一种经济高效的凹印版辊清洗装置的制作方法

本实用新型属于印刷辊技术领域，尤其涉及一种经济高效的凹印版辊清洗装置。

背景技术：

凹版印刷作为印刷工艺的一种，以其印制品墨层厚实、颜色鲜艳、饱和度高、印版耐印率高、印品质量稳定、印刷速度快等优点，在印刷包装及图文出版领域内占据重要的地位。凹版印刷使用凹印版辊进行滚动印刷，凹印版辊是印刷辊的一种，是凹版印刷工艺的核心部件之一。

凹印版辊在使用许久后，沾染墨和尘埃，需要清洗。现有的清洗装置用清洗剂清洗，清洗剂大量使用利用率不高，清洗成本增加。虽然超声波可以明显改善清洗的效率，高压水的喷射清洗也能收到良好的效果，但用水量较大，造成资源浪费。因此，需要改进清洗的方式和介质介入方式，以节省清洗介质的消耗。

为此，一种全新构思的清洗方式和设备的开发，是目前的一项非常重要的任务。

技术实现要素：

实用新型目的：为了克服以上问题，本实用新型的目的是提供一种经济高效的凹印版辊清洗装置。

技术方案：本实用新型所述的一种经济高效的凹印版辊清洗装置，包括机架、清洗装置，所述机架包括底座和底座之上两侧设有的支撑柱，底座上部周围、支撑柱之间和上方设置罩壳，罩壳内形成清洗腔；

所述支撑柱内侧分布有一对上端凹陷的放置架，用于放置凹印版辊，支撑柱侧开有手孔，所述清洗装置位于凹印版辊的辊体内腔外，包括穿过手孔正对凹印版辊的清洗管，所述清洗管包括混合腔、喷头、喷雾支管和气流支管，所述混合腔首端安装喷头，喷头开有喷射方向各异的喷射口，混合腔尾端连接作为支线并合的喷雾支管和气流支管，所述喷雾支管尾端以管道连接喷雾装置，喷雾装置尾端管线通入清洗液，所述气流支管尾端依次连接增压风机、气源。

作为优选，所述气源为氮气或惰性气体。

作为优选，所述混合腔内具有沿着流体流动方向的两边宽、中间窄的文丘里流道。

进一步，所述文丘里流道的中间附近设置有孔板。

作为优选，所述清洗装置在凹印版辊的辊体内腔外两侧分别设置一个。

作为优选，所述喷雾装置尾端管线设置有伴热管路。

作为优选，所述喷头呈椭圆形，其开有的喷射口直径在1.5-5mm，喷射口的方向集合呈最大角度在90～150°。

上述技术方案可以看出，本实用新型具有如下有益效果：本实用新型操作简便，资源节约。支撑架、放置架的布局合理；相对封闭式的结构可减少清洗物料逃逸；手孔的设置使清洗装置的介入自然、方便；清洗装置的清洗管，混合腔、喷头和两支管的设置，以及一者通雾化的清洗液，一者通惰性气体，能够混合产生很大的压力和冲击力，雾化的清洗液体溶解能力更强，配合气体增加的大压力，清洗迅速完成，且彻底。本实用新型的雾化和气体增压联合的方式大大减少了直接喷射的清洗液消耗量，且清洗高效彻底，清洗成本大大降低。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图，图2是本实用新型清洗管的结构示意图。

图中：1-机架，10-清洗腔，11-底座，12-支撑柱，121-手孔，13-罩壳，14-放置架，2-清洗装置，20-清洗管，21-混合腔，211-文丘里流道，212-孔板，22-喷头，221-喷射口，23-喷雾支管，24-气流支管，3-喷雾装置，4-增压风机，5-伴热管路，6-气源，7-凹印版辊，8-排液槽。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例，进一步阐明本实用新型。

实施例1

如图1～2所示，包括机架1、清洗装置2，所述机架1包括底座11和底座11之上两侧设有的支撑柱12，底座11上部周围、支撑柱12之间和上方设置罩壳13，罩壳13内形成清洗腔10，底座11设置有排液槽8，导出清洗后残液；

所述支撑柱12内侧分布有一对上端凹陷的放置架14，用于放置凹印版辊7，支撑柱12侧开有手孔121，所述清洗装置2在凹印版辊7的辊体内腔外两侧分别分布一个，包括穿过手孔121正对凹印版辊7的清洗管20和连接清洗管20的支线；

所述清洗管20包括混合腔21、喷头22、喷雾支管23和气流支管24，所述混合腔21首端安装喷头22，所述喷头22呈椭圆形，喷头22开有喷射方向各异的喷射口221，喷射口221直径在1.5-5mm，喷射口221的方向集合所呈最大角度在90～150°；所述混合腔21内具有沿着流体流动方向的两边宽、中间窄的文丘里流道211，所述文丘里流道211的中间附近设置有孔板212；混合腔21尾端连接作为支线并合的喷雾支管23和气流支管24，所述喷雾支管23尾端以管道连接喷雾装置3，喷雾装置3尾端管线通入清洗液，喷雾装置3尾端管线设置有伴热管路5，所述气流支管24尾端依次连接增压风机4、气源6，所述气源6为氮气或惰性气体的压力瓶，出增压风机4的气体压力在0.5～1.5MPa，出喷射口211的雾化清洗液和空气的混合流体的流量在10-75ml/s。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进，这些改进也应视为本实用新型的保护范围。