1.一种易清洗锅具，包括锅体，其特征在于，所述锅体内表面通过pvd工艺形成有具有凹凸结构的防粘层，所述凹凸结构包括穿透防粘层延伸至锅体内表面的凹槽、由金属材质形成于锅体内表面的凸起，所述凹槽为呈阵列分布的独立凹槽或在锅体内表面蔓延形成的连通凹槽；或者所述凹凸结构设于防粘层远离锅体一侧的表面；其中，所述凹槽的面积总和与锅体内表面的面积的比值为30％至80％。
2.根据权利要求1所述的易清洗锅具，其特征在于，所述凹槽的槽底与凹槽的顶部之间的高度差为0.5μm至3.5μm。
3.根据权利要求1所述的易清洗锅具，其特征在于，所述凹槽为呈阵列分布的独立凹槽，所述独立凹槽的半径为0.1mm至0.5mm。
4.根据权利要求1所述的易清洗锅具，其特征在于，所述凹槽为在锅体内表面蔓延形成的连通凹槽，所述连通凹槽呈网状分布。
5.根据权利要求4所述的易清洗锅具，其特征在于，所述凸起的直径为0.55mm至3.35mm。
6.根据权利要求1所述的易清洗锅具，其特征在于，所述凸起的顶面为平面。
7.根据权利要求1所述的易清洗锅具，其特征在于，所述凹凸结构设于防粘层远离锅体一侧的表面，所述防粘层靠近锅体一侧的表面具有第二凹凸结构，所述第二凹凸结构为由形成防粘层的部分金属颗粒嵌入到锅体内表面形成的。
8.根据权利要求1所述的易清洗锅具，其特征在于，所述防粘层远离锅体的至少一部分表面具有氮化层。
9.根据权利要求8所述的易清洗锅具，其特征在于，所述氮化层的表面粗糙度为ras，s的取值范围为0.1μm≤s≤12.5μm。
10.根据权利要求1所述的易清洗锅具，其特征在于，所述锅体包括锅体底壁和锅体侧壁，所述防粘层的厚度自所述锅体底壁的中心区域向所述锅体侧壁的上边缘位置逐渐减小。