支撑装置和显示设备的制作方法

本实用新型涉及磁悬浮领域，具体涉及一种支撑装置和显示设备。

背景技术：

目前，电子画框等显示装置在放置时，通常将显示装置支撑在支撑架上，但是这种放置方式过于传统，用户不能从多角度观看显示装置及其显示画面，为此，一些厂家开始采用磁悬浮的方式对显示装置进行悬浮支撑。但是，现有技术中只能将显示装置悬浮设置在水平面上，不能随意地使显示装置倾斜悬浮，从而影响了用户的观看体验。

技术实现要素：

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种支撑装置和显示设备，以实现显示装置的倾斜悬浮。

为了实现上述目的，本实用新型提供一种支撑装置，包括相对设置的支撑台和底座，所述支撑装置还包括多个超导磁悬浮结构，每个超导磁悬浮结构包括相对设置的超导体和磁体；每个超导磁悬浮结构中，所述超导体和所述磁体中的一者设置在所述支撑台上，另一者设置在所述底座上；任意两个超导体在所述支撑台厚度方向上无交叠；

每个超导磁悬浮结构的超导体与磁体之间能够产生大小可调的排斥力，且每个超导磁悬浮结构的超导体与磁体之间的排斥力能够独立控制。

优选地，所述磁体为电磁体，用于产生大小可调的磁场。

优选地，所述支撑装置还包括用于调节每个超导体温度的温度控制器；每个超导体的温度能够独立调节。

优选地，每个超导磁悬浮结构中的超导体设置在所述支撑台上，磁体设置在所述底座上。

优选地，所述支撑台包括安装层和电磁屏蔽层，所述电磁屏蔽层位于所述安装层背离所述底座的一侧，所述超导体设置在所述安装层内部。

优选地，所述安装层采用隔热材料制成。

优选地，所述安装层内形成有真空隔热腔，所述真空隔热腔将安装层划分为多个安装部，每个安装部内设置有一个所述超导体。

优选地，所述超导磁悬浮结构的数量为两个。

优选地，所述超导体的材料包括钇钡铜氧。

相应地，本实用新型还提供一种显示设备，包括显示装置和上述支撑装置，所述显示装置设置在所述支撑台背离所述底座的表面上。

附图说明

附图是用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本实用新型，但并不构成对本实用新型的限制。在附图中：

图1是本实用新型提供的支撑装置对显示装置进行水平支撑时的示意图；

图2是本实用新型提供的支撑装置对显示装置进行倾斜支撑时的示意图；

图3是本实用新型通过的支撑装置中磁体的分布示意图；

图4是控制显示装置倾斜悬浮的流程图。

其中，附图标记为：

11、支撑台；111、安装层；111a、真空隔热腔；111b、安装部；

112、电磁屏蔽层；12、底座；13、超导体；14、磁体；15、温度控制器；20、显示装置。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限制本实用新型。

本实用新型提供一种支撑装置，该支撑装置尤其适用于对显示装置进行支撑，图1是本实用新型提供的支撑装置对显示装置进行水平支撑时的示意图；图2是本实用新型提供的支撑装置对显示装置进行倾斜支撑时的示意图；图3是本实用新型通过的支撑装置中磁体的分布示意图；图4是控制显示装置倾斜悬浮的流程图。如图1和图2所示，所述支撑装置包括支撑台11和底座12以及多个超导磁悬浮结构。其中，支撑台11和底座12相对设置，每个超导磁悬浮结构包括相对设置的超导体13和磁体14；每个超导磁悬浮结构中，超导体13和磁体14中的一者设置在支撑台11上，另一者设置在底座12上。任意两个超导体13在支撑台11的厚度方向上无交叠，即，任意两个超导体13在支撑台11上的正投影无交叠。每个超导磁悬浮结构中的超导体13与磁体14之间能够产生大小可调的排斥力；并且，每个超导磁悬浮结构的超导体13与磁体14之间的排斥力能够独立控制，即，每个超导磁悬浮结构中超导体13与磁体14之间的排斥力能够调节，且不同超导磁悬浮结构的排斥力的调节互不干扰。

根据迈斯内效应(即，超导体13处于超导态时具有极强的抗磁性，如果磁体14产生的磁场要通过超导体13内部，那么超导体13必然会产生一个与原磁场相反的磁场，从而在超导体13与磁体14之间产生排斥力)，当超导体13与磁体14之间的排斥力达到一定程度时，会使得支撑台11悬浮在空中。而由于本实用新型中，每个超导磁悬浮结构中的超导体13与磁体14之间的排斥力可调，且不同超导磁悬浮结构中，超导体13与磁体14之间的排斥力的调节互不影响，因此，当各个超导体13与相应的磁体14之间的排斥力被调节至相同大小时，可以使支撑台11处于水平状态；而不同超导体13与各自对应的磁体14之间的排斥力不同时，可以使得支撑台11处于倾斜状态；另外，在实际生产中，超导体13内不可避免地会存在一定的杂质，这就使得一部分磁力线会穿过超导体13，从而使超导体13产生很强的“钉扎力”，进而使支撑台11与底座12之间保证相对稳定。因此，本实用新型的支撑装置在支撑显示装置时，能够使得显示装置稳定地处于倾斜状态，且可以任意调节倾斜角。

如图1和图2所示，具体可以将每个超导磁悬浮结构中的超导体13设置在支撑台11上，将磁体14设置在底座12上。其中，超导体13的材料包括钇钡铜氧，以获得较高的超导临界温度。超导体13的纯度可以在80％～95％之间。由于超导体中杂质的存在，磁力线可以穿过杂质，产生强大的钉扎力，因此，在实际应用中，不但可以将支撑台11设置在底座12上方，还可以将底座12固定在支撑台11上方(例如，固定在天花板上)，借助强大的钉扎力，实现支撑台11的倒挂，进而可以通过将显示装置固定在支撑台11上，来实现显示装置的倒挂。

为了便于调节支撑台11的倾斜角度，可以将超导磁悬浮结构的数量设置为两个，如图3所示，磁体14的数量为两个，相应地，超导体13的数量也为两个。

在本实用新型中，可以通过调节磁体14产生的磁场大小和/或超导体13的温度，来调节超导体13与磁体14之间的排斥力。具体地，磁体14为电磁体，以产生大小可调的磁场。电磁体包括磁芯和线圈，通过调节线圈中的电流大小，即可调节磁体14产生的磁场大小，从而调节超导体13与磁体14之间的排斥力，进而调节支撑台11的悬浮状态。

所述支撑装置还可以包括用于调节每个超导体13温度的温度控制器(具体可以为无线温度控制器)，通过控制超导体13的温度高低，来控制超导体13进入超导态；另外，还可以通过调节每个超导体13的温度高低，来调节超导体13的抗磁性的强弱，进而调节超导体13与磁体14之间的排斥力。另外，每个超导体13的温度能够独立调节，即，不同超导体13的温度调节过程互不干扰，以保证不同超导磁悬浮结构中的超导体13与磁体14之间的排斥力互不干扰。

为了防止磁体14产生的磁场影响显示装置的显示图像，优选地，支撑台11包括安装层111和设置在安装层111上的电磁屏蔽层112，电磁屏蔽层112位于安装层111背离底座12的一侧，超导体13和温度控制器15均设置在安装层111内，显示装置可以支撑在电磁屏蔽层112背离安装层111的表面，电磁屏蔽层112用于屏蔽磁体14产生的磁场，以减少显示画面受电磁场影响而产生的不良。

为了减少热损失，优选地，安装层111采用隔热材料制成。另外，如图1和图2所示，安装层111内还形成有真空隔热腔111a，真空隔热腔111a将安装层111划分为多个安装部，每个安装部111b内设置有一个超导体13。真空隔热腔111a将超导体13间隔开，有利于减少超导体13之间的热传导，从而有利于各超导磁悬浮结构的超导体13与磁体14之间排斥力的互不干扰。

作为本实用新型的另一方面，提供一种显示设备，所述显示设备包括显示装置20和上述支撑装置，如图1和图2所示，显示装置20设置在支撑台11背离底座12的表面上。其中，显示装置20可以为电子画框、OLED面板、导航仪、平板电脑等结构。

由于支撑装置的支撑台11能够稳定地处于水平状态或倾斜状态，因此，显示装置20可以稳定的进行水平悬浮或任意角度的倾斜悬浮，从而满足用户的不同需求，改善用户体验。

对于所述支撑装置包括两个超导磁悬浮结构的情况，为了控制显示装置20水平悬浮，可以通过温度控制器15控制两个超导体13冷却到超导临界温度以下，以使超导体13进入超导态，且使两个超导体13的温度相同；并为两个电磁体的线圈提供相同的电流，以产生相同的磁场，从而使得两个超导体13的高度相同，以使支撑台11和显示装置20水平悬浮(如图1所示)。控制显示装置20倾斜悬浮的流程图如图4所示，为两个磁体14的线圈通入电流，并利用温度控制器15控制两个超导体13冷却到超导临界温度以下，以使超导体13进入超导态，从而使支撑台11悬浮起来；并且，通过温度控制器15控制两个超导体13的温度产生差异或控制两个电磁体的线圈中的电流产生差异，以使支撑台11左右两侧的高度不同而产生倾斜。具体地，为了使显示装置20向右倾斜(如图2所示)，可控制两个超导体13温度相同，并向左侧磁体14的线圈通入比右侧磁体14的线圈更大的电流，以使左侧磁体14产生更大的磁场，从而使得支撑台11左侧高度大于右侧高度，进而实现支撑台11和显示装置向右倾斜悬浮；或者，也可以保持两个磁体14的线圈中的电流相同，而利用温度控制器15控制右侧超导体13温度大于左侧超导体13的温度，从而使得支撑台11左侧高度大于右侧高度；当然，也可以同时控制两个磁体14的线圈中的电流和两个超导体13的温度，来实现支撑台11和显示装置20的倾斜悬浮。实现显示装置向左倾斜的原理与向右倾斜的原理相同，此处不再赘述。

可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本实用新型的原理而采用的示例性实施方式，然而本实用新型并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本实用新型的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本实用新型的保护范围。