用于对研磨咖啡区进行研磨和清洁的设备、咖啡机及相应方法

文档序号:9220638阅读:218来源:国知局
用于对研磨咖啡区进行研磨和清洁的设备、咖啡机及相应方法
【专利说明】用于对研磨咖啡区进行研磨和清洁的设备、咖啡机及相应方法
1.发明领域
[0001]本发明涉及用于对颗粒,在它们被以磨肩的形式使用之前,进行研磨,以及在研磨之后清洁研磨咖啡区的设备的领域。待研磨的颗粒是咖啡、可可、谷类等。此外,本发明的目的是装配有这种设备的用于制备饮品的机器及相应方法。
2.现有技术
[0002]用于对咖啡机中研磨咖啡区进行研磨和清洁的设备在现有技术中是已知的。这些设备主要是被设计用来从颗粒中提供必需量的将被液体浸泡的磨肩。这类设备包括:主体,其包括接收所述颗粒的研磨室和研磨咖啡排出口 ;研磨机,其设置在用于研磨颗粒的研磨室中;以及配液设备,其用于将所述液体分配到浸泡室。
[0003]然而,由这些类型的设备提出的问题是谷粒的研磨使被研磨的咖啡被充以静电。在包括出口区的研磨咖啡区,这种现象引起了研磨膜在所述研磨机出口处,尤其是在磨轮的壁、用于转移被研磨咖啡的导管等上面的形成。出口区被理解为所述磨轮的外周界的至少一部分。所述用于分配液体的设备一般以浸泡室的方向引导液流,以浸泡到达所述浸泡室的被研磨咖啡。所述液流只对已经沉积在分配液流的孔的外围的研磨咖啡进行清洁。而且,只是在对更多量的研磨咖啡进行研磨的新的过程期间才携带有粘附于所述磨轮的壁及其外围的研磨咖啡膜,这使得味道发生了改变,而且降低了浸泡饮品的品质。这种设备例如从文献US3812773中是已知的。
[0004]3.发明目的
[0005]本发明的目的特别是为了克服现有技术中的全部或者部分缺陷。
[0006]更特别地,本发明的目的是为了通过直接落入过滤器的方式减少,或者甚至防止被充以静电的研磨咖啡在所述研磨室的下游的积聚。
[0007]为了特别是在味道方面,并且特别是对于咖啡而言,获得品质更佳的饮品,本发明的另一个目的是为了提供一种配备有用于对研磨咖啡区进行研磨和清洁的设备的咖啡机。
[0008]本发明的另一个目的是提出一种简单且廉价的解决方案。
4.

【发明内容】

[0009]这些目的的达到是由于一种用于对咖啡机中的研磨咖啡区进行研磨和清洁的设备,其包括浸泡室,所述设备用于被置于所述浸泡室上方,所述设备包括:
[0010]-主体,其包括接收待研磨颗粒的研磨室和研磨咖啡排出口;
[0011]-研磨机,其设置在用于研磨所述颗粒的研磨室中;
[0012]-配液设备,其朝着所述浸泡室分配液体且包括至少一个液体供应孔。
[0013]本发明的特征在于,在所述研磨机的外周界的至少一部分的方向上,所述液体供应孔被定向为朝着所述研磨咖啡排出口,以将液流分配到排出口。
[0014]因此,由于本发明,所述研磨机的排出口被清洁,防止了带静电的研磨咖啡在研磨机的出口处积聚并阻塞所述研磨机。这同样防止了在第二次使用磨轮时获得的饮品被研磨咖啡残渣所污染,防止研磨咖啡残渣与“新鲜的”研磨咖啡混合。由此获得了改进味道的饮品O
[0015]优先地,所述液体供应孔可被设置在所述配液设备的内壁上,以朝着所述研磨机的外周界的至少一部分引导液体的流动。
[0016]根据有利的特征,已经证明的是:内壁基本垂直地向下延伸,以限定研磨咖啡排出室,且所述液体供应孔被设置成用于将液流朝着该内壁的至少一部分引导。用这种方式,获得的研磨咖啡被集中和朝着浸泡室的中心引导,特别地进入所述过滤器中。
[0017]在有利的方式中,提供了:所述研磨机包括固定磨轮和活动磨轮,所述活动磨轮被驱动轴沿着基本垂直的旋转轴被旋转驱动,并被设置为正对所述固定引导轮,所述活动和固定磨轮被放置成限定研磨咖啡的流动部分。这种结构允许调整所述研磨咖啡的粒度测定并允许将研磨咖啡从所述研磨室中排出。
[0018]为了允许液流朝着所述研磨机的外周界的良好分布,所述分配设备包括被置于至少围绕所述磨轮的外周界的一部分处的管状部分。
[0019]由于相同的目的,所述配液设备可以包括若干个沿着所述内壁的周界径向分布的液体供应孔。
[0020]根据重要的特征,提供了:研磨咖啡的流动部分具有沿着相对于各个液体供应孔的轴偏心的轴定向的研磨咖啡出口。用这种方式,分布在所述磨轮的外周界上的液体不进入所述部分,防止在所述磨轮内凝结。
[0021]根据优选的实施例,所述活动磨轮是圆锥形或锥形形状的且被设置在所述固定磨轮内。所述圆锥形或锥形磨轮的结构允许将研磨咖啡更好地朝着所述浸泡室释放。
[0022]根据另一个实施例,所述活动和固定磨轮可以是碟形的。在这种相关的情况下,研磨咖啡被喷射到所述研磨室的壁上,减少了在所述磨轮的周界上的残渣的积聚。在这个当前的实施例中,所述液体供应孔被定位在所述磨轮上方,以允许液体沿着设置在所述研磨机和所述分配设备之间的通道流动,并防止液体穿过研磨咖啡的流动部分的内部。
[0023]为了进一步减少静电现象,所述研磨机的磨轮可以由陶瓷制成。
[0024]本发明还涉及一种咖啡机,包括:
[0025]-料斗,具有用于接收咖啡颗粒的开口和用于朝着包括上述特征的研磨和清洁设备排出咖啡颗粒的开口。
[0026]-浸泡室,与所述研磨室的研磨咖啡排出口连通且接收研磨咖啡和带有研磨咖啡残渣的液体,所述排出口被设置在所述浸泡室上方,以将研磨咖啡直接传递到所述浸泡室中,并消除阻塞的风险;
[0027]-用于加热液体的单元,与用于向所述配液设备提供液体的储槽连通,以及
[0028]-马达,连接至所述活动磨轮的驱动轴。
[0029]根据特别的特征,所述驱动轴不驱动所述浸泡室。本发明还涉及一种研磨和清洁机器中的研磨咖啡区的方法。根据该方法:
[0030]-在研磨室中研磨咖啡颗粒,以获得研磨咖啡;
[0031]-将研磨咖啡传送到浸泡室中,以及
[0032]-将供给所述配液设备的水在所述磨轮的外周界的至少一部分之上分布成水流,以带走研磨咖啡残澄。
[0033]根据本方法的实施,带走研磨咖啡残渣的水朝着所述浸泡室引导,以浸泡其中的研磨咖啡。
5.
【附图说明】
[0034]参照附图,从下面的描述中,以指示的方式而绝不是限定的方式提供的其他创新性特征和优势将变得显而易见,其中:
[0035]-图1是根据本发明的咖啡机的纵断面视图;
[0036]-图2是根据一种用于对研磨咖啡区进行研磨和清洁的图1的详细视图;
[0037]-图3和8是研磨和清洁设备的纵断面和详细视图;
[0038]-图4表示所述研磨和清洁设备的第二实施例;
[0039]-图5说明了根据本发明的配液设备;
[0040]-图6表示所述研磨和清洁设备的另一个实施例;以及,
[0041]-图7是所述研磨和清洁设备在清洁之后的一部分的底视图。
6.
【具体实施方式】
[0042]图1说明了用于制备饮品的机器。对于这个例子,它包括配备有根据本发明的用于自动研磨咖啡、可可、谷类颗粒等并清洁研磨咖啡区的设备2的咖啡机I。所述咖啡机I包括基座3,其上可以放置适于包含浸泡的饮品的咖啡壶4。所述基座3还在相对于所述基座3的立柱41内包括单元5(热块或者热水器或者双管加热元件),用于加热与由所述立柱41支撑的液体储槽6连通的液体。所述咖啡机I包括允许保存待研磨的咖啡颗粒的料斗7。所述料斗7具有用于接收的开口 8和用于将咖啡颗粒朝着在本说明书中稍后描述的研磨和清洁设备2排出的开口 9。所述料斗7置于所述咖啡机I的上部。可以提供用于关闭所述料斗7的盖子10。
[0043]所述咖啡机I进一步包括由过滤器夹12形成的浸泡室11,所述过滤器夹在上部开口且包括用于朝着所述咖啡壶4的浸泡出口。所述过滤器夹12用于以已知的方式接收呈圆锥形状的纸滤器(未示出),研磨咖啡被接收和包含于其中。所述咖啡机可以与永久过滤器并还与平面过滤器(纸质且永久的)一起操作。所述过滤器夹12可以相对于所述机器I的结构的支架33而被枢转地安装。
[0044]根据图2、3、4、6和8说明的实例,所述研磨和清洁设备2设置在固定于所述机器I的结构的底座13中。在所述底座13中安装了马达14,其自身设置在由第一上部34a和第二下部34b构成的壳体34中。所述马达14连接至驱动轴19,所述驱动轴在所述底座13中基本垂直地延伸并沿着轴Σ旋转。由图1和8可以理解的是所述驱动轴19不驱动所述浸泡室11 (所述过滤器夹12)。所述马达14是用齿轮传动马达35的一部分且优选地是电的。所述底座13和所述壳体34之间提供了中空的环形密封圈36,用于防止在机器运转期间传播振动。所述密封圈36有利地由弹性体制成。
[0045]所述研磨和清洁设备2包括主体15,所述主体包括用于从所述料斗7接收待研磨的颗粒的研磨室16以及用于获得的研磨咖啡的排出口 17。所述研磨咖啡的获得是由于被置于所述研磨室16中用于研磨所述颗粒的研磨机18,所述研磨机18由所述驱动轴19移动。所述研磨机包括固定磨轮20和活动磨轮21。活动磨轮被所述驱动轴经由所述马达14沿着与旋转轴X以及被齿轮传动马达单元35旋转驱动。所述活动磨轮21被设置为正对所述固定磨轮20。所述活动磨轮21和固定磨轮20被放置成限定研磨咖啡的流动部分22。所述磨轮20,21可由任何类型的材料制成,且优选地由陶瓷制成。
[0046]在底座13中进一步设置了将液体朝着所述浸泡室11分配的配液设备23。优选地,所述配液设备23由所述液体储槽6经由泵(未示出)提供。整个底座13覆盖所述储槽6的上部和所述过滤器夹12,并通过任何适当的固定装置被固定在后者上。如图1和8所示,排出口 17位于所述浸泡室11上方。
[0047]所述配液设备23以连接到所述储槽6的导管24或者管道,以及被置于与所述研磨机18相邻的管状部分25的形式出现。所述导管24和所述管状部分25被安装在所述底座13的下部中。所述分配设备23包括至少一个朝着所述研磨室16的排出口 17定向的液体供应孔26。该孔26未被远离所述研磨机放置,以便于液流到达该排出口 17上,以对其进行清洁。所述液体供应孔26被特别地,设置在所述配液设备23的内壁27上,以将液流朝着所述研磨机18的外周界(壁)32的至少一部分引导。液流被朝着所述磨轮径向地引导。
[0048]更特别地,所述管状部分25包括被转向为正对所述研磨机18的外周界的一部分的内壁27。在优选的方式中,并如在图5上可以详细看到的那样,所述内壁27基本垂直地向下延伸,诸如裙部或颈部40。该颈部40限定了从而包括所述排出口、所述分配设
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