热转印膜及使用其制备的有机电致发光装置的制造方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种热转印膜及使用其制备的有机电致发光装置。
【背景技术】
[0002] 热转印膜可在图案形成后使用作为供体膜（donor film)。所述热转印膜包括光热 转换层，其是堆叠在基础膜上。包含有机电致发光材料及其类似物的转印层是堆叠在所述 光热转换层上。再者，可在所述光热转换层与转印层间形成中间层。
[0003] 当所述光热转换层是以在吸收波长范围内的光照射时，所述转印层可通过所述光 热转换层转印至像素界定层（PDL，Pixel Define Layer)及其类似物。也就是说，所述光热 转换层吸收特定波长的光，及将至少一部分的入射光转换成热。在此，所产生的热热膨胀所 述光热转换层，因此允许所述转印层是转印至用于0LED的基材的TOL。但是，依所述光热转 换层或中间层的热膨胀而定，所述转印层可无法充分地转印至所述TOL的末端部分，因此 造成转印失败。
【发明内容】
[0004] 技术问题
[0005] 本发明的一个态样是提供一种使转印层可均匀地转印的热转印膜。
[0006] 本发明的另一个态样是提供一种使所述转印层充分地转印于所述roL的末端部 分，藉此导致在整个roL中均匀热转移的热转印膜。
[0007] 技术方案
[0008] 根据本发明的一个态样，热转印膜可包括基础膜；及在所述基础膜上形成的最外 层，其中所述最外层具有厚度改变比例约0. 5%或更多，如根据方程式1计算：
[0009] 〈方程式1>
[0010] 厚度改变比例（％ ) = (T2-T1)/T1X100
[0011](在方程式1中，T1及T2是与在下列详细说明中所定义的相同）。
[0012] 根据本发明的另一个态样，使用所述热转印膜作为用于激光转印的供体膜来制备 有机电致发光装置。
[0013] 有益效果
[0014] 本发明提供一种热转印膜，使转印层可均匀地转印。
[0015] 本发明提供一种热转印膜，使所述转印层充分地转印于所述roL的末端部分，藉 此导致在整个roL中均匀热转移。
【附图说明】
[0016] 图1是根据本发明的一个具体实例的热转印膜的截面图；
[0017] 图2是根据本发明的另一个具体实例的热转印膜的截面图。
【具体实施方式】
[0018] 现在，将参照附图详细地描述本发明的具体实例。应该要了解的是，本发明不限于 下列具体实例及可以不同方式具体化，及提供该等具体实例以提供熟习该项技术者完全了 解本发明。为了清楚起见，将省略不相关的构件的描述。遍及本专利说明书，类似构件将由 类似的参考数字指示出。
[0019] 如于本文中所使用，用语诸如"上边"及"下边"是参照附图而定义。因此，将要了 解的是，用语"上边"可与用语"下边"互换地使用，用语"下边"可与用语"上边"互换地使 用。将要了解的是，当元件诸如层、膜、区域或基材是指为放置"在（on)"另一个元件"上 (on) "时，其可直接放置在其它元件上，或也可存在插入层。另一方面，当元件是指为"直接 放置在（directlyon)"另一个元件"上"时，其不存在有插入层。用语"（甲基）丙烯酸酯" 可指为丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯。
[0020] 如于本文中所使用，"厚度改变比例"可以下列方法计算。在测量热转印膜样品（尺 寸：宽度X长度，1公分X 1公分）的最外层的起始厚度（T1)后，当所述热转印膜样品是 以5°C /分钟的速率从起始温度25°C加热至最后温度170°C时，测量热转印膜由于温度从 25°C增加至170°C的厚度改变，接着测量所述最外层的最大厚度（T2)，因此根据方程式1来 计算厚度改变比例。在此，当所述热转印膜包括基础膜及在所述基础膜上形成的光热转换 层时，所述最外层是所述光热转换层；及当所述热转印膜包括基础膜、在所述基础膜上形成 的光热转换层及在所述光热转换层上形成的中间层时，所述最外层是所述中间层：
[0021] 〈方程式1>
[0022] 厚度改变比例（％ ) = (T2-T1)/T1X100
[0023] 根据本发明的具体实例，热转印膜包括：基础膜；及在所述基础膜上形成的最外 层，其中所述最外层具有厚度改变比例约〇. 5%或更多，特别是约1. 0%至约3. 0%，例如约 1. 0,1. 1，1. 2,1. 3,1. 4,1. 5,1. 6,1. 7,1. 8,1. 9, 2. 0, 2. 1，2. 2,2. 3,2. 4, 2. 5,2. 6,2. 7,2. 8， 2. 9或3. 0%。若所述厚度改变比例是少于0. 5%时，所述转印层会不均匀地转印，及所述转 印层应所述均勾地转印至其的像素定义层（PDL，Pixel Define Layer)可遭遇到撕裂、缺陷 或其类似情况。
[0024] 所述最外层具有热膨胀系数约100微米/公尺? °C或更大，较佳为约100微米/公 尺? °C至约400微米/公尺? °C，更佳为约200微米/公尺? °C至约350微米/公尺? °C 例如约 200, 210, 220, 230, 240, 250, 260, 270, 280, 290, 300, 310, 320, 330, 340 或 350 微米 / 公尺? °C。在此范围内，当所述包含有机发光层及其类似物的转印层是堆叠在所述最外层 上且热转印时，所述转印层可均匀地转印至PDL而没有缺陷或撕裂。
[0025] 所述最外层是放置在所述热转印膜中的最上面部分处，在上面是堆叠所述转印层 诸如有机发光材料及其类似物，及允许所述转印层均匀地转印，特别是，甚至至所述roL的 末端部分。
[0026] 所述最外层可为光热转换层或中间层（inter-layer)。
[0027] 在此之后，将参照图1详细地描述根据本发明的一个具体实例的热转印膜。图1 是根据本发明的一个具体实例的热转印膜的截面图。
[0028] 参照图1，根据本发明的一个具体实例的热转印膜（100)包括基础膜（110);及光 热转换层（120)，在所述基础膜（110)上形成，其中所述光热转换层（120)具有厚度改变 比例约0. 5%或更多，特别是约1. 0%至约3. 0%，例如约1. 0,1. 1，1. 2,1. 3,1. 4,1. 5,1. 6， 1. 7,1. 8,1. 9, 2. 0, 2. 1，2. 2, 2. 3, 2. 4, 2. 5, 2. 6, 2. 7, 2. 8, 2. 9 或 3. 0%。在此范围内，所述转 印层可均匀地转印，及所述转印层应所述均匀地转印至其的PDL不遭遇撕裂、缺陷或其类 似情况。
[0029] 所述光热转换层（120)具有热膨胀系数约100微米/公尺? °C或更大，特别是约 100微米/公尺? °C至约400微米/公尺? °C，更特别是约200微米/公尺? °C至约350微 米 / 公尺? °C，例如约 200, 210, 220, 230, 240, 250, 260, 270, 280, 290, 300, 310, 320, 330, 340 或350微米/公尺? °C。在此范围内，所述转印层可均匀地转印，及所述转印层应所述均匀 地转印至其的PDL不遭遇撕裂、缺陷或其类似情况。
[0030] 所述基础膜（110)对所述光热转换层具有好的粘附力，及可控制在光热转换层与 其它层间的温度转移。所述基础膜（110)可为任何透明的聚合物膜而没有限制。在一个具 体实例中，所述基础膜可包括下列的至少一种：聚酯、聚丙烯酸类、聚环氧树脂、聚乙烯类； 聚烯烃，包括聚丙烯类及其类似物；及聚苯乙烯类，但不限于此。较佳的是，所述基础膜是聚 酯膜，包括聚对酞酸乙二酯（PET)、聚苯二甲酸乙酯膜及其类似物。
[0031] 所述基础膜（110)可具有单层或堆叠二或更多层的多层。所述基础膜（110)可具 有厚度约10微米至约500微米，较佳为约50微米至约250微米。在此范围内，所述基础膜 可使用作为所述热转印膜的基础膜。
[0032] 所述光热转换层（120)可由用于光热转换层的组成物形成，其包括紫外线可硬化 树脂；多官能基单体；及光热转换材料。所述组成物可进一步包括起始剂。
[0033] 所述紫外线可硬化树脂可包括下列的至少一种：（甲基）丙烯酸酯类、酚类、聚乙 烯基缩丁醛树脂、聚醋酸乙烯酯、聚乙烯缩乙醛、聚偏二氯乙烯类、纤维素醚、纤维素酯、硝 基纤维素、聚碳酸酯；聚（甲基）丙烯酸烷酯，包括聚（甲基）丙烯酸甲酯及其类似物；环氧 基（甲基）丙烯酸酯类、环氧树脂、酯树脂、醚树脂、醇酸树脂、螺缩醛树脂、聚丁二烯树脂、 聚硫醇多烯树脂、多官能基化合物诸如多价醇及其类似物的（甲基）丙烯酸酯树脂；及丙烯 酸类，但不限于此。
[0034] 在一个具体实例中，所述紫外线可硬化树脂可包括一共聚物树脂，包括聚（甲基） 丙烯酸烷酯树脂、（甲基）丙烯酸酯树脂（在此之后，指为"聚（甲基）丙烯酸烷酯紫外线 可硬化树脂"）及其类似物。
[0035] 所述聚（甲基）丙烯酸烷酯紫外线可硬化树脂具有玻璃转换温度约110°C或较低， 较佳为约35°C至约100°C或约41°C至约90°C，更佳为约40°C至约90°C。在此范围内，所述 光热转换层可具有改良的厚度改变比例及热膨胀系数，藉此所述包含有机发光层及其类似 物的转印层可均匀地转印至所述TOL。
[0036] 所述聚（甲基）丙烯酸烷酯紫外线可硬化树脂具有重量平均分子量（Mw)约 80, 000克/摩尔或较少，较佳为约15, 000克/摩尔至约70, 000克/摩尔，更佳为约20, 000 克/摩尔至约50, 000克/摩尔，又更佳为约20, 000克/摩尔至约40, 000克/摩尔。在此 范围内，所述光热转换层可具有改良的厚度改变比例及热膨胀系数，藉此所述包含有机发 光层及其类似物的转印层可均匀地转印至所述roL。
[0037] 所述聚（甲基）丙烯酸烷酯紫外线可硬化树脂是以约5%重量％至约60重量％的 量存在于所述光热转换层中，较佳为约10重量％至约50重量％，更佳为约30重量％至约 40 重量 ％，例如约 10,11，12,13,14,15,16,17,18,19,20,21，22,23,24,25,26,27,28,29， 30, 31，32, 33, 34, 35, 36, 37, 38, 39,40,41，42,43,44,45,46,47,48,49 或 50 重量 ％。在此范 围内，所述光热转换层可具有高抗化性