烫印膜的制作方法

本实用新型涉及一种烫印膜。

背景技术：

激光全息防伪图案由于技术含量高、制备工艺复杂和具备特殊的光学效果，成为了目前较为常用的防伪技术手段之一。在实际应用中，通常将激光全息电化铝膜与烫印技术相结合，通过背胶层烫印在包装对象上；烫印完成后，再通过剥离譬如聚酯的基材层和离型层等多层结构，同时使得激光全息图案层保留在包装对象上；该全息防伪图案可用于展现公司的logo等品牌图案，同时通过图案中同位异像、微缩、透镜、动态等全息效果来实现防伪效果。

中国专利cn201020611285公开了一种全息防伪烫印膜，其将印刷与全息防伪结合的烫印膜，其油墨印刷层位于信息记录层与介质层之间。此种做法印刷层会破坏掉全息的部分，因此局限于局部印刷，需要全息镭射效果和印刷配合设计合理。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种烫印膜，其将油墨层设置在透明介质层之后，不会破坏信息层中的微纳结构，即镭射效果，因此镭射效果的设置没有局限性。

为达到上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种烫印膜，包括自上而下依次设置的基膜层、离型层、信息层、透明介质层以及热熔胶层，在所述透明介质层和热熔胶层之间还设有油墨层。

进一步地，所述信息层上设有用以形成镭射区域的微纳结构。

进一步地，所述镭射区域包括局部镭射区域。

进一步地，所述镭射区域包括通版镭射区域。

进一步地，所述镭射区域包括局部镭射区域和通版镭射区域。

进一步地，所述基膜层的厚度为10～100μm。

进一步地，所述信息层的厚度为0.1～20μm。

进一步地，所述透明介质层选自硫化锌、二氧化钛或氟化镁中的一种。

进一步地，所述透明介质层的厚度为30～40nm。

进一步地，所述基膜层为薄膜结构，所述基膜层为pet膜层。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果在于：

1.本实用新型的烫印膜将油墨层设置在透明介质层之后，不会破坏信息层中的微纳结构，即镭射效果，因此镭射效果的设置没有局限性。

2.在信息层上设置局部镭射区域和通版镭射区域，既能实现有效防伪，又能使局部镭射效果突出，具有较强表现力和设计多样性。

上述说明仅是本实用新型技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本实用新型的较佳实施例并配合附图详细说明如后。

附图说明

图1为本实用新型一实施例所示的烫印膜的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。

需要说明的是：本实用新型的“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”等用语只是参考附图对本实用新型进行说明，不作为限定用语。

请参见图1，本实用新型一实施例所示的烫印膜包括自上而下依次设置的基膜层1、离型层2、信息层3、透明介质层4以及热熔胶层6，在透明介质层4和热熔胶层6之间还设有油墨层5，且信息层3上压印有用以形成镭射区域(未图示)的微纳结构31，从而提供镭射效果。在本实施例中，该镭射区域包括重点突出的局部镭射区域，以及具有满版的通版镭射区域，使得其油墨色彩清晰明丽，能实现有效防伪，具有较佳表现力和设计多样性；诚然，在其他实施例中，还可以仅设置局部重点突出镭射，或者，仅设置通版镭射来达到目的。

在本实施例中，该透明介质层4为硫化锌，诚然，在其他实施例中，还可以为二氧化钛、氟化镁等透明材料。基膜层1优选的为pet膜层。

在本实施例中，基膜层1的厚度为50μm，信息层3的厚度为10μm，透明介质层4的厚度为30nm，诚然，在其他实施例中，基膜层1、信息层3和透明介质层4的厚度可根据实际情况进行选择，优选的，基膜层1的厚度为10～100μm，信息层3的厚度为0.1～20μm，透明介质层4的厚度为30～40nm。

综上所述：本实用新型的烫印膜将油墨层设置在透明介质层之后，不会破坏信息层中的微纳结构，即镭射效果，因此镭射效果的设置没有局限性。并且，在信息层上设置局部镭射区域和通版镭射区域，既能实现有效防伪，又能使局部镭射效果突出，具有较强表现力和设计多样性。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。