的是通过一种具有至少一种可溶性清洁组合物的清洁单元来实现。清洁单元尤其可以是完全可溶的。可溶的配置尤其应理解为，清洁单元可溶于水或清洁液体中，如有必要进行加热。
53.根据本发明的另一方面，清洁单元包括一种或多种碱性溶液、酸或其盐和水中一个或多个选集。碱溶液的比例可以在30ml至70ml的范围内，尤其是在40ml至60ml的范围内。
54.酸的比例可以在15ml至55ml的范围内，尤其是在25ml至45ml的范围内，尤其是在30ml至40ml的范围内。
55.水的比例可以尤其在0ml至50ml的范围内，尤其是在5ml至30ml的范围内，尤其是至多15ml。
56.根据本发明的另一方面，清洁单元被设计为凸耳的形式。根据本发明的另一方面，清洁单元形成为球形。清洁单元尤其可以被设计为压制体。尤其是可以将其灵活地压制成不同的形状。通过使清洁单元成形，一方面，其在烹饪空间中的布置，尤其在容纳设备或在支撑体上的布置会受影响，并且另一方面，清洁过程，尤其是不同清洁阶段(其中清洁单元的清洁组合物的不同组分被溶解)的顺序会受影响。
57.根据本发明的另一方面，清洁单元成形为具有延伸部的球形。延伸部可以用于将清洁单元固定到支撑体。尤其是，其可以成形用于与形状配合元件进行形状配合连接。其他形状也是可能的。
58.根据本发明的另一方面，清洁单元是可溶的，没有任何残留物。清洁单元尤其可以没有塑料和/或蜡。由此，可以避免烹饪装置的烹饪空间或其他区域中存在不期望有的残留物。另外，避免了浪费。
59.根据本发明的另一方面，清洁单元包括酸和碱溶液成分。尤其是，这也包括相应的盐。
60.根据本发明的另一方面，清洁单元包括第一蜡层。第一蜡层可用于保护清洁单元。尤其是，它可以封闭清洁组合物。这可以提供保护以防止清洁单元的意外溶解。
61.第一蜡层还可以用于分离清洁组合物的不同组分。尤其是，它可以用于将清洁单元的内部区域与清洁单元的外部区域分开。
62.尤其是，第一蜡层可以用来分离含有酸或其盐的区域和含有碱或其盐的区域。
63.根据另一方面，第一蜡层的熔点在50℃至90℃的范围内，尤其是在60℃至70℃的范围内或在80℃至90℃的范围内。
64.根据本发明的另一方面，清洁单元包括第一蜡层和第二蜡层。第一蜡层与第二蜡层分开。尤其是，第一蜡层可以形成外部蜡层。第二蜡层可以尤其形成用于分离清洁组合物的不同组分的内部蜡层。
65.根据本发明的另一方面，第二蜡层具有比第一蜡层更高的熔点。尤其是，第一蜡层的熔点可以与第二蜡层的熔点相差至少5℃，尤其是至少10℃，尤其是至少20℃。第一蜡层和第二蜡层也可以由相同的材料制成。尤其是，它们可以具有相同的熔点。尤其是，第一蜡层的熔点可与第二蜡层的熔点相差至多10℃，尤其是至多5℃。由于第一蜡层和第二蜡层的熔点不同，因此可以以简单的方式实现，在清洁过程的第一部分中，仅具有较低熔点的蜡层，尤其是外部蜡层熔化并因此释放清洁组合物的组分，尤其是溶液用碱。被具有较高熔点的第二蜡层，尤其是内部蜡层围绕的清洁组合物的第二组分，尤其是酸基组分，可以首先被第二蜡层包围并因此被保护以防止溶解，并且仅在第二蜡层熔化后在该过程的后期被溶解。
66.根据本发明的另一方面，清洁单元的第二蜡层被配置为完全布置在被第一蜡层围绕的区域内。尤其是，第二蜡层与第一蜡层间隔开。尤其是，第二蜡层可以与第一蜡层等距地布置。
67.根据本发明的另一方面，清洁单元的第一蜡层与第二蜡层同心地布置。
68.根据本发明的另一方面，清洁单元的第一蜡层包括一定比例的碱。根据本发明的另一方面，清洁单元的第二蜡层包括一定比例的酸。
69.根据本发明的另一方面，碱可以被布置在第二蜡层的外部和第一蜡层的内部。
70.作为蜡层的替代，还可以提供围绕清洁组合物的组分的其他保护性覆盖物。优选地，保护性覆盖物被设计为，使得在超过预定温度(例如其熔点)之前和/或在经过预定的处理持续时间之前，保护性覆盖物不释放被它们包围的清洁组合物的组分。
71.优选地，围绕清洁组合物的组分的覆盖物自身是水溶性的和/或可液化的。这有利于对烹饪空间的无残留清洁。根据替代方案，清洁单元可以具有不同的单独的子单元。尤其是，可以形成具有清洁组合物的基于碱的组分的第一子单元。尤其是，可以形成具有清洁组合物的基于酸的组分的第二子单元。通过给清洁单元的一个或所有部分组分的包围物提供完全围绕清洁组合物的部分组分的覆盖物，可以实现，当超过一定温度和/或经过预定的暴露时间后，仅释放，尤其是溶解清洁组合物的相应部分。以这种方式，可以以简单的方式影响，特别是控制清洁过程。
72.根据本发明的另一方面，清洁单元形成有反向容纳设备，使得清洁单元可以被布置在用于待烹饪的食物的承载件上，尤其是固定地布置在用于待烹饪的食物的承载件上。
73.清洁单元的设计的先前描述的方面形成了本发明的独立方面。它们可以独立于本发明的其他方面而具有优点。它们也可以与本发明的其他方面结合。
74.从以下基于附图的示例性实施例的描述中，本发明的其他优点、特征和细节将变得显而易见。
附图说明
75.图1示出了蒸汽炉形式的用于加热食物的烹饪装置的透视图，其具有用于可逆地插入到烹饪装置的烹饪空间中的清洁组合件，
76.图2示出了从斜上方看的图1中的清洁组合件的透视图，其具有附接到清洁组合件的清洁插件和清洁单元，
77.图3示出了从斜下方看的图1中的清洁组合件的透视图，其具有清洁插件和清洁单元，以及
78.图4示出了图1中的清洁单元的透视图，其中清洁单元被配置为具有腔室和布置在其中的清洁组合物的清洁盒。
具体实施方式
79.基于图1至图4，描述了一种用于加热待烹饪的食物的烹饪装置1，其具有可移动地布置在其中的清洁组合件2。烹饪装置1被配置为蒸汽烹饪炉，并且包括用于容纳待加热的食物的烹饪腔室3。烹饪腔室3界定烹饪空间4，并且包括用于装载和卸载待烹饪的食物的烹饪腔室开口5。烹饪腔室开口5可以借助烹饪腔室门6可逆地被关闭。
80.烹饪装置1包括用于控制烹饪过程的控制器件(未示出)和用于清洁烹饪空间4的方法。控制器件与用户界面7信号连接。用户界面7包括触敏屏幕，用于输入控制命令并且用于以视觉方式输出信息，尤其是关于烹饪和清洁过程的信息。烹饪腔室3包括两个侧壁8、底壁、后壁和顶壁。在每个侧壁8上，成对地彼此相对地布置有三个支撑轨道9。支撑轨道9配置成以支撑的方式容纳用于待烹饪的食物的承载件10。
81.可移动地布置在烹饪空间4中的清洁组合件2包括清洁插件11和附接到其上的清洁单元12。清洁插件11包括用于以可逆固定的方式容纳清洁单元12的容纳设备13和连接至容纳设备13上的支撑体14，支撑体用于将容纳设备13相对于烹饪空间4进行定位。
82.支撑体14包括用于待烹饪的食物的承载件10。用于待烹饪的食物的承载件10被配置为烘烤架。清洁插件11，尤其是支撑体14，具有用于定位容纳设备13的可调节脚15。可调节脚15优选地被配置成确保容纳设备13在距定位表面一定距离处的布置。因此，当清洁插件11放置在诸如厨房台面的存储区域上时，清洁单元12可以以特别简单的方式连接至清洁插件11。
83.用于待烹饪的食物的承载件10具有轨道接合部16，其用于将清洁插件11连接到支撑轨道9。用于待烹饪的食物的承载件10包括多个架杆17。架杆17配置成圆周的架框18。至少在截面上彼此平行定向的其他多个架杆17配置成用于支撑待烹饪的食物的定位表面19。架框18配置成轨道接合部16。
84.容纳设备13布置在清洁插件11的中心区域中，尤其是在用于待烹饪的食物的承载件10的中心区域中。尤其是，在俯视图中，容纳设备13的最小凸出包络线与清洁插件11的区域的几何中心重叠，尤其是与用于待烹饪的食物的承载件10的区域的几何中心重叠。替代地，容纳设备13可以相对于清洁插件11的中心区域，尤其是用于待烹饪的食物的承载件10的中心区域布置在偏心位置中。
85.容纳设备13由两个架杆17形成。这些架杆17配置成形状配合元件21，用于将清洁单元12形状配合地连接至支撑体14。
86.容纳设备13包括容纳开口22。容纳开口22在垂直于定位表面19的方向上穿透用于待烹饪的食物的承载件10。容纳开口22由配置成形状配合元件21的架杆17界定。在俯视图中，尤其是在垂直于定位表面19的俯视图中，容纳开口22被配置为圆形，两个腿部23联结到该圆形上。腿部23在彼此平行的方向上定向。关于容纳开口22的圆形部分24，两个腿部23径向地且直径上彼此相对地延伸。为此，配置成形状配合元件21的架杆17分别包括中心的、圆弧形的杆部分25和从其延伸并彼此平行的两个笔直的杆部分26。被配置为形状配合元件21的架杆17在同一平面内，尤其是在平行于定位表面19的平面内延伸。
87.容纳开口22的圆形部分24的直径优选在20mm至100mm的范围内，尤其是在25mm至80mm的范围内，尤其是在30mm至60mm的范围内，尤其是在40mm至50mm的范围内。优选地，直径d是45mm。腿部23的宽度b为18mm。宽度b由配置成容纳设备13的两个架杆17之间的笔直的、相互平行的杆部分26的距离确定。
88.清洁单元12附接到容纳设备13。清洁单元12包括其中布置有清洁组合物28、29的腔室27。清洁组合物包括第一清洁成分28和第二清洁成分29。清洁组合物的两种成分28、29被布置在腔室27中，两种成分通过第二密封层30彼此分开。腔室27具有分配开口31，清洁组合物28、29经由该分配开口可以被分配到烹饪空间4中。第一密封层32布置在分配开口31与清洁组合物28、29之间。密封层32优选地位于抵接箍37的水平处。密封层32的主延伸平面优选垂直于清洁单元12的旋转轴线36布置。借助于第一密封层32，清洁组合物28、29以防丢失的方式被封闭在腔室27中。
89.腔室27由塑料，尤其是聚丙烯制成。第一成分28包括碳酸钠。第二成分29包括柠檬酸。两种清洁成分28、29均以细颗粒的形式存在。
90.密封层30，32包括可熔材料。第一密封层32由融化温度为60℃的蜡构成。第二密封层30由融化温度为90℃的蜡组成。
91.清洁单元12包括用于将清洁单元12可逆地固定到清洁插件11的反向容纳设备33。反向容纳设备33具有两个反向形状配合锁定元件34，用于形状配合地连接到清洁插件11的形状配合元件21。反向形状配合锁定元件34配置为从清洁单元12的其它圆柱形连接部分35径向突出的突出部。布置在圆柱形连接部分35上的抵接箍(abutment collar)37配置为关于清洁单元12的旋转轴线36旋转对称。在反向形状配合锁定元件34和抵接箍37之间配置有旋转接合部38。旋转接合部38配置成在抵接箍37和反向形状配合锁定元件34之间沿着旋转轴线36而旋转对称的底切部(undercut)。
92.反向容纳设备33，尤其是反向形状配合锁定元件34，集成地连接至腔室27，尤其以材料结合的方式连接至腔室27。反向容纳设备33和腔室27是在注塑过程中制造的，尤其是在单个工艺步骤中制造的。清洁单元12的反向形状配合锁定元件34的宽度b为16mm，并且因此小于清洁插件11的腿部23的宽度b，尤其是小于容纳设备13的腿部23的宽度b。
93.在图2和图3中，清洁组合件2以敞开位置示出。容纳设备33布置在容纳开口22中。尤其是，圆柱形连接部分35穿透容纳开口22。
94.旋转轴线36垂直定向。清洁单元12经由抵接箍37搁置在被配置为形状配合元件21的架杆17的圆弧形杆部分25上。反向形状配合锁定元件34在垂直方向上布置在形状配合元件21下方。清洁单元12布置在容纳设备13上，以便可绕旋转轴线36旋转。清洁单元12可绕旋转轴线36枢转，以将清洁组合件2移动到未示出的锁定位置中。在锁定位置中，清洁单元12
的反向形状配合锁定元件34形状配合地接合在清洁插件11的形状配合设备21的后面，并且分配开口31布置在腔室27的下侧。
95.烹饪装置1和清洁组合件2(具有清洁插件11和清洁单元12)的工作原理如下：
96.烹饪装置1用于加热布置在烹饪空间4中的食物。用户可以通过经由用户界面7的输入来控制烹饪过程。尤其是，连接至用户界面7的控制器件调节在烹饪空间4中普遍存在的烹饪温度。在烹饪过程中，烹饪腔室3和用于待烹饪的食物的承载件10逐渐被淤积物弄脏，这些淤积物例如是由于待烹饪的食物的蒸发或飞溅或溢出成分而产生的。为了烹饪装置1的卫生操作，必须定期移除这些淤积物。为此，执行以下描述的用于清洁烹饪腔室3的程序：
97.提供了清洁插件11和清洁单元12。第一密封层32封闭腔室27中布置有清洁组合物28、29的区域。
98.清洁单元12附接到清洁插件11。为此，圆柱形连接部分35插入到容纳开口22中。抵接箍37接触弧形杆部分25。反向形状配合锁定元件34指向笔直的杆部分26的纵向延伸方向。清洁组合件2处于打开位置。
99.清洁单元12绕旋转轴线36旋转90
°
。反向形状配合锁定元件34接合在以圆弧形杆部分25的形式存在的形状配合设备21的后面。清洁单元12固定在清洁插件11上。尤其是，清洁单元12相对于清洁插件11在平移方面完全固定。清洁组合件2处于锁定位置。
100.清洁组合件2被插入到烹饪空间4中。尤其是，清洁组合件2借助两个支撑轨道接合部16附接到烹饪装置1的支撑轨道9上。优选地，将清洁组合件2紧固到在垂直方向上处于中心的支撑轨道9上。这确保了清洁单元12基本上布置在烹饪空间4的中心。替代地，清洁单元12也可以放置在已经插入到烹饪空间4中的清洁插件11中。
101.烹饪腔室门6关闭。用户经由用户界面7选择清洁程序。清洁程序由控制器件执行。
102.在预清洗阶段，将烹饪空间4加热到50℃的预清洗温度t
v
。水经由未示出的入口被排放到烹饪空间4中。尤其是，水被分配到再循环空气风扇的风扇轮上。借助于未示出的风扇马达驱动风扇轮旋转，并且分配到风扇轮的水因此特别均匀地分布在烹饪空间4中。
103.由此，全部污染物从烹饪腔室3中和从用于待烹饪的食物的承载件10中脱落。脏水被收集在烹饪腔室3的底壁上，并经由排水开口39从烹饪空间4排出。用于处理和输送液体和气体的流体系统(未示出)连接到排水开口39。清洗水经由烹饪空间4外部的管线(管线是流体系统的组件)多次循环通过烹饪空间4。然后将被污染的清洗水抽出，从而终止预清洗阶段。
104.在清洗阶段中，将烹饪空间4加热至65℃。第一密封层32熔化。清洁组合物的第一清洁成分28因此被释放并且借助重力通过分配开口31从清洁单元12中掉出。淡水被排放到再循环空气风扇的旋转风扇轮上并扩散到烹饪空间4中。第一成分28溶解在淡水中。第一成分28与淡水一起形成清洁液。清洁液进入排水开口39，并且然后多次循环通过烹饪空间4。这样一来，即使是顽固的淤积物，也从烹饪腔室3中和从用于待烹饪的食物的承载件10中脱落。被污染的清洁液最终被抽出。
105.在随后中间的清洗阶段中，用淡水冲洗烹饪空间4。结果，仍然保持在烹饪空间4中的清洁组合物28、29的残留物，尤其是清洁液，被完全从烹饪装置1中，尤其是从烹饪空间4中冲洗掉。由此，可靠地避免了对随后的清洗阶段产生不利影响，尤其是由于可能对ph值造
成不利影响的残留物而对随后的清洗阶段产生不利影响。尤其是，防止了碱性清洁液削弱随后被引入到烹饪空间4中的酸性除垢溶液的除垢效果。为此，将淡水分配到旋转风扇轮上并分布在烹饪空间4中。淡水经由风扇轮多次循环通过烹饪空间4，尤其是通过排水开口39。淡水被抽出。重复此过程3次。中间的清洗阶段完成。
106.在随后的脱钙阶段中，将烹饪空间4加热至95
°
的脱钙温度t
e
。包围清洁组合物的第二成分29和腔室27的第二密封层30熔化。第二成分29借助重力通过分配开口31从清洁单元12中掉出。淡水经由旋转的风扇轮被分配到烹饪空间4中。淡水与第二成分29混合并形成除垢溶液。除垢溶液被引导到排水开口39，并且在烹饪空间4上多次循环，尤其是被引导通过排水开口39，并经由旋转风扇轮。在烹饪腔室3、用于待烹饪的食物的承载件10上的以及排水开口39下游的流体系统中的石灰淤积物被溶解。钙质液体经由排水开口39被抽出。脱钙阶段完成。
107.启动后清洗阶段。后清洗阶段对应于中间的清洗阶段。结果，清洁组合物28、29的残留物，尤其是除垢溶液的残留物被完全从烹饪装置1，尤其是烹饪空间4中冲洗掉。后清洗阶段完成后，清洗过程结束。
108.将清洁组合件2从烹饪空间4中移除。清洁单元12相对于旋转轴线36旋转90
°
。移除了容纳设备13和反向容纳设备33之间的形状配合。可以将清洁单元12从清洁插件11中移除。
109.清洁插件11可以用作用于承载待烹饪的食物的常规烘烤架。
110.清洁插件11(具有用于以可逆固定的方式容纳清洁单元12的容纳设备13)的设计可靠地确保了清洁单元12可以布置在烹饪空间4内的预定中心或偏心位置处。因此，以可靠的方式确保了将清洁成功所需的清洁组合物28、29分布在烹饪空间4中。尤其是，确保了清洁组合物28、29可以从清洁单元12，尤其是从腔室27中被完全排出，并进入清洗过程。通过将清洁单元12配置成具有腔室27和反向容纳设备33，清洁单元12可以可靠地连接到清洁插件11上，从而不会丢失。可以避免清洁单元12在清洁过程中在烹饪空间4内移位，尤其是由于冷却空气或液体的循环而移位。清洁组合物28、29的分配以特别可靠的方式进行，从而使清洁过程鲁棒且高效。