一种教学型溅镀仪的制作方法

本实用新型涉及溅镀技术领域，具体为一种教学型溅镀仪。

背景技术：

在真空环境下，通入适当的惰性气体作为媒介，靠惰性气体加速撞击靶材，使靶材表面原子被撞击出来，并在表面形成镀膜，溅镀，通常指的是磁控溅镀，属于高速低温溅镀法，该工艺要求真空度在1×10-3Torr左右，即1.3×10-3Pa的真空状态充入惰性气体氩气，并在塑胶基材和金属靶材之间加上高压直流电，由于辉光放电产生的电子激发惰性气体，产生等离子体，等离子体将金属靶材的原子轰出，沉积在塑胶基材上以几十电子伏特或更高动能的荷电粒子轰击材料表面，使其溅射出进入气相，可用来刻蚀和镀膜，入射一个离子所溅射出的原子个数称为溅射产额产额越高溅射速度越快，以Cu，Au，Ag等最高，Ti，Mo，Ta，W等最低，一般在0.1-10原子/离子，离子可以直流辉光放电产生，在两极间加高压产生放电，正离子会轰击负电之靶材而溅射也靶材，而镀至被镀物上，传统的溅镀装置整体体积较大，质量较重，不便于移动和安装，且传统的溅镀装置不能够调节工作台的高度，从而不便于所有人使用，传统的溅镀装置真空室一直属于封闭状态，无法对内部情况进行观测，不便于教学使用。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种教学型溅镀仪，设置有桌台、固定杆、伸缩杆和固紧螺栓，从而可通过调节固紧螺栓来调节桌台的高度，从而调节真空室的高度，从而更加便于更多人的使用。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种教学型溅镀仪，包括装置本体、桌台、固定杆、伸缩杆、固紧螺栓、固定块、氩气输送器、真空室、活动板、工件放置槽、连接螺栓、输送管、真空室固定台、底座、连接轴、固定板、转轴、金属靶材、连接板、支撑块和放电器，所述装置本体包括桌台，所述桌台底部四角处均设置有固定杆，所述固定杆顶部均设置有伸缩杆，所述伸缩杆顶部与所述桌台底部四角处固定连接，所述桌台顶部设置有氩气输送器，所述氩气输送器顶部中间固定安装有底座，所述氩气输送器顶部固定安装有真空室固定台，所述真空室固定台顶部固定安装有真空室，所述真空室内部一侧设置有金属靶材，所述真空室一侧固定安装有连接板，所述金属靶材一侧设置有若干个放电器，所述底座顶部设置有活动板。

优选的，所述固定杆顶端一侧设置有固紧螺栓，固定杆底部均固定安装有固定块，固定杆与伸缩杆之间通过固紧螺栓固定连接。

优选的，所述真空室固定台位于底座的一侧，真空室与氩气输送器之间通过输送管连接。

优选的，所述底座顶部两端均固定安装有固定板，两个固定板之间活动连接有转轴，活动板一侧固定安装有连接轴，连接轴与转轴活动连接，真空室底部一端固定安装有支撑块。

优选的，所述连接板顶部和活动板一端均设置有安装孔，活动板底部一端设置有连接螺栓。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：

本实用新型通过设置有桌台、固定杆、伸缩杆和固紧螺栓，从而可通过调节固紧螺栓来调节桌台的高度，从而调节真空室的高度，从而更加便于更多人的使用，提高了装置的适用性，本装置设置有底座、真空室固定台、活动板、工件放置槽、固定安、转轴、连接轴、安装孔和连接螺栓，从而可使活动板绕着转轴活动，然后再通过安装孔和连接螺栓将连接板和活动板紧密连接在一起，从而形成密闭状态，从而更加便于教学使用。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

图2为本实用新型图1中A放大示意图；

图3为本实用新型真空室内部结构示意图。

具体实施方式

下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述。在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相正对地重要性。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

请参阅图1-3，本实用新型提供一种技术方案：一种教学型溅镀仪，包括装置本体1、桌台2、固定杆3、伸缩杆4、固紧螺栓5、固定块6、氩气输送器7、真空室8、活动板9、工件放置槽10、连接螺栓11、输送管12、真空室固定台13、底座14、连接轴15、固定板16、转轴17、金属靶材18、连接板19、支撑块20和放电器21，所述装置本体1包括桌台2，所述桌台2底部四角处均设置有固定杆3，所述固定杆3顶部均设置有伸缩杆4，所述伸缩杆4顶部与所述桌台2底部四角处固定连接，所述桌台2顶部设置有氩气输送器7，所述氩气输送器7顶部中间固定安装有底座14，所述氩气输送器7顶部固定安装有真空室固定台13，所述真空室固定台13顶部固定安装有真空室8，所述真空室8内部一侧设置有金属靶材18，所述真空室8一侧固定安装有连接板19，所述金属靶材18一侧设置有若干个放电器21，所述底座14顶部设置有活动板9。

所述固定杆3顶端一侧设置有固紧螺栓5，固定杆3底部均固定安装有固定块6，固定杆3与伸缩杆4之间通过固紧螺栓5固定连接，便于伸缩杆4的伸缩。

所述真空室固定台13位于底座14的一侧，真空室8与氩气输送器7之间通过输送管12连接，便于氩气的输送。

所述底座14顶部两端均固定安装有固定板16，两个固定板16之间活动连接有转轴17，活动板9一侧固定安装有连接轴15，连接轴15与转轴17活动连接，真空室8底部一端固定安装有支撑块20，便于活动板9的移动。

所述连接板19顶部和活动板9一端均设置有安装孔，活动板9底部一端设置有连接螺栓11，便于连接板19和活动板9的连接。

工作原理：一种教学型溅镀仪，首先将工件放置到工件放置槽10上，然后移动活动板9转动，使连接板19和活动板9接触，然后调节固紧螺栓5使连接板19和活动板9固定连接，然后启动氩气输送器7，将氩气在真空环境下通过输送管12输送到真空室8内部，然后启动放电器21，从而在工件和金属靶材18之间加上高压直流电，由于辉光放电产生的电子激发惰性气体，产生等离子体，等离子体将金属靶材18的原子轰出，沉积在工件上以几十电子伏特或更高动能的荷电粒子轰击材料表面，使其溅射出进入气相，可用来刻蚀和镀膜，离子可以直流辉光放电产生，在两极间加高压产生放电，正离子会轰击负电之靶材而溅射靶材，从而镀至被镀物上，从而完成溅镀功能。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。