一种提高书法临摹效果的习字帖及其制作方法与流程

本发明涉及一种习字帖及其制作方法，具体来说，涉及一种提高书法临摹效果的习字帖及其制作方法。

背景技术：

现行通用的毛笔书法教学使用的字帖，主要是米字格、田字格、九宫格等模式，或者是原大本或放大本的字帖；米字格、田字格、九宫格等方式只能粗略地标志范字的笔画位置，需要临摹者自己凭肉眼观察体会，无法准确的看准和把握笔画的长短和位置高低。原大本只能让临摹者体会原字的大小，放大本只能让临摹者看清字帖中范字的笔画写法，却让临摹者更加无法准确的看准并把握字帖中范字的笔画长短和位置高低。

硬笔书法（写字）教学也是以“田字格”、“米字格”、“九宫格”等传统字格（帖），以及“回宫格”、“方圆格”“八符格”等近些年为了提高临摹学习效果的字格（帖）。由于都是统一的格式，存在与毛笔书法字帖相同的问题，同样需要临摹者、学习者自己凭肉眼观察体会，无法准确的看准并把握字帖中范字的笔画长短和位置高低。

毛笔和硬笔临摹练习存在的问题，其原因就是没有给临摹者学习者提供一个字帖中范字的笔画长短和位置高低可供参照的坐标和标志，因此无法让临摹者学习者高效快速地做到“形似”。这些问题产生的根本原因就是基于汉字是方块字的理论，把所有的汉字当做都是方块字。实际上汉字是多形体字，即或是印刷体的，其外形也只有少数是方块形的。

因此，传统的方法，以及一些改进的方法，都不能做到让学习者能够准确且清楚地看准和把握字帖中范字的笔画长短和位置高低，不能做到高效的临摹和练习，不能快速有效的提高临摹、练习的效果。

针对相关技术中的问题，目前尚未提出有效的解决方案。

技术实现要素：

针对相关技术中的上述技术问题，本发明提出一种提高书法临摹效果的习字帖及其制作方法。

本发明的技术方案是这样实现的：

一种提高书法临摹效果的习字帖，包括一张或一张以上的习字页，每张所述习字页上设有一个或若干个单元格，所述单元格包括米字格和设置于米字格内的多形格；

其中，所述多形格为由所需临摹汉字外延的突出点和转折点首尾依次连接形成的不规则多边形；所述不规则多边形的各条边用于作为临摹该汉字笔画起笔收笔、笔画长短和位置高低参考的标志以及用作临摹该汉字笔画不能超过的标志线；

所述标志线为该所需临摹汉字外延突出点/转折点与突出点/转折点之间的连线；两相邻所述标志线连接处形成折线点。

进一步的，所述米字格包括外正方形、连接外正方形两组对角的两斜线、穿过两斜线交点与外正方形上下两横边相交的竖中线、以及穿过两斜线交点与外正方形左右两竖边相交的横中线。

进一步的，所述米字格为斜线米字格，所述横中线与水平线呈12度夹角，且横中线右侧端点高于左侧端点。

进一步的，不同所述所需临摹汉字的多形格形状不同。

进一步的，同一所述所需临摹汉字的不同字体对应的多形格形状不同。

进一步的，所述字体至少包括隶书、行书、草书、篆书、楷书。

进一步的，同一所述所需临摹汉字的不同书写形式对应的多形格形状不同。

进一步的，不同书法家书写的同一所述所需临摹汉字对应的多形格形状不同

进一步的，所述书写形式至少包括毛笔书法、硬笔书法。

一种提高书法临摹效果的习字帖的制作方法，包括以下步骤：

步骤1：绘制米字格：在字帖纸上绘制一个或若干个边长相等的外正方形，在各所述外正方形内绘制斜线、竖中线和横中线；

步骤2：绘制多形格：在米字格中心处绘制多形格，通过识别所需临摹汉字笔画突出点和转折点，将所述突出点和转折点首尾依次绘制连接形成多形格。

本发明的有益效果：通过采用多形格的结构，能够处理所有的汉字，不仅适合于毛笔书法，也同样适合于硬笔书法（写字）；同时，也适合于楷书、隶书、草书、行书、篆书等各种字体；适合小学生练习书法，也适合成人临摹学习书法；适合于自学和教学；是书法学习行之有效的一种具有创新性的有效方法；对于提高中小学生练字效率，提高书法学习者的临摹速度和效果，增强学习书法（写字）的信心，具有重要的指导意义和实践意义。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是根据本发明一种提高书法临摹效果的习字帖（硬笔书法）的结构示意图一；

图2是根据本发明一种提高书法临摹效果的习字帖（硬笔书法）的结构示意图二；

图3是根据本发明一种提高书法临摹效果的习字帖中关于汉字“走”的单元格结构示意图；

图4是根据本发明一种提高书法临摹效果的习字帖中关于汉字“青”的单元格结构示意图；

图5是根据本发明一种提高书法临摹效果的习字帖中关于汉字“前”的单元格结构示意图；

图6是根据本发明一种提高书法临摹效果的习字帖中关于汉字“生”的单元格结构示意图；

图7是根据本发明一种提高书法临摹效果的习字帖中关于汉字“成”的单元格结构示意图；

图8是根据本发明一种提高书法临摹效果的习字帖中关于汉字“车”的单元格结构示意图；

图9是根据本发明一种提高书法临摹效果的习字帖中关于汉字“东”的单元格结构示意图；

图10是根据本发明一种提高书法临摹效果的习字帖中关于汉字“毛”的单元格结构示意图；

图11是根据本发明一种提高书法临摹效果的习字帖关于古代著名书法家（碑帖）楷书相同字不同多形格选字字帖结构示意图；

图12是根据本发明一种提高书法临摹效果的习字帖关于古代著名书法家（碑帖）隶书相同字不同多形格选字字帖结构示意图；

图13是根据本发明一种提高书法临摹效果的习字帖关于古代著名书法家（碑帖）行书相同字不同多形格选字字帖结构示意图；

图14是根据本发明一种提高书法临摹效果的习字帖关于古代著名书法家（碑帖）草书相同字不同多形格选字字帖结构示意图；

图15是根据本发明一种提高书法临摹效果的习字帖关于古代著名书法家（碑帖）篆书相同字不同多形格选字字帖结构示意图；

图16是根据本发明一种提高书法临摹效果的习字帖关于古代著名书法家（碑帖）魏碑相同字不同多形格选字字帖结构示意图；

图17是根据本发明一种提高书法临摹效果的习字帖毛笔书法（楷书）的结构示意图；

图18是根据本发明一种提高书法临摹效果的习字帖毛笔书法（隶书）的结构示意图；

图19是根据本发明一种提高书法临摹效果的习字帖毛笔书法（魏碑）的结构示意图；

图20是根据本发明一种提高书法临摹效果的习字帖毛笔书法（行书）的结构示意图；

图21是根据本发明一种提高书法临摹效果的习字帖毛笔书法（草书）的结构示意图；

图22是根据本发明一种提高书法临摹效果的习字帖毛笔书法（篆书）的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

如图1-图22所示，根据本发明实施例的一种提高书法临摹效果的习字帖，包括一张或一张以上的习字页，每张所述习字页上设有一个或若干个单元格1，所述单元格1包括米字格2和设置于米字格2内的多形格3；

其中，所述多形格3为由所需临摹汉字外延的突出点41和转折点42首尾依次连接形成的不规则多边形；所述不规则多边形的各条边用于作为临摹该汉字笔画起笔收笔、笔画长短和位置高低参考的标志以及用作临摹该汉字笔画不能超过的标志线31；

所述标志线31为该所需临摹汉字外延突出点41/转折点42与突出点41/转折点42之间的连线；两相邻所述标志线连接处形成折线点32。

本实施例中，所述米字格2包括外正方形21、连接外正方形21两组对角的两斜线22、穿过两斜线22交点与外正方形21上下两横边相交的竖中线23、以及穿过两斜线22交点与外正方形21左右两竖边相交的横中线24。本实施例中，所述米字格2为斜线米字格，所述横中线24与水平线呈12度夹角，且横中线24右侧端点高于左侧端点。

本实施例中，如图11-图22所示，不同所述所需临摹汉字的多形格形状不同。同一所述所需临摹汉字的不同字体对应的多形格形状不同。所述字体至少包括隶书、行书、草书、篆书、楷书。同一所述所需临摹汉字的不同书写形式对应的多形格形状不同。所述书写形式至少包括毛笔书法、硬笔书法，并且，不同书法家书写的同一所述所需临摹汉字对应的多形格形状不同。

一种提高书法临摹效果的习字帖的制作方法，包括以下步骤：

步骤1：绘制米字格2：在字帖纸上绘制一个或若干个边长相等的外正方形21，在各所述外正方形内绘制斜线22、竖中线23和横中线24；

步骤2：绘制多形格3：在米字格2中心处绘制多形格3，通过识别所需临摹汉字笔画突出点41和转折点42，将所述突出点41和转折点42首尾依次绘制连接形成多形格3。

具体的，在使用过程中定义如下：

斜线米字格：指米字格正中的横线是角度为12°的斜线组成的米字格。

横中线：米字格正中角度为12°的横线。

竖中线：米字格正中垂直的竖线。

斜线：指斜线米字格中对角的两条线。

米字心：指斜线米字格横中线与竖中线以及两条斜线相交的中心点。

横中线上：指起笔或收笔的位置压在横中线上面。方框之类的字则指方框的中心位置在横中线上。

横中线上方：指笔画和笔画起笔或收笔的位置高于横中线。

横中线下方：指笔画和笔画起笔或收笔的位置低于横中线。

竖中线上：指笔画和笔画起笔或收笔的位置压在竖中线上，不偏左或偏右。方框之类的字则指方框的中心位置在竖中线上。如附图中“果”字上面的“田”字，“早”字上面的“日”字。

斜线上：指笔画和笔画起笔或收笔的位置压在斜线上。方框之类的字则指方框的中心位置在横中线上。

斜线上方：指笔画和笔画起笔或收笔的位置高于斜线。

斜线下方：指笔画和笔画起笔或收笔的位置低于斜线。

如图3所示，为走字的单元格结构，走字的写法：土字短横在斜线上方多形格折线点起笔，斜向右上，到多形格折线点收笔；写成左低右高的形状。竖写在竖中线上多形格折线点起笔；长横在横中线上多形格折线点起笔，斜向右上，穿过米字心上方，到多形格折线点收笔；

下面的竖写在竖中线上，到多形格折线点收笔；短横与竖相连起笔，写在横中线上，到多形格折线点收笔；撇在横中线上多形格折线点轻按起笔，顺多形格标志线向下斜写，到多形格折线点收笔，不要写得太斜或者太平；捺在斜线上起笔，约35°向右下方斜写，过竖中线多形格折线点，顺多形格标志线平写，到多形格折线点收笔。

如图4所示，为青字的单元格结构，青字的写法：青字第一横在斜线上方多形格折线点起笔收笔，斜向右上；第二横在多形格折线点起笔收笔，与第一横平行；竖在竖中线上多形格折线点起笔，向下直写到米字心上方收笔；长横在横中线上方，多形格折线点起笔，斜向右上，穿过米字心上方，到横中线上方多形格折线点收笔；

月字的竖在多形格折线点起笔，向下直写到多形格折线点收笔，横折与竖的起笔相连，斜向右上到多形格折线点转折向下，到多形格折线点停笔轻按提笔成钩；中间的两横写在二分之一以上位置，与横折之间的间距一致。

如图5所示，为前字的单元格结构，前字的写法：上面的点和短撇按50°角度向下斜写，在竖中线左右对称的位置，多形格折线点起笔，点略弯，短撇用力稍快；横在横中线上方多形格折线点起笔，斜向右上呈左低右高状，到斜线下方多形格折线点收笔；月在横中线上方起笔，直写到多形格折线点收笔；横折钩斜写，在斜线上方轻按转折向下直写，到多形格折线点停笔轻按提笔成钩；中间两横注意位置，第一短横写在横中线上，第二短横写在斜线上，斜向右上；两短横与横折之间间距一致；刂的短竖位置略高，在横中线上起笔，竖钩稍微右斜直写，到多形格折线点轻按提笔成钩。

如图6所示，为生字的单元格结构，生字的写法：生字的短撇在斜线上方多形格标志线起笔，45°向下斜写，不超过多形格标志线；第一横略长，紧靠撇起笔，斜向右上到斜线上方多形格折线点收笔；第二横较短，横中线上多形格折线点起笔，斜向右上米字心上方多形格折线点收笔；竖在多形格折线点起笔，写在竖中线上；最后一横按照一字的写法写，再多形格折线点起笔收笔。三横之间间距一致。

如图7所示，为成字的单元格结构，成字的写法：横在斜线下方多形格折线点起笔，约20°左右斜向右上，到斜线上方收笔；撇约80°左右向下斜写，多形格折线点收笔；横折钩在横中线上起笔，斜向右上，紧靠竖中线转折向下斜写，斜线下方停笔轻按提笔成钩；斜钩在竖中线上多形格折线点起笔，约80°左右向下斜写，略弯压住斜线，到多形格折线点停笔轻向上提笔成钩；短撇在横中线上方约2毫米位置，向下斜写略弯，稍快穿过斜钩收笔，点在斜线上方多形格折线点斜写轻按收笔。

如图8所示，为车字的单元格结构，车字的写法：短横在斜线上多形格折线点起笔，斜向右上，到多形格折线点收笔；撇折在竖中线上多形格折线点起笔，向下斜写，在横中线上方多形格折线点转折斜向右上，到斜线上多形格折线点收笔；长横在横中线下方多形格折线点起笔，斜向右上紧靠横中线，多形格折线点收笔；竖写在竖中线上，写直写正，在多形格折线点收笔。

如图9所示，为东字的单元格结构，东字的写法：东字的横在斜线下方，多形格折线点起笔，斜向右上，到斜线上方多形格折线点收笔；撇折在竖中线上多形格折线点起笔，到横中线下多形格折线点转折向右上，斜写到横中线上多形格折线点收笔；竖钩要写在竖中线上，写正写直，到多形格折线点停笔轻按提笔成钩；两点写在“亅”左右对称的位置，左边的点写成短撇“ノ”，角度50°，到多形格标志线收笔；右边的点要写在斜线上边，斜写略弯轻按收笔，不超过多形格折线点。

如图10所示，为毛字的单元格结构，毛字的写法：撇在竖中线右边多形格折线点起笔，顺多形格标志线向左斜写，在多形格折线点收笔；第一横在多形格折线点起笔，斜向右上，到多形格折线点收笔；长横在横中线下方多形格折线点起笔斜向右上，穿过米字心，到多形格折线点收笔；两横均呈左低右高，左长右短形状；

竖弯钩在竖中线上起笔直写向下，到多形格标志线右弯平写到多形格折线点停笔轻按向上提笔成钩。

由此可见，借助于本发明的上述技术方案，通过采用多形格的结构，能够处理所有的汉字，不仅适合于毛笔书法，也同样适合于硬笔书法写字；同时，也适合于楷书、隶书、行书、草书、篆书等各种字体；适合小学生练习书法，也适合成人临摹学习书法；适合于自学和教学；是书法学习行之有效的一种具有创新性的有效方法；对于提高中小学生练字效率，提高书法学习者的临摹速度和效果，增强学习书法写字的信心，具有重要的指导意义和实践意义。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。